JPS6325657B2 - - Google Patents
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- JPS6325657B2 JPS6325657B2 JP1038485A JP1038485A JPS6325657B2 JP S6325657 B2 JPS6325657 B2 JP S6325657B2 JP 1038485 A JP1038485 A JP 1038485A JP 1038485 A JP1038485 A JP 1038485A JP S6325657 B2 JPS6325657 B2 JP S6325657B2
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- pellicle
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- peeling
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Links
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 17
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 4
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 6
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 6
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 101100269850 Caenorhabditis elegans mask-1 gene Proteins 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
- G03F1/64—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof characterised by the frames, e.g. structure or material, including bonding means therefor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
この発明は、IC,LSI等の半導体製造に用いら
れるフオトマスクを塵埃等から保護するためのマ
スク保護用ペリクルを、フオトマスクから剥離す
るマスク保護用ペリクルの剥離方法に関するもの
である。
れるフオトマスクを塵埃等から保護するためのマ
スク保護用ペリクルを、フオトマスクから剥離す
るマスク保護用ペリクルの剥離方法に関するもの
である。
(従来の技術)
従来、このような分野の技術としては、例えば
第2図のようなものがあつた。
第2図のようなものがあつた。
第2図は従来のマスク保護用ペリクルの一構成
例を示す斜視図である。第2図において、1は輪
形のペリクルフレームで、このペリクルフレーム
1は例えば肉厚2mm、幅3〜8mmのAl材によつ
て作られている。ペリクルフレーム1の形状とし
ては、四角形等の他の形状のものもある。そして
ペリクルフレーム1の上面には粘着剤を用いて透
光性のペリクル膜2が張設されている。ペリクル
膜2は、例えば厚さ約0.2〜1.0μmのニトロセルロ
ースで作られている。
例を示す斜視図である。第2図において、1は輪
形のペリクルフレームで、このペリクルフレーム
1は例えば肉厚2mm、幅3〜8mmのAl材によつ
て作られている。ペリクルフレーム1の形状とし
ては、四角形等の他の形状のものもある。そして
ペリクルフレーム1の上面には粘着剤を用いて透
光性のペリクル膜2が張設されている。ペリクル
膜2は、例えば厚さ約0.2〜1.0μmのニトロセルロ
ースで作られている。
このように構成されるペリクルは、そのペリク
ルフレーム1の下面に粘着剤を塗布し、マスク1
0上に貼着して使用する。ここで、マスク10
は、ガラス等で作られた透明基板10aとそれに
形成されたパターン部10bとより構成され、そ
の大きさは通常、10.16cm(4インチ)、12.7cm
(5インチ)、15.24cm(6インチ)である。
ルフレーム1の下面に粘着剤を塗布し、マスク1
0上に貼着して使用する。ここで、マスク10
は、ガラス等で作られた透明基板10aとそれに
形成されたパターン部10bとより構成され、そ
の大きさは通常、10.16cm(4インチ)、12.7cm
(5インチ)、15.24cm(6インチ)である。
ペリクル付きマスク10を用いてホトエツチン
グを行うには、半導体基板上に塗布したホトレジ
スト面に、該ペリクル付きマスク10を介して紫
外線を照射し、次いで有機溶剤等で現像レジスト
パターンを得た後、半導体基板上をエツチングす
る。このホトエツチングの際に、ペリクル膜2に
