JPH0452751Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この考案はLSI製造のリソグラフイー工程にお
いて使用されるフオトマスクやレテイクル等の透
明基板（以下マスクと略す）の異物付着を防止す
ることを目的として使用されるペリクルに関す
る。さらに詳細には、マスクに装着したのち剥離
が必要な場合に極めて容易に剥離できるペリクル
に関する。又、再使用可能で場合により貼り替え
て使用可能なタイプのペリクルに関する。

［従来の技術］ 半導体製造においてウエハー上に微細な回路パ
ターンを形成する場合、ステツパー等の半導体製
造装置を使用している。ここで重要なのは前記半
導体製造装置に組み込まれる回路パターンを形成
するためのマスクの品質である。近年、大規模集
積回路の発展にともないその画線幅も非常に微細
になり、今後もその傾向は進むと予想され、それ
故マスクの品質が半導体製造装置の稼働率や製造
コストに大きく影響するものとなつてきている。
特にマスクに付着する異物が歩留りを低下させる
ことが重要である。この問題を解決する一つの手
段として、いわゆるペリクルを装着してマスクを
異物から保護する方法がとられている（例えば、
特公昭54−28716号公報参照）。一方、大規模集積
回路がカスタム化し多品種少量生産の方向が強ま
つてきつつあり、このことは多数のマスクを使用
することを意味し、マスクの保管管理の必要性が
増してきた。その際、ペリクル装着の保管は管理
上簡便であることが認められつつある。

第３図はこのような所に使われるペリクルの説
明図である。ここに、光学的薄膜体１が支持枠２
に接着層３によりシワ、タルミなく固着されてい
る。支持枠２の他の端面に両面粘着テープ４を有
し、その上に保護フイルム５を配置した構造とな
つている。このようなペリクルは、保護フイルム
５を剥がし両面粘着テープの粘着層を介してマス
クに装着して使用される。

ところで、装着時や装着後の作業中に光学的薄
膜体１が傷ついたり破れた場合、あるいはマスク
面に異物の付着がみつかつたり、ブロー（ガスの
吹き付け）等では除去されない異物が光学的薄膜
体に付着していることがあつた場合、新しいペリ
クルと交換する必要がある。その際当然マスクか
らペリクルを剥離しなければならない。この剥離
はかなり乱暴な操作即ちまず光学的薄膜体を破り
支持枠をペンチ等ではさみ、マスク面と両面粘着
テープ層の粘着体面との間にドライバー等を差し
込んで強い力でこじあけるような方法で行われて
いる。

その改良策としていくつかの提案がこれまでに
もなされている。例えば特開昭61−169848号公報
には支持枠の一部に開口部を設けておきその開口
部に特殊な治具を差し込んで剥離する方法であ
る。この方法はマスクに傷をつけることは少なく
なるもののマスク面に両面粘着テープの粘着物が
残りその除去に手間がかかる。もちろんペリクル
自体は再使用できない。又特開昭60−147737号公
報には支持枠自体をマスク側とペリクル側とに分
離できる構造にするという提案がなされている。
この提案によるとペリクルの貼り替え作業は容易
になるもののマスク側の粘着層の剥離に対しては
問題が残つたままである。同じように支持枠の構
造をかえるという提案は特開昭61−193151号公報
にもある。さらに特開昭60−75835号公報には両
面粘着テープのマスク側の接着力を弱くするとい
う提案がなされている。しかし剥離の点では若干
容易にはなるものの抜本的な改善にはなり得な
い。又、あまりその接着力を弱くすると作業中で
のマスクからのペリクルの落下の危険性が増す。

［考案が解決しようとする課題］ 上記のようなマスクからのペリクルの剥離方法
では、高価なペリクルを破損してしまうという問
題点のみならず、上記操作中に光学的薄膜体およ
びペリクルを構成している材料から金属粉や樹脂
クズが発生し、これらがマスク上に付着して再使
用のためのマスクの洗浄が困難になるという問題
点もあつた。更に、上記操作中にマスクのパター
ン部に修正不能な欠陥を生じさせるという問題点
もあつた。又、上記例示した支持枠の構造に対す
るマスクからのペリクルの剥離に対して抜本的な
改善にはなり得ない。

本考案は以上のような実情に鑑みなされたもの
で、必要時にマスクから容易に、かつ安全に剥離
でき、しかも剥離後再使用が可能なペリクルを提
供することを目的とするものである。

