JPH04366846A - ペリクルをマスクから剥離する方法 - Google Patents
ペリクルをマスクから剥離する方法Info
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- JPH04366846A JPH04366846A JP3142044A JP14204491A JPH04366846A JP H04366846 A JPH04366846 A JP H04366846A JP 3142044 A JP3142044 A JP 3142044A JP 14204491 A JP14204491 A JP 14204491A JP H04366846 A JPH04366846 A JP H04366846A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明はLSIや液晶等の製造
のリソグラフィ−工程に使用されるフォトマスクやレテ
ィクル等の透明基板(以下マスクと略す)の異物付着を
防止することを目的として使用されるペリクルを、マス
クから脱着する方法に関する。さらに詳細には、マスク
に装着した後脱着が必要な場合、マスク上の粘着剤の残
留物をきわめて少なくできる脱着方法に関する。
のリソグラフィ−工程に使用されるフォトマスクやレテ
ィクル等の透明基板(以下マスクと略す)の異物付着を
防止することを目的として使用されるペリクルを、マス
クから脱着する方法に関する。さらに詳細には、マスク
に装着した後脱着が必要な場合、マスク上の粘着剤の残
留物をきわめて少なくできる脱着方法に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体等の製造においてウェハ−上に微
細な回路パタ−ンを形成する場合、ステッパ−等の製造
装置を使用している。ここで重要なのは前記製造装置に
組み込まれる回路パタ−ンを形成する為のマスクの品質
である。近年、大規模集積回路の発展に伴いその画線幅
も非常に微細になり、今後もその傾向は進むと予想され
、それ故マスクの品質が製造装置の稼働率や製造コスト
に大きく影響するものとなってきている。特にマスクに
付着する異物が歩留りを低下させることが重大な問題で
ある。この問題を解決する手段として、いわゆるペリク
ルを装着してマスクを異物から保護する方法が取られて
いる(例えば、特公昭54−28716号公報参照)。 一方、大規模集積回路がカスタム化し多品種少量生産の
方向が強まってきつつあり、このことは多数のマスクを
使用することを意味し、マスクの保管管理の必要性が増
してきた。その際、ペリクル装着の保管は管理上簡便で
あることが認められつつある。
細な回路パタ−ンを形成する場合、ステッパ−等の製造
装置を使用している。ここで重要なのは前記製造装置に
組み込まれる回路パタ−ンを形成する為のマスクの品質
である。近年、大規模集積回路の発展に伴いその画線幅
も非常に微細になり、今後もその傾向は進むと予想され
、それ故マスクの品質が製造装置の稼働率や製造コスト
に大きく影響するものとなってきている。特にマスクに
付着する異物が歩留りを低下させることが重大な問題で
ある。この問題を解決する手段として、いわゆるペリク
ルを装着してマスクを異物から保護する方法が取られて
いる(例えば、特公昭54−28716号公報参照)。 一方、大規模集積回路がカスタム化し多品種少量生産の
方向が強まってきつつあり、このことは多数のマスクを
使用することを意味し、マスクの保管管理の必要性が増
してきた。その際、ペリクル装着の保管は管理上簡便で
あることが認められつつある。
【0003】第1図はこのような所に使われるペリクル
の説明図である。ここに、光学的薄膜体1が支持枠2に
接着層3によりシワ、タルミなく固着されている。支持
枠2も他の端面に粘着体4を有し、その上に保護フィル
ム5を配置した構造となっている。このようなペリクル
は、保護フィルム5を剥し粘着体を介してマスクに装着
して使用される。
の説明図である。ここに、光学的薄膜体1が支持枠2に
接着層3によりシワ、タルミなく固着されている。支持
枠2も他の端面に粘着体4を有し、その上に保護フィル
ム5を配置した構造となっている。このようなペリクル
は、保護フィルム5を剥し粘着体を介してマスクに装着
して使用される。
【0004】ところで、装着時や装着後の作業中に光学
的薄膜体1が傷ついたり破れたりした場合、あるいはマ
スク面に異物の付着がみつかったり、ブロ−(ガスの吹
き付け)等では除去されない異物が光学的薄膜体に付着
していることがあった場合、新しいペリクルと交換する
必要がある。その際当然マスクからペリクルを剥離しな
ければならない。この剥離はかなり乱暴な操作即ちまず
光学的薄膜体を破り支持枠をペンチ等ではさみ、マスク
面と粘着体との間にドライバ−等を差し込んで強い力で
こじあけるような方法で行われている。
的薄膜体1が傷ついたり破れたりした場合、あるいはマ
スク面に異物の付着がみつかったり、ブロ−(ガスの吹