よつてマスク10への塵埃等の付着が防止できる
ため、マスク10の洗浄を省略できるか、あるい
はその洗浄回数を減少できる。
グを行うには、半導体基板上に塗布したホトレジ
スト面に、該ペリクル付きマスク10を介して紫
外線を照射し、次いで有機溶剤等で現像レジスト
パターンを得た後、半導体基板上をエツチングす
る。このホトエツチングの際に、ペリクル膜2に
よつてマスク10への塵埃等の付着が防止できる
ため、マスク10の洗浄を省略できるか、あるい
はその洗浄回数を減少できる。
ところで、ペリクル膜2が使用中に何らかの要
因によつて膨張したり傷がついて破れた場合、あ
るいは使用上問題となるブロー(ガスの吹付け)
等では除去されない大きな欠陥(例えば、ゴミ等
の付着による欠陥)がペリクル膜2に生じた場合
は、新しいペリクルと交換する必要がある。その
ため、マスク10から旧いペリクルを剥離し、該
マスク10を再度洗浄して新しいペリクルを装着
し、再度使用される。
因によつて膨張したり傷がついて破れた場合、あ
るいは使用上問題となるブロー(ガスの吹付け)
等では除去されない大きな欠陥(例えば、ゴミ等
の付着による欠陥)がペリクル膜2に生じた場合
は、新しいペリクルと交換する必要がある。その
ため、マスク10から旧いペリクルを剥離し、該
マスク10を再度洗浄して新しいペリクルを装着
し、再度使用される。
そして、従来行なわれているペリクルの剥離方
法を第3図1,2を用いて説明する。なお、第3
図1,2はペリクル付きマスクの断面図である。
まず、第3図1に示すように、ペリクル膜2をペ
リクルフレーム1より除去し、ペンチ等の工具2
0によつてペリクルフレーム1をはさむ。次い
で、第3図2の矢印方向aに工具20を引き上げ
てペリクルフレーム1をマスク10より剥離す
る。
法を第3図1,2を用いて説明する。なお、第3
図1,2はペリクル付きマスクの断面図である。
まず、第3図1に示すように、ペリクル膜2をペ
リクルフレーム1より除去し、ペンチ等の工具2
0によつてペリクルフレーム1をはさむ。次い
で、第3図2の矢印方向aに工具20を引き上げ
てペリクルフレーム1をマスク10より剥離す
る。
(発明が解決しようとする問題点)
しかしながら、上記のようなペリクルの剥離方
法では、ペリクル模2を破る際に、ペリクル模2
やその破片がマスク10上に付着したり、あるい
はペンチ等の工具20を使用するために、ペリク
ルフレーム1より金属粉が発生し、これがマスク
10上に付着して、再使用のためのマスク10の
洗浄が困難になるという問題点があつた。また、
ペリクルフレーム1の剥離の際に、工具20の先
端部がマスクパターン部10bに接触し、パター
ン部10b及び透明基板10aに修正不能な欠陥
を生じさせるという問題点もあつた。
法では、ペリクル模2を破る際に、ペリクル模2
やその破片がマスク10上に付着したり、あるい
はペンチ等の工具20を使用するために、ペリク
ルフレーム1より金属粉が発生し、これがマスク
10上に付着して、再使用のためのマスク10の
洗浄が困難になるという問題点があつた。また、
ペリクルフレーム1の剥離の際に、工具20の先
端部がマスクパターン部10bに接触し、パター
ン部10b及び透明基板10aに修正不能な欠陥
を生じさせるという問題点もあつた。
この発明は、従来技術が持つていた問題点とし
て、ペリクル膜2や金属粉のマスク10への付着
と、工具20によるマスク10の欠陥発生の点に
ついて解決したマスク保護用ペリクルの剥離方法
を提供するものである。
て、ペリクル膜2や金属粉のマスク10への付着
と、工具20によるマスク10の欠陥発生の点に
ついて解決したマスク保護用ペリクルの剥離方法
を提供するものである。
(問題点を解決するための手段)
この発明は、前記問題点を解決するために、マ
スク保護用ペリクルの剥離方法において、環状の
ペリクルフレームの側面に、対峙する少なくとも
一対の開口部を形成すると共に、その開口部に塵
埃等の侵入防止用フイルタを設ける。そしてこの
ようなペリクルが粘着されたマスクを固定台に固
定し、前記開口部への挿脱可能な係合部を有する
ペリクル剥離用治具を用い、この治具の係合部を
前記開口部に挿入してペリクルフレームをマスク
から引離すようにしたものである。
スク保護用ペリクルの剥離方法において、環状の
ペリクルフレームの側面に、対峙する少なくとも
一対の開口部を形成すると共に、その開口部に塵
埃等の侵入防止用フイルタを設ける。そしてこの
ようなペリクルが粘着されたマスクを固定台に固
定し、前記開口部への挿脱可能な係合部を有する
ペリクル剥離用治具を用い、この治具の係合部を
前記開口部に挿入してペリクルフレームをマスク
から引離すようにしたものである。
(作用)
この発明によれば、以上のようにペリクルの剥
離方法を構成したので、ペリクルフレームの開口
部は治具の係合部により引掛けられ、該治具によ
り引張力が付勢されたペリクルフレームが、固定
台に固定されたマスクから引離される。このため
