JPH04268557A - ペリクル - Google Patents
ペリクルInfo
- Publication number
- JPH04268557A JPH04268557A JP3030301A JP3030191A JPH04268557A JP H04268557 A JPH04268557 A JP H04268557A JP 3030301 A JP3030301 A JP 3030301A JP 3030191 A JP3030191 A JP 3030191A JP H04268557 A JPH04268557 A JP H04268557A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photomask
- flange
- pellicle
- frame
- outer peripheral
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 14
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 5
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 6
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 4
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 3
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、フォトマスクにパー
ティクルが付着するのを防止するためのペリクルに関す
るものである。
ティクルが付着するのを防止するためのペリクルに関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】従来のペリクルを図面に基づいて説明す
る。図3はフォトマスクに従来のペリクルを装着した断
面図である。図3において、1はペリクル膜、2は第1
の(フォトマスク5のパターン側)フレーム、3は第2
のフレーム、4は粘着剤、5はフォトマスクである。
る。図3はフォトマスクに従来のペリクルを装着した断
面図である。図3において、1はペリクル膜、2は第1
の(フォトマスク5のパターン側)フレーム、3は第2
のフレーム、4は粘着剤、5はフォトマスクである。
【0003】従来のペリクルは、ペリクル膜1を張った
第1のフレーム2とペリクル膜1を張った第2のフレー
ムとからなり、第1のフレーム2と第2のフレームとの
間にフォトマスク5を挟んで押圧することにより、粘着
剤4でペリクルとフォトマスク5とを接着する。このよ
うにして内部を密封することにより、フォトマスク5に
パーティクルが付着するのを防止してある。
第1のフレーム2とペリクル膜1を張った第2のフレー
ムとからなり、第1のフレーム2と第2のフレームとの
間にフォトマスク5を挟んで押圧することにより、粘着
剤4でペリクルとフォトマスク5とを接着する。このよ
うにして内部を密封することにより、フォトマスク5に
パーティクルが付着するのを防止してある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の構成では、フォトマスク5のマスクパターンの修正や
フォトマスク5にペリクルを装着した後に発見された内
部のダストの除去を行うためにペリクルを剥離しなけれ
ばならず手間がかかった。また、ペリクルの粘着剤4が
フォトマスク5に残り、マスクパターンを汚染してしま
う恐れがあった。さらに、ペリクルの粘着剤4の部分に
損傷を受けるため、ペリクルの再利用をすることができ
なかった。
の構成では、フォトマスク5のマスクパターンの修正や
フォトマスク5にペリクルを装着した後に発見された内
部のダストの除去を行うためにペリクルを剥離しなけれ
ばならず手間がかかった。また、ペリクルの粘着剤4が
フォトマスク5に残り、マスクパターンを汚染してしま
う恐れがあった。さらに、ペリクルの粘着剤4の部分に
損傷を受けるため、ペリクルの再利用をすることができ
なかった。
【0005】この発明の目的は、フォトマスクへの着脱
が容易にできるペリクルを提供することである。
が容易にできるペリクルを提供することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】この発明のペリクルは、
各々の一端にペリクル膜を張り各々の他端をフォトマス
クの両面に当接する第1および第2のフレームからなり
、第1のフレームの他端にフォトマスクの外周縁および
外周端に沿う第1のフランジを設け、第2のフレームの
他端にフォトマスクの外周縁に沿いかつ第1のフランジ
に外嵌する第2のフランジを設けている。
各々の一端にペリクル膜を張り各々の他端をフォトマス
クの両面に当接する第1および第2のフレームからなり
、第1のフレームの他端にフォトマスクの外周縁および
外周端に沿う第1のフランジを設け、第2のフレームの
他端にフォトマスクの外周縁に沿いかつ第1のフランジ
に外嵌する第2のフランジを設けている。
【0007】
【作用】この発明の構成によれば、第1のフレームの他
端にフォトマスクの外周縁および外周端に沿う第1のフ
ランジを設け、第2のフレームの他端にフォトマスクの
