JPH04268557A - ペリクル - Google Patents
ペリクルInfo
- Publication number
- JPH04268557A JPH04268557A JP3030301A JP3030191A JPH04268557A JP H04268557 A JPH04268557 A JP H04268557A JP 3030301 A JP3030301 A JP 3030301A JP 3030191 A JP3030191 A JP 3030191A JP H04268557 A JPH04268557 A JP H04268557A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photomask
- flange
- pellicle
- frame
- outer peripheral
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 14
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 5
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 6
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 4
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 3
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、フォトマスクにパー
ティクルが付着するのを防止するためのペリクルに関す
るものである。
ティクルが付着するのを防止するためのペリクルに関す
るものである。
【０００２】
【従来の技術】従来のペリクルを図面に基づいて説明す
る。図３はフォトマスクに従来のペリクルを装着した断
面図である。図３において、１はペリクル膜、２は第１
の（フォトマスク５のパターン側）フレーム、３は第２
のフレーム、４は粘着剤、５はフォトマスクである。
る。図３はフォトマスクに従来のペリクルを装着した断
面図である。図３において、１はペリクル膜、２は第１
の（フォトマスク５のパターン側）フレーム、３は第２
のフレーム、４は粘着剤、５はフォトマスクである。
【０００３】従来のペリクルは、ペリクル膜１を張った
第１のフレーム２とペリクル膜１を張った第２のフレー
ムとからなり、第１のフレーム２と第２のフレームとの
間にフォトマスク５を挟んで押圧することにより、粘着
剤４でペリクルとフォトマスク５とを接着する。このよ
うにして内部を密封することにより、フォトマスク５に
パーティクルが付着するのを防止してある。
第１のフレーム２とペリクル膜１を張った第２のフレー
ムとからなり、第１のフレーム２と第２のフレームとの
間にフォトマスク５を挟んで押圧することにより、粘着
剤４でペリクルとフォトマスク５とを接着する。このよ
うにして内部を密封することにより、フォトマスク５に
パーティクルが付着するのを防止してある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の構成では、フォトマスク５のマスクパターンの修正や
フォトマスク５にペリクルを装着した後に発見された内
部のダストの除去を行うためにペリクルを剥離しなけれ
ばならず手間がかかった。また、ペリクルの粘着剤４が
フォトマスク５に残り、マスクパターンを汚染してしま
う恐れがあった。さらに、ペリクルの粘着剤４の部分に
損傷を受けるため、ペリクルの再利用をすることができ
なかった。
の構成では、フォトマスク５のマスクパターンの修正や
フォトマスク５にペリクルを装着した後に発見された内
部のダストの除去を行うためにペリクルを剥離しなけれ
ばならず手間がかかった。また、ペリクルの粘着剤４が
フォトマスク５に残り、マスクパターンを汚染してしま
う恐れがあった。さらに、ペリクルの粘着剤４の部分に
損傷を受けるため、ペリクルの再利用をすることができ
なかった。
【０００５】この発明の目的は、フォトマスクへの着脱
が容易にできるペリクルを提供することである。
が容易にできるペリクルを提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明のペリクルは、
各々の一端にペリクル膜を張り各々の他端をフォトマス
クの両面に当接する第１および第２のフレームからなり
、第１のフレームの他端にフォトマスクの外周縁および
外周端に沿う第１のフランジを設け、第２のフレームの
他端にフォトマスクの外周縁に沿いかつ第１のフランジ
に外嵌する第２のフランジを設けている。
各々の一端にペリクル膜を張り各々の他端をフォトマス
クの両面に当接する第１および第２のフレームからなり
、第１のフレームの他端にフォトマスクの外周縁および
外周端に沿う第１のフランジを設け、第２のフレームの
他端にフォトマスクの外周縁に沿いかつ第１のフランジ
に外嵌する第２のフランジを設けている。
【０００７】
【作用】この発明の構成によれば、第１のフレームの他
端にフォトマスクの外周縁および外周端に沿う第１のフ
ランジを設け、第２のフレームの他端にフォトマスクの
外周縁に沿いかつ第１のフランジに外嵌する第２のフラ