［課題を解決するための手段］ 上記したようにペリクルの両面粘着テープ層に
対しては、マスクに接着するときは強い接着力が
要求される一方、剥離時には接着力がきわめて弱
いことが必要とされるといつた矛盾した機能が該
両面粘着テープの接着性に対して要求されてい
る。

本考案者らはこの矛盾する要求性能を両面粘着
テープの構造を変更することによつて実現できる
のではないかと鋭意検討した結果本考案を完成す
るに至った。即ち、本考案は、光学的薄膜体と、
それを一側に有し、かつ、その反対側の端面に両
面粘着テープ層を有する支持枠とを備えてなるペ
リクルにおいて、該両面粘着テープ層は、弾性体
を間にはさんだ２つの両面粘着テープを１組とし
て、１組以上の層構造をなすことを特徴とする易
剥離性ペリクルである。このように両面粘着テー
プ層を積層構造体として構成することによつて剥
離がきわめて容易になることは驚くへきことであ
る。

以下図面により本考案を説明する。

第２図は従来の支持枠と両面粘着テープの部分
の断面図である。４ｍが粘着層で、例えばアクリ
ル系、ゴム系、ビニル系、エポキシ系、シリコン
系等の接着剤で構成されている。４ｎは両面粘着
テープ基材であり、ブチルゴム、発砲ポリウレタ
ン等の弾性のある材料で構成されている。第１図
は本考案の種々の態様を示している。即ち、弾性
体を間にはさんだ２つ以上の両面粘着テープを有
する多層の両面粘着テープ層構造となつている。
第１図ａにおいては弾性体４ｘを挾み込んでいる
両面粘着テープは同一の物で粘着剤層４ａと基材
４ｂとからなつている。基材４ｂは弾性の大きい
もの、たとえばゴムまたはフオーム等あるいは弾
性の小さいもの、たとえばプラスチツク等の材料
で構成されている。第２図ｂにおいては弾性体４
ｘを挾み込んでいる両面粘着テープは異質のもの
で粘着剤層は４ａと４ｃ、基材は４ｂと４ｄの異
なつた材質の物で構成されている。第１図ｃは弾
性体４ｘを２層有する両面粘着テープ層構造体を
示している。更に第１図ｃ以上の多層の構造体に
ついてもこれらの図から容易に類推することがで
きよう。

このように弾性体を間に挾み込んだ２つ以上の
両面粘着テープを有することが本考案の要であ
り、これにより容易かつ安全にマスクより剥離す
ることができる。

基材となる弾性の大きい材料としてはゴムまた
はフオームが挙げられ、たとえば、ブチルゴム、
クロロプレンゴム、発砲ポリウレタン、発砲ポリ
エチレン等である。基材となる弾性の小さい材料
としてはたとえばプラスチツクが挙げられ、具体
的にはポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリイミド、塩化ビニル、ポリメタクリル
酸メチル、ポリカーボネート等を挙げることがで
きる。

又粘着剤としては、アクリル系、ゴム系、ビニ
ル系、エポキシ系、シリコーン系等の接着剤を挙
げることができる。

さて、本考案の構成の両面粘着テープを使用す
る場合、マスクとの接着後剥離することが必要と
なつたとき、弾性体と一方の両面粘着ープとの界
面例えば第１図ａでは４ａと４ｘの界面付近にナ
イフ等を数cmの幅で差し込むことができる。その
後でそれ程強くない力で支持枠を持ち上げれば非
常に簡単に剥がれ、まずマスクとペリクルが分離
できる。次いでマスクに残存する両面粘着テープ
は小さいきつかけを入れてからピンセツト等で摘
めば非常に容易に剥離できる。この際粘着物はほ
とんど残らない。このような操作による剥離法に
よりマスクを傷付ける恐れはなくなる。一般に２
つの物を両面粘着テープで接着した場合、垂直方
向の力に対してはきわめて剥離に対する抵抗が大
きいが、平行方向の力に対しては非常に小さい。
本考案はこの原理を巧みに用いている。

剥離後のペリクルは第１図ｃの様な両面粘着テ
ープが多層構造をしているときには、再使用がで
きる。もちろん弾性体を間にはさんだ構造となつ
ているので、マスクへの装着も容易に行える。