外周縁に沿いかつ第1のフランジに外嵌する第2のフラ
ンジを設けて、フォトマスクを第1のフランジと第2の
フランジとで保持するようにしたことにより、フォトマ
スクへの着脱を容易に行うことができる。
端にフォトマスクの外周縁および外周端に沿う第1のフ
ランジを設け、第2のフレームの他端にフォトマスクの
外周縁に沿いかつ第1のフランジに外嵌する第2のフラ
ンジを設けて、フォトマスクを第1のフランジと第2の
フランジとで保持するようにしたことにより、フォトマ
スクへの着脱を容易に行うことができる。
【0008】
【実施例】〔第1の実施例〕この発明の第1の実施例の
ペリクルを図面に基づいて説明する。図1はフォトマス
クにこの発明の第1の実施例のペリクルを装着した断面
図である。図1において、1はペリクル膜、2は第1の
フレーム、2aは第1のフランジ、3は第2のフレーム
、3aは第2のフランジ、5はフォトマスクである。
ペリクルを図面に基づいて説明する。図1はフォトマス
クにこの発明の第1の実施例のペリクルを装着した断面
図である。図1において、1はペリクル膜、2は第1の
フレーム、2aは第1のフランジ、3は第2のフレーム
、3aは第2のフランジ、5はフォトマスクである。
【0009】このペリクルは、ペリクル膜1を張った第
1のフレーム2の他端にフォトマスク5の外周縁および
外周端に沿うL形断面の第1のフランジ2aを設け、ペ
リクル膜1を張った第2のフレーム3の他端にフォトマ
スク5の外周縁に沿いかつ第1のフランジに外嵌するL
形断面の第2のフランジ3aを設けている。このペリク
ルの装着は、第1のフランジ2aを設けた第1のフレー
ム2上にフォトマスク5をセットし、その上から第2の
フランジ3aを設けた第2のフレーム3を図1のように
かぶせるだけで、フォトマスク5を固定でき内部を密封
することができる。そして、フォトマスク5にパーティ
クルが付着するのを防止できる。
1のフレーム2の他端にフォトマスク5の外周縁および
外周端に沿うL形断面の第1のフランジ2aを設け、ペ
リクル膜1を張った第2のフレーム3の他端にフォトマ
スク5の外周縁に沿いかつ第1のフランジに外嵌するL
形断面の第2のフランジ3aを設けている。このペリク
ルの装着は、第1のフランジ2aを設けた第1のフレー
ム2上にフォトマスク5をセットし、その上から第2の
フランジ3aを設けた第2のフレーム3を図1のように
かぶせるだけで、フォトマスク5を固定でき内部を密封
することができる。そして、フォトマスク5にパーティ
クルが付着するのを防止できる。
【0010】以上のようにこの実施例によれば、粘着剤
を用いることなく、ペリクルとフォトマスク5とを固定
できるため、ペリクルを容易に着脱することができると
ともに、ペリクルを再利用することもできる。さらに、
粘着剤によるフォトマスク5のマスクパターンへの汚染
の恐れもない。 〔第2の実施例〕この発明の第2の実施例のペリクルを
図面に基づいて説明する。
を用いることなく、ペリクルとフォトマスク5とを固定
できるため、ペリクルを容易に着脱することができると
ともに、ペリクルを再利用することもできる。さらに、
粘着剤によるフォトマスク5のマスクパターンへの汚染
の恐れもない。 〔第2の実施例〕この発明の第2の実施例のペリクルを
図面に基づいて説明する。
【0011】図2はフォトマスクにこの発明の第2の実
施例のペリクルを装着した断面図である。図2において
、1はペリクル膜、2は第1のフレーム、2aは第1の
フランジ、3は第2のフレーム、3aは第2のフランジ
、5はフォトマスクであり、以上は第1の実施例と同様
である。第1の実施例と異なる点は、第1のフランジ2
aと第2のフランジ3aとをはさむ基材6を設けたこと
である。
施例のペリクルを装着した断面図である。図2において
、1はペリクル膜、2は第1のフレーム、2aは第1の
フランジ、3は第2のフレーム、3aは第2のフランジ
、5はフォトマスクであり、以上は第1の実施例と同様
である。第1の実施例と異なる点は、第1のフランジ2
aと第2のフランジ3aとをはさむ基材6を設けたこと
である。
【0012】このペリクルの装着は、第1のフランジ2
aを設けた第1のフレーム2上にフォトマスク5をセッ
トし、その上から第2のフランジ3aを設けた第2のフ
レーム3を図2のようにかぶせる。そしてさらに、基材
6で第1のフランジ2aと第2のフランジ3aとをはさ
むようにする。以上のようにこの実施例によれば、第1
の実施例に加え、第1のフランジ2aと第2のフランジ
3aとをはさむ基材6を設けたことにより、ペリクルの
密封性がさらによくなり、パーティクルの付着防止によ
り効果がある。
aを設けた第1のフレーム2上にフォトマスク5をセッ
トし、その上から第2のフランジ3aを設けた第2のフ
レーム3を図2のようにかぶせる。そしてさらに、基材
6で第1のフランジ2aと第2のフランジ3aとをはさ
むようにする。以上のようにこの実施例によれば、第1
の実施例に加え、第1のフランジ2aと第2のフランジ
3aとをはさむ基材6を設けたことにより、ペリクルの
密封性がさらによくなり、パーティクルの付着防止によ
り効果がある。
【0013】なお、この実施例では、ペリクルの密封性
をよくするため、第1のフランジ2aと第2のフランジ
3aとをはさむ基材6を設けたが、基材6の代わりにテ