ペリクルフレームやマスクに傷をつけることな
く、ペリクル膜が付着したペリクルフレームをマ
スクから剥離できる。したがつて前記問題点を除
去できるのである。
離方法を構成したので、ペリクルフレームの開口
部は治具の係合部により引掛けられ、該治具によ
り引張力が付勢されたペリクルフレームが、固定
台に固定されたマスクから引離される。このため
ペリクルフレームやマスクに傷をつけることな
く、ペリクル膜が付着したペリクルフレームをマ
スクから剥離できる。したがつて前記問題点を除
去できるのである。
(実施例)
第1図1,2,3はこの発明の実施例を示すペ
リクルの剥離工程図である。なお、第1図におい
て前記第2図および第3図中の要素と同一の要素
には同一の符号が付されている。
リクルの剥離工程図である。なお、第1図におい
て前記第2図および第3図中の要素と同一の要素
には同一の符号が付されている。
そしてこのペリクルの剥離方法が第3図の方法
と異なる点は、環状のペリクルフレーム1の側面
に、対峙する少なくとも一対の開口部30,30
を形成すると共に、この開口部30,30に塵埃
等の侵入防止のためのフイルタ31,31を設
け、該開口部30,30にペリクル剥離用治具4
0を引掛けて、固定台50に固定したマスク10
からペリクルフレーム1を剥離するようにしたこ
とである。
と異なる点は、環状のペリクルフレーム1の側面
に、対峙する少なくとも一対の開口部30,30
を形成すると共に、この開口部30,30に塵埃
等の侵入防止のためのフイルタ31,31を設
け、該開口部30,30にペリクル剥離用治具4
0を引掛けて、固定台50に固定したマスク10
からペリクルフレーム1を剥離するようにしたこ
とである。
ここで、開口部30,30をふさぐフイルタ3
1は、例えば肉厚1μm以下のメツシユ状のもの
で、かつそのメツシユ孔が塵埃等の侵入を阻止し
うる大きさのものが用いられる。このような通気
性のフイルタを用いると、ペリクルフレーム1を
マスク10上へ装着する際、あるいは使用時にお
ける温度上昇のために、ペリクルフレーム1内の
空気圧が上昇してペリクル膜2の膨張による剥離
や破裂が防止できる利点がある。
1は、例えば肉厚1μm以下のメツシユ状のもの
で、かつそのメツシユ孔が塵埃等の侵入を阻止し
うる大きさのものが用いられる。このような通気
性のフイルタを用いると、ペリクルフレーム1を
マスク10上へ装着する際、あるいは使用時にお
ける温度上昇のために、ペリクルフレーム1内の
空気圧が上昇してペリクル膜2の膨張による剥離
や破裂が防止できる利点がある。
また、ペリクル剥離用の治具40は、コ字状の
把持部材41と、この把持部材41の両端に摺動
自在に取付けられ一端にほぼL形の係合部42
a,43aをそれぞれ有する摺動部材42,43
と、この摺動部材42,43の他端を摺動可能に
収納する収納管44とにより構成される。摺動部
材42,43の係合部42a,43aは、ペリク
ルフレーム1の開口部30,30にそれぞれ挿入
されるものである。
把持部材41と、この把持部材41の両端に摺動
自在に取付けられ一端にほぼL形の係合部42
a,43aをそれぞれ有する摺動部材42,43
と、この摺動部材42,43の他端を摺動可能に
収納する収納管44とにより構成される。摺動部
材42,43の係合部42a,43aは、ペリク
ルフレーム1の開口部30,30にそれぞれ挿入
されるものである。
このような治具40を用いたペリクルの剥離方
法を第1図を参照しつつ説明する。
法を第1図を参照しつつ説明する。
まず、第1図1,2に示すように、ペリクルが
貼着されたマスク10を固定台50に固定した
後、治具40の係合部42a,43aをペリクル
フレーム1の開口部30,30に挿入する。係合
部42a,43aの挿入方法は、摺動部材42,
43を第1図2の矢印方向b,cへ開き、係合部
42a,43aを開口部30,30に当てがつて
該摺動部材42,43を矢印方向b,cとは逆方
向に閉じる。すると、係合部42a,43aがフ
イルタ31,31を破り開口部30,30内に挿
入される。次いで、第1図3に示すように、治具
40の把持部材41を手で持つて図の矢印方向d
に引き上げると、ペリクルがマスク10より剥離
される。
貼着されたマスク10を固定台50に固定した
後、治具40の係合部42a,43aをペリクル
フレーム1の開口部30,30に挿入する。係合
部42a,43aの挿入方法は、摺動部材42,
43を第1図2の矢印方向b,cへ開き、係合部
42a,43aを開口部30,30に当てがつて
該摺動部材42,43を矢印方向b,cとは逆方
向に閉じる。すると、係合部42a,43aがフ
イルタ31,31を破り開口部30,30内に挿
入される。次いで、第1図3に示すように、治具
40の把持部材41を手で持つて図の矢印方向d
に引き上げると、ペリクルがマスク10より剥離
される。
而して本実施例によれば、予めペリクルフレー
ム1の側面に開口部30,30を設けておき、こ
の開口部30,30へ治具40の係合部42a,