一般に両面粘着テープ層の厚みは0.1mm〜2.0mm
程度であるが、マスクとの装着ミスをなくすため
に約1.0mmとかなり厚くなつている。マスクの装
着後作業中の落下を防ぐために粘着層の接着力は
かなり強く100〜1000g／cmとなつている（接着
力の値はFIS Ｚ−0237粘着力試験方法による）。

光学的薄膜体としては、単層のものあるいは反
射防止層を有するものが使用できる。中心層を構
成する膜の材料としては、石英等の無機物質やポ
リマーが使用できる。ポリマーとしては、ポリエ
チレンテレフタレート、セルロースエステル類、
ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル等を
挙げることができる。特に一般に好適な素材とし
て、ニトロセルロース、セルロースアセテートが
用いられている。反射防止層の材料としては、
MgF₂等の無機物からポリスチレン、テフロン等
のポリマーが使用できる。

支持枠としてはアルミニウム合金、プラスチツ
ク等が使用できる。その大きさはマスクの大きさ
に対応して１〜８インチ径、または、１〜８イン
チ角程度であり、その高さは２〜10mm程度であ
る。ペリクルは使用に供されるまで清浄なケース
に収納されゴミの付着を防止する。ステツパーに
用いるに当つては、異物の影響がきわめて鋭敏に
現れるためマスクの画像側だけでなく他の面にも
ペリクルが装着されることが多い。

以下実施例により本考案を更に詳細に説明す
る。

［実施例］ 実施例 １ 外寸120mm×98mmの矩形のアルミニウム合金か
らなる支持枠に、まず基材がポリエステルで粘着
剤がアクリル系の厚み0.13mmの両面粘着テープを
つけた。次いで厚み0.7mmのネオプレンゴムをつ
け、更にその上に下層と同じ両面粘着テープをつ
けた。このような支持枠の反対側にエポキシ接着
剤を塗布しておき、別に用意しておいたニトロセ
ルロースの光学的薄膜体に貼り付け固着した。こ
のようにして作つたペリクルを両面粘着テープが
約0.4mm程度沈み込むぐらいの圧力を支持枠にか
けてマスクに装着した。

その後、支持枠のコーナー部のゴムと両面粘着
テープとの間にナイフを約３cmの幅にわたつて突
つ込み、支持枠を持ち上げるとマスクとペリクル
が簡単に剥離した。次いでマスクに残存している
両面粘着テープのコーナーの１mm程度をナイフで
めくり上げ剥し、その剥れ部分をピンセツトでつ
まみ上げるとこのテープもきれいに剥離できた。
支持枠側にそれと同一形状で打ち抜かれた上記両
面粘着テープを貼ることにより、再度使用するこ
とが可能であつた。

実施例 ２ 実施例１と同じ種類の両面粘着テープとゴムを
用いた第１図ｃのような多層の両面粘着テープ層
を支持枠に設けた。このような支持枠を用いてペ
リクルを作成した。このペリクルをマスクに装着
した。

支持枠側からみて、第３層の両面テープと第４
層のゴムの間にナイフを巻込み剥離することによ
り、剥離後のペリクルは実施例１の構造のペリク
ルとなるので、本ペリクルは少なくとも２度使用
できることになる。

［考案の効果］ 以上説明したように、本考案の構成によればマ
スクからの剥離が容易で、かつ剥離時生じていた
多くの問題点を解消できるペリクルを提供するこ
とが可能になつた。又、剥離されたペリクルは再
使用することができ、さらに場合により両面粘着
テープを貼り替えて再使用することも可能であ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案によるペリクルにおける支持枠
と両面粘着テープ層の部分の断面図、第２図は従
来のペリクルに使用している支持枠と両面粘着テ
ープの部分の断面図、第３図は一般的なペリクル
の説明図。 図中１は光学的薄膜体、２は支持枠、３は接着
層、４は両面粘着テープ層、５は保護フイルム、
４ａ，４ｃ，４ｍは両面粘着テープの粘着剤層、
４ｂ，４ｄ，４ｎは両面粘着テープの基材、４ｘ
は弾性体を示す。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 光学的薄膜体と、それを一側に有し、かつ、そ
   の反対側の端面に両面粘着テープ層を有する支持
   枠とを備えてなるペリクルにおいて、該両面粘着
   テープ層は、弾性体を間にはさんだ２つの両面粘
   着テープを１組として、１組以上の層構造をなす
   ことを特徴とする易剥離性ペリクル。