ープ等を用いてもよいことは言うまでもない。また、第
1および第2の実施例では、第1および第2のフランジ
2a,3aをL形断面形状にしたが、フォトマスク5を
間に保持できる形状であればよい。
をよくするため、第1のフランジ2aと第2のフランジ
3aとをはさむ基材6を設けたが、基材6の代わりにテ
ープ等を用いてもよいことは言うまでもない。また、第
1および第2の実施例では、第1および第2のフランジ
2a,3aをL形断面形状にしたが、フォトマスク5を
間に保持できる形状であればよい。
【0014】
【発明の効果】この発明のペリクルは、第1のフレーム
の他端にフォトマスクの外周縁および外周端に沿う第1
のフランジを設け、第2のフレームの他端にフォトマス
クの外周縁に沿いかつ第1のフランジに外嵌する第2の
フランジを設けて、フォトマスクを第1のフランジと第
2のフランジとで保持するようにしたことにより、フォ
トマスクへの着脱を容易に行うことができるとともに、
再利用することもできる。さらに、フォトマスクのマス
クパターンへの汚染もない。
の他端にフォトマスクの外周縁および外周端に沿う第1
のフランジを設け、第2のフレームの他端にフォトマス
クの外周縁に沿いかつ第1のフランジに外嵌する第2の
フランジを設けて、フォトマスクを第1のフランジと第
2のフランジとで保持するようにしたことにより、フォ
トマスクへの着脱を容易に行うことができるとともに、
再利用することもできる。さらに、フォトマスクのマス
クパターンへの汚染もない。
【図1】フォトマスクにこの発明の第1の実施例のペリ
クルを装着した断面図である。
クルを装着した断面図である。
【図2】フォトマスクにこの発明の第2の実施例のペリ
クルを装着した断面図である。
クルを装着した断面図である。
【図3】フォトマスクに従来のペリクルを装着した断面
図である。
図である。
1 ペリクル膜
2 第1のフレーム
2a 第1のフランジ
3 第2のフレーム
3a 第2のフランジ
5 フォトマスク
Claims (1)
- 【請求項1】 各々の一端にペリクル膜を張り各々の
他端をフォトマスクの両面に当接する第1および第2の
フレームからなり、前記第1のフレームの他端に前記フ
ォトマスクの外周縁および外周端に沿う第1のフランジ
を設け、前記第2のフレームの他端に前記フォトマスク
の外周縁に沿いかつ前記第1のフランジに外嵌する第2
のフランジを設けたペリクル。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3030301A JPH04268557A (ja) | 1991-02-25 | 1991-02-25 | ペリクル |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3030301A JPH04268557A (ja) | 1991-02-25 | 1991-02-25 | ペリクル |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04268557A true JPH04268557A (ja) | 1992-09-24 |
Family
ID=12299929
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3030301A Pending JPH04268557A (ja) | 1991-02-25 | 1991-02-25 | ペリクル |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04268557A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007206184A (ja) * | 2006-01-31 | 2007-08-16 | Dainippon Printing Co Ltd | フォトマスクおよびその製造方法、並びにパターン転写方法 |
US8009285B2 (en) * | 2007-12-21 | 2011-08-30 | Nec Corporation | Photomask mounting/housing device and resist inspection method and resist inspection apparatus using same |
-
1991
- 1991-02-25 JP JP3030301A patent/JPH04268557A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007206184A (ja) * | 2006-01-31 | 2007-08-16 | Dainippon Printing Co Ltd | フォトマスクおよびその製造方法、並びにパターン転写方法 |
US8009285B2 (en) * | 2007-12-21 | 2011-08-30 | Nec Corporation | Photomask mounting/housing device and resist inspection method and resist inspection apparatus using same |
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