ンジを設けて、フォトマスクを第１のフランジと第２の
フランジとで保持するようにしたことにより、フォトマ
スクへの着脱を容易に行うことができる。
端にフォトマスクの外周縁および外周端に沿う第１のフ
ランジを設け、第２のフレームの他端にフォトマスクの
外周縁に沿いかつ第１のフランジに外嵌する第２のフラ
ンジを設けて、フォトマスクを第１のフランジと第２の
フランジとで保持するようにしたことにより、フォトマ
スクへの着脱を容易に行うことができる。
【０００８】
【実施例】〔第１の実施例〕この発明の第１の実施例の
ペリクルを図面に基づいて説明する。図１はフォトマス
クにこの発明の第１の実施例のペリクルを装着した断面
図である。図１において、１はペリクル膜、２は第１の
フレーム、２ａは第１のフランジ、３は第２のフレーム
、３ａは第２のフランジ、５はフォトマスクである。
ペリクルを図面に基づいて説明する。図１はフォトマス
クにこの発明の第１の実施例のペリクルを装着した断面
図である。図１において、１はペリクル膜、２は第１の
フレーム、２ａは第１のフランジ、３は第２のフレーム
、３ａは第２のフランジ、５はフォトマスクである。
【０００９】このペリクルは、ペリクル膜１を張った第
１のフレーム２の他端にフォトマスク５の外周縁および
外周端に沿うＬ形断面の第１のフランジ２ａを設け、ペ
リクル膜１を張った第２のフレーム３の他端にフォトマ
スク５の外周縁に沿いかつ第１のフランジに外嵌するＬ
形断面の第２のフランジ３ａを設けている。このペリク
ルの装着は、第１のフランジ２ａを設けた第１のフレー
ム２上にフォトマスク５をセットし、その上から第２の
フランジ３ａを設けた第２のフレーム３を図１のように
かぶせるだけで、フォトマスク５を固定でき内部を密封
することができる。そして、フォトマスク５にパーティ
クルが付着するのを防止できる。
１のフレーム２の他端にフォトマスク５の外周縁および
外周端に沿うＬ形断面の第１のフランジ２ａを設け、ペ
リクル膜１を張った第２のフレーム３の他端にフォトマ
スク５の外周縁に沿いかつ第１のフランジに外嵌するＬ
形断面の第２のフランジ３ａを設けている。このペリク
ルの装着は、第１のフランジ２ａを設けた第１のフレー
ム２上にフォトマスク５をセットし、その上から第２の
フランジ３ａを設けた第２のフレーム３を図１のように
かぶせるだけで、フォトマスク５を固定でき内部を密封
することができる。そして、フォトマスク５にパーティ
クルが付着するのを防止できる。
【００１０】以上のようにこの実施例によれば、粘着剤
を用いることなく、ペリクルとフォトマスク５とを固定
できるため、ペリクルを容易に着脱することができると
ともに、ペリクルを再利用することもできる。さらに、
粘着剤によるフォトマスク５のマスクパターンへの汚染
の恐れもない。 〔第２の実施例〕この発明の第２の実施例のペリクルを
図面に基づいて説明する。
を用いることなく、ペリクルとフォトマスク５とを固定
できるため、ペリクルを容易に着脱することができると
ともに、ペリクルを再利用することもできる。さらに、
粘着剤によるフォトマスク５のマスクパターンへの汚染
の恐れもない。 〔第２の実施例〕この発明の第２の実施例のペリクルを
図面に基づいて説明する。
【００１１】図２はフォトマスクにこの発明の第２の実
施例のペリクルを装着した断面図である。図２において
、１はペリクル膜、２は第１のフレーム、２ａは第１の
フランジ、３は第２のフレーム、３ａは第２のフランジ
、５はフォトマスクであり、以上は第１の実施例と同様
である。第１の実施例と異なる点は、第１のフランジ２
ａと第２のフランジ３ａとをはさむ基材６を設けたこと
である。
施例のペリクルを装着した断面図である。図２において
、１はペリクル膜、２は第１のフレーム、２ａは第１の
フランジ、３は第２のフレーム、３ａは第２のフランジ
、５はフォトマスクであり、以上は第１の実施例と同様
である。第１の実施例と異なる点は、第１のフランジ２
ａと第２のフランジ３ａとをはさむ基材６を設けたこと
である。
【００１２】このペリクルの装着は、第１のフランジ２
ａを設けた第１のフレーム２上にフォトマスク５をセッ
トし、その上から第２のフランジ３ａを設けた第２のフ
レーム３を図２のようにかぶせる。そしてさらに、基材
６で第１のフランジ２ａと第２のフランジ３ａとをはさ
むようにする。以上のようにこの実施例によれば、第１
の実施例に加え、第１のフランジ２ａと第２のフランジ
３ａとをはさむ基材６を設けたことにより、ペリクルの
密封性がさらによくなり、パーティクルの付着防止によ
り効果がある。
ａを設けた第１のフレーム２上にフォトマスク５をセッ
トし、その上から第２のフランジ３ａを設けた第２のフ
レーム３を図２のようにかぶせる。そしてさらに、基材
６で第１のフランジ２ａと第２のフランジ３ａとをはさ
むようにする。以上のようにこの実施例によれば、第１
の実施例に加え、第１のフランジ２ａと第２のフランジ
３ａとをはさむ基材６を設けたことにより、ペリクルの
密封性がさらによくなり、パーティクルの付着防止によ
り効果がある。
【００１３】なお、この実施例では、ペリクルの密封性
をよくするため、第１のフランジ２ａと第２のフランジ
３ａとをはさむ基材６を設けたが、基材６の代わりにテ
ープ等を用いてもよいことは言うまでもない。また、第
