JPS62164048A - ホトマスクの保護具 - Google Patents

ホトマスクの保護具

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Publication number
JPS62164048A
JPS62164048A JP61005356A JP535686A JPS62164048A JP S62164048 A JPS62164048 A JP S62164048A JP 61005356 A JP61005356 A JP 61005356A JP 535686 A JP535686 A JP 535686A JP S62164048 A JPS62164048 A JP S62164048A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photomask
tool
protective
frame body
film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP61005356A
Other languages
English (en)
Inventor
Masahiro Hirosue
広末 雅弘
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP61005356A priority Critical patent/JPS62164048A/ja
Publication of JPS62164048A publication Critical patent/JPS62164048A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/62Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
    • G03F1/64Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof characterised by the frames, e.g. structure or material, including bonding means therefor

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、ホトマスクの両面側に付着され、異物の付
着を防止するホトマスクの保護具に関する0 〔従来の技術〕 実績回路など半導体装置の製造工程では、ホトー八に転
写するが、ホトマスク面に異物が付着するとバター/欠
陥となる0このため、ペリクル膜を張った保護具をホト
マスクの両面側に付着し、保護している。
この種の従来のホトマスク保護具は、第2図に断面図で
示すようになっていたolはホトマスクで、−面てパタ
ーン1aが形成されている。2は保護具であり、枠体3
に保護膜をなすペリクル膜にトロセルローズからなる)
4が接情されてなり、1対がホトマスク1の両面側に筬
1剤により付着されている。
このように、ホトマスク1は1対のホトマスク保晟具2
によυ両面が外部から保護され、異物の付着が防止され
ている。
C発明が解決しようとする問題点〕 ところがホトマスク1に付着しプことき、ペリクル膜4
の接着不良や枠体3の付着不良などにより、内部へ異物
侵入があると、保護A2をホトマスク1から外さねばな
らない。上記のような従来の保tM目〒け イv堝且2
を々(寸のに一説雅Tル(例えばてこ)の先端を枠体3
とホトマスク1との間に入れてこねなくてはならず、工
具によシホトマスク1面を損傷するという問題点があっ
た。
この発明は、このような問題点を解決するためになされ
たもので、ホトマスクの面を損傷することなく保護具が
容易に取外されるようにした、ホトマスクの保護具を得
ることを目的としている。
〔問題点を解決するための手段〕
この発明にかかる保護具は、枠体の外側周に周方向の保
合溝を設けたものである。
〔作用〕
この発明においては、ホトマスクに付着された保護具を
取外すには、脱離工具の先端を枠体の外側周の係合溝に
はめ、ホトマスクの外方を支点としてこねることにより
、保護具が容易に外される。
〔実施例〕
第1図はこの発明によるホトマスクの保護具の一実施例
を示す断面図であp、l、la、4は上記従来装置と同
一のものである。12はホトマスクの保護具で、両端が
開口した枠体13の一端面にペリクル膜4が接着されて
おり、この枠体13の外側周には周方向の係合溝13a
が環状に設けられてちる。
このように構成された1対の保護具12が、ホトマスク
1の両面側に接着剤によシ付着されている0上記−実施
例の装置では、内部に異物侵入などで保護具12を取外
すには、脱離工具の先端を枠体13の係合#13aには
め、ホトマスク1の外方を支点としてこねることによシ
容易に外され、ホトマスク1の面を傷付けることもなく
、また、ペリクル膜4を破損することもない0 なお、枠体13に設ける保合溝13aの深さは、工具の
先端が入シ引掛かる程度であれば、深くしなくてもよい
また、枠体13の係合溝13aは環状でなくても、周方
向に複数箇所に設けてもよい。
さら知、上記実施例では、枠体13に張付ける保護膜と
してペリクル膜4を用いたが、透明体でホトマスクへの
露光の妨げにならず外方から保護するものであれば、他
の材質の膜であってもよい0〔発明の効果〕 以上のように、この発明によれば、保護膜を張付けた枠
体の外側周に周方の係合溝を設けたので、ホトマスクか
らの取外しが、ホトマスク面の損傷や保護膜の破損をす
ることなく容易に行え、作業性が向上される。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明によるホトマスクの保護具の一実施例
を示す断面図、第2図は従来の保護具を示す断面図であ
る。 1・・・ホトマスク、4・・・ペリクル膜、12・・・
保護具、13・・・枠体、13a・・・保合溝 なお、図中同一符号は同−又は相当部分を示す。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)両端が開口した枠体の一方の開口側に保護膜が張
    付けられてあり、ホトマスクの両面に1対が上記各枠体
    の他方の開口側でそれぞれ接合されるようにした保護具
    において、上記枠体の外側周に取外し用の周方向の係合
    溝を設けたことを特徴とするホトマスクの保護具。
  2. (2)保護膜はペリクル膜からなる特許請求の範囲第1
    項記載のホトマスクの保護具。
JP61005356A 1986-01-14 1986-01-14 ホトマスクの保護具 Pending JPS62164048A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011007934A (ja) * 2009-06-24 2011-01-13 Shin-Etsu Chemical Co Ltd ペリクルフレーム及びリソグラフィ用ペリクル
JP2011095593A (ja) * 2009-10-30 2011-05-12 Shin-Etsu Chemical Co Ltd ペリクルフレーム及びペリクル

Cited By (3)

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TWI452421B (zh) * 2009-10-30 2014-09-11 Shinetsu Chemical Co 防塵薄膜組件框架及防塵薄膜組件

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