43aを挿入し、該治具40に引張力を加えてペ
リクルをマスク10から剥離するようにしたの
で、治具40によりペリクル膜2が破れたり、ペ
リクルフレーム1が傷つけられたりしない。その
ためマスク10へのペリクル膜2や金属粉の付着
が防止できる。また治具40の係合部42a,4
3aは、開口部30,30へほぼ水平方向に挿入
された後、引上げられるため、マスク10のパタ
ーン部10b及び透明基盤10aを傷つけること
がなく、簡単にペリクルの剥離を行える。
ム1の側面に開口部30,30を設けておき、こ
の開口部30,30へ治具40の係合部42a,
43aを挿入し、該治具40に引張力を加えてペ
リクルをマスク10から剥離するようにしたの
で、治具40によりペリクル膜2が破れたり、ペ
リクルフレーム1が傷つけられたりしない。その
ためマスク10へのペリクル膜2や金属粉の付着
が防止できる。また治具40の係合部42a,4
3aは、開口部30,30へほぼ水平方向に挿入
された後、引上げられるため、マスク10のパタ
ーン部10b及び透明基盤10aを傷つけること
がなく、簡単にペリクルの剥離を行える。
第4図1,2は、この発明のペリクル剥離方法
に用いられるペリクル剥離用治具の変形例を示す
ものである。
に用いられるペリクル剥離用治具の変形例を示す
ものである。
第4図1の治具60は、コ字状の把持部材61
と、この把持部材61の両端に固着された収納管
62と、収納管62に螺着された固定用ねじ6
3,64と、一端にほぼL形の係合部65a,6
6aを有し一端が収納管62内に摺動自在に挿入
された摺動部材65,66とより構成される。そ
してこの治具60の使用方法は、ねじ63,64
を弛め、摺動部材65,66を開、閉してその係
合部65a,66aを開口部30,30へ挿入し
た後、ねじ63,64を締めて摺動部材65,6
6を固定し、把持部材61を上方に持上げれば、
ペリクルの剥離が行える。
と、この把持部材61の両端に固着された収納管
62と、収納管62に螺着された固定用ねじ6
3,64と、一端にほぼL形の係合部65a,6
6aを有し一端が収納管62内に摺動自在に挿入
された摺動部材65,66とより構成される。そ
してこの治具60の使用方法は、ねじ63,64
を弛め、摺動部材65,66を開、閉してその係
合部65a,66aを開口部30,30へ挿入し
た後、ねじ63,64を締めて摺動部材65,6
6を固定し、把持部材61を上方に持上げれば、
ペリクルの剥離が行える。
第4図2の治具70は、一端にほぼL形の係合
部71a,72aを他端に把持部材71b,72
bをそれぞれ有する部材71,72を、部材73
によつて開閉自在に軸着したものである。そして
係合部71a,72aを開、閉させてペリクルフ
レーム1の開口部30,30に挿入した後、把持
部材71b,72bを持ち上げることにより、ペ
リクルの剥離を行う。
部71a,72aを他端に把持部材71b,72
bをそれぞれ有する部材71,72を、部材73
によつて開閉自在に軸着したものである。そして
係合部71a,72aを開、閉させてペリクルフ
レーム1の開口部30,30に挿入した後、把持
部材71b,72bを持ち上げることにより、ペ
リクルの剥離を行う。
なお、以上のような治具60,70の他、例え
ば、第4図のものを変形して、把持部材61及び
収納管62を手で握ることにより摺動部材65,
66を開かせ、収納管62から手を離すことによ
り摺動部材65,66を閉じるような構造の治具
等、種々の構造の治具がこの発明のペリクル剥離
方法に使用できる。
ば、第4図のものを変形して、把持部材61及び
収納管62を手で握ることにより摺動部材65,
66を開かせ、収納管62から手を離すことによ
り摺動部材65,66を閉じるような構造の治具
等、種々の構造の治具がこの発明のペリクル剥離
方法に使用できる。
また、ペリクルフレーム1に設けられるフイル
タ付き開口部30の数は、2個以上であつてもよ
く、さらにその形状は円形、四角形等、種々の形
状が採用でき、これに応じた種々の変形構造のペ
リクル剥離用治具が使用できる。ここで、ペリク
ル剥離治具の係合部は、ペリクルフレーム1の開
口部30に係合できる形であればよく、従つてL
形のものに限定されない。
タ付き開口部30の数は、2個以上であつてもよ
く、さらにその形状は円形、四角形等、種々の形
状が採用でき、これに応じた種々の変形構造のペ
リクル剥離用治具が使用できる。ここで、ペリク
ル剥離治具の係合部は、ペリクルフレーム1の開
口部30に係合できる形であればよく、従つてL
形のものに限定されない。
(発明の効果)
以上詳細に説明したように、この発明によれ
ば、ペリクルフレームの側面に、予め、対峙する
少なくとも一対の開口部を形成すると共に、この
開口部をフイルタで閉じておく。そしてこのよう
なペリクルを貼着したマスクを固定台に固定し、
前記開口部へペリクル剥離用治具の係合部を挿入
し、該治具に引張力を加えてペリクルを剥離する
ようにしたので、ペリクルフレームやマスクに傷