１および第２の実施例では、第１および第２のフランジ
２ａ，３ａをＬ形断面形状にしたが、フォトマスク５を
間に保持できる形状であればよい。
をよくするため、第１のフランジ２ａと第２のフランジ
３ａとをはさむ基材６を設けたが、基材６の代わりにテ
ープ等を用いてもよいことは言うまでもない。また、第
１および第２の実施例では、第１および第２のフランジ
２ａ，３ａをＬ形断面形状にしたが、フォトマスク５を
間に保持できる形状であればよい。
【００１４】
【発明の効果】この発明のペリクルは、第１のフレーム
の他端にフォトマスクの外周縁および外周端に沿う第１
のフランジを設け、第２のフレームの他端にフォトマス
クの外周縁に沿いかつ第１のフランジに外嵌する第２の
フランジを設けて、フォトマスクを第１のフランジと第
２のフランジとで保持するようにしたことにより、フォ
トマスクへの着脱を容易に行うことができるとともに、
再利用することもできる。さらに、フォトマスクのマス
クパターンへの汚染もない。
の他端にフォトマスクの外周縁および外周端に沿う第１
のフランジを設け、第２のフレームの他端にフォトマス
クの外周縁に沿いかつ第１のフランジに外嵌する第２の
フランジを設けて、フォトマスクを第１のフランジと第
２のフランジとで保持するようにしたことにより、フォ
トマスクへの着脱を容易に行うことができるとともに、
再利用することもできる。さらに、フォトマスクのマス
クパターンへの汚染もない。
【図１】フォトマスクにこの発明の第１の実施例のペリ
クルを装着した断面図である。
クルを装着した断面図である。
【図２】フォトマスクにこの発明の第２の実施例のペリ
クルを装着した断面図である。
クルを装着した断面図である。
【図３】フォトマスクに従来のペリクルを装着した断面
図である。
図である。
１ ペリクル膜
２ 第１のフレーム
２ａ 第１のフランジ
３ 第２のフレーム
３ａ 第２のフランジ
５ フォトマスク
Claims (1)
- 【請求項１】 各々の一端にペリクル膜を張り各々の
他端をフォトマスクの両面に当接する第１および第２の
フレームからなり、前記第１のフレームの他端に前記フ
ォトマスクの外周縁および外周端に沿う第１のフランジ
を設け、前記第２のフレームの他端に前記フォトマスク
の外周縁に沿いかつ前記第１のフランジに外嵌する第２
のフランジを設けたペリクル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3030301A JPH04268557A (ja) | 1991-02-25 | 1991-02-25 | ペリクル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3030301A JPH04268557A (ja) | 1991-02-25 | 1991-02-25 | ペリクル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04268557A true JPH04268557A (ja) | 1992-09-24 |
Family
ID=12299929
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3030301A Pending JPH04268557A (ja) | 1991-02-25 | 1991-02-25 | ペリクル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04268557A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007206184A (ja) * | 2006-01-31 | 2007-08-16 | Dainippon Printing Co Ltd | フォトマスクおよびその製造方法、並びにパターン転写方法 |
| US8009285B2 (en) * | 2007-12-21 | 2011-08-30 | Nec Corporation | Photomask mounting/housing device and resist inspection method and resist inspection apparatus using same |
-
1991
- 1991-02-25 JP JP3030301A patent/JPH04268557A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007206184A (ja) * | 2006-01-31 | 2007-08-16 | Dainippon Printing Co Ltd | フォトマスクおよびその製造方法、並びにパターン転写方法 |
| US8009285B2 (en) * | 2007-12-21 | 2011-08-30 | Nec Corporation | Photomask mounting/housing device and resist inspection method and resist inspection apparatus using same |
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