をつけることなく、ペリクル膜が付着したペリク
ルフレームを、マスクから簡易的確に剥離でき
る。
ば、ペリクルフレームの側面に、予め、対峙する
少なくとも一対の開口部を形成すると共に、この
開口部をフイルタで閉じておく。そしてこのよう
なペリクルを貼着したマスクを固定台に固定し、
前記開口部へペリクル剥離用治具の係合部を挿入
し、該治具に引張力を加えてペリクルを剥離する
ようにしたので、ペリクルフレームやマスクに傷
をつけることなく、ペリクル膜が付着したペリク
ルフレームを、マスクから簡易的確に剥離でき
る。
第1図1,2,3はこの発明の実施例を示すペ
リクルの剥離工程図、第2図は従来のペリクル付
きマスクの斜視図、第3図1,2は従来のペリク
ル剥離工程図、第4図1,2はこの発明に使用さ
れるペリクル剥離用治具の他の構造図である。 1……ペリクルフレーム、2……ペリクル膜、
10……マスク、30……開口部、31……フイ
ルタ、40,60,70……ペリクル剥離用治
具、42a,43a,65a,66a,71a,
72a……係合部、50……固定台。
リクルの剥離工程図、第2図は従来のペリクル付
きマスクの斜視図、第3図1,2は従来のペリク
ル剥離工程図、第4図1,2はこの発明に使用さ
れるペリクル剥離用治具の他の構造図である。 1……ペリクルフレーム、2……ペリクル膜、
10……マスク、30……開口部、31……フイ
ルタ、40,60,70……ペリクル剥離用治
具、42a,43a,65a,66a,71a,
72a……係合部、50……固定台。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 環状をなしその下面が半導体用マスクに装着
されるペリクルフレームと、前記マスクを被覆す
るために前記ペリクルフレームの上面に張設され
るペリクル膜とを具えたマスク保護用ペリクル
を、前記マスクにより剥離するマスク保護用ペリ
クルの剥離方法において、 前記ペリクルフレームの外側に、対峙する少な
くとも一対の、フイルタを有する開口部を形成す
ると共に、該ペリクルフレームを固定台に固定
し、前記開口部への挿脱可能な係合部を有するペ
リクル剥離用治具を用い、該係合部を前記開口部
に挿入して前記ペリクルフレームを前記マスクか
ら引離すようにしたマスク保護用ペリクルの剥離
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60010384A JPS61169848A (ja) | 1985-01-23 | 1985-01-23 | マスク保護用ペリクルの剥離方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60010384A JPS61169848A (ja) | 1985-01-23 | 1985-01-23 | マスク保護用ペリクルの剥離方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61169848A JPS61169848A (ja) | 1986-07-31 |
| JPS6325657B2 true JPS6325657B2 (ja) | 1988-05-26 |
Family
ID=11748626
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60010384A Granted JPS61169848A (ja) | 1985-01-23 | 1985-01-23 | マスク保護用ペリクルの剥離方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61169848A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0229044U (ja) * | 1988-08-16 | 1990-02-23 | ||
| JP3006694B2 (ja) * | 1991-03-29 | 2000-02-07 | ホーヤ株式会社 | フォトマスク保護体の剥離方法 |
| JP2002131892A (ja) * | 2000-10-27 | 2002-05-09 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | ペリクルの剥離方法及びその装置 |
| JP4637053B2 (ja) * | 2006-05-15 | 2011-02-23 | 信越化学工業株式会社 | ペリクルおよびペリクル剥離装置 |
-
1985
- 1985-01-23 JP JP60010384A patent/JPS61169848A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61169848A (ja) | 1986-07-31 |
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