き付け)等では除去されない異物が光学的薄膜体に付着
していることがあった場合、新しいペリクルと交換する
必要がある。その際当然マスクからペリクルを剥離しな
ければならない。この剥離はかなり乱暴な操作即ちまず
光学的薄膜体を破り支持枠をペンチ等ではさみ、マスク
面と粘着体との間にドライバ−等を差し込んで強い力で
こじあけるような方法で行われている。
【0005】その改良策としていくつかの提案がこれま
でにもなされている。例えば特開昭61−169848
号公報には支持枠の一部に開口部を設けておきその開口
部に特殊な治具を差し込んで剥離する方法である。この
方法はマスク面に傷をつけることは少なくなるもののマ
スク面に粘着体の粘着物が残りその除去が難しい。又特
開昭60−147737号公報には支持枠自体をマスク
側とペリクル側とに分離できる構造にするという提案が
なされている。この提案によるとペリクルの張り替え作
業は容易になるもののマスク側の粘着体の剥離にたいし
ては上と同様の問題が残る。同じように支持枠の構造を
かえるという提案は特開昭61−193151号公報に
もある。さらに特開昭60−75835号公報には粘着
体のマスク側の接着力を弱くするという提案がなされて
いる。しかし剥離の点では若干容易になるものの粘着体
のマスク上の残りをなくすことにはならない。又あまり
その接着力を弱くすると作業中でのマスクからのペリク
ルの落下の危険性が増す。
でにもなされている。例えば特開昭61−169848
号公報には支持枠の一部に開口部を設けておきその開口
部に特殊な治具を差し込んで剥離する方法である。この
方法はマスク面に傷をつけることは少なくなるもののマ
スク面に粘着体の粘着物が残りその除去が難しい。又特
開昭60−147737号公報には支持枠自体をマスク
側とペリクル側とに分離できる構造にするという提案が
なされている。この提案によるとペリクルの張り替え作
業は容易になるもののマスク側の粘着体の剥離にたいし
ては上と同様の問題が残る。同じように支持枠の構造を
かえるという提案は特開昭61−193151号公報に
もある。さらに特開昭60−75835号公報には粘着
体のマスク側の接着力を弱くするという提案がなされて
いる。しかし剥離の点では若干容易になるものの粘着体
のマスク上の残りをなくすことにはならない。又あまり
その接着力を弱くすると作業中でのマスクからのペリク
ルの落下の危険性が増す。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上記のようなマスクか
らのペリクルの剥離方法では、特に粘着体の残留物がマ
スク上に付着して再使用のためのマスクの洗浄が困難に
なるという問題点があった。特に重要な問題は粘着体の
残留物がマスクのパタ−ン部に修正不能の欠陥を生じさ
せる点であった。
らのペリクルの剥離方法では、特に粘着体の残留物がマ
スク上に付着して再使用のためのマスクの洗浄が困難に
なるという問題点があった。特に重要な問題は粘着体の
残留物がマスクのパタ−ン部に修正不能の欠陥を生じさ
せる点であった。
【0007】この発明は以上のような実情に鑑みなされ
たもので、必要時にマスクから容易に、かつマスク上に
粘着体の残留物を少なくして剥離できる方法を提供する
ことを目的とするものである。
たもので、必要時にマスクから容易に、かつマスク上に
粘着体の残留物を少なくして剥離できる方法を提供する
ことを目的とするものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記したようにペリクル
をマスクから剥離した時に、マスク上に粘着体の残留物
がきわめて少ないことが要求される。本発明者らは粘着
体の化学的物性を考慮すると、良溶媒があるにちがいな
いと考えて鋭意検討した結果この発明を完成するに至っ
た。即ち、この発明は、光学的薄膜体と、それを一側に
有し、かつ、その反対側の端面に粘着体を有する支持枠
とを備えてなるペリクルを、該ペリクルが貼付いたマス
クから脱着する方法において、水に可溶または部分可溶
なC2 −C5 の少なくとも1つのアルコ−ルと水か
ら本質的になり、1/5〜5/1の容積比の混合溶媒に
あらかじめ浸潤することを特徴とするマスクからペリク
ルを脱着する方法である。このようにありふれた、扱い
易い溶媒が極めて良好な結果を与えたことは驚くべき事
である。
をマスクから剥離した時に、マスク上に粘着体の残留物
がきわめて少ないことが要求される。本発明者らは粘着
体の化学的物性を考慮すると、良溶媒があるにちがいな
いと考えて鋭意検討した結果この発明を完成するに至っ
た。即ち、この発明は、光学的薄膜体と、それを一側に
有し、かつ、その反対側の端面に粘着体を有する支持枠
とを備えてなるペリクルを、該ペリクルが貼付いたマス
クから脱着する方法において、水に可溶または部分可溶
なC2 −C5 の少なくとも1つのアルコ−ルと水か
ら本質的になり、1/5〜5/1の容積比の混合溶媒に
あらかじめ浸潤することを特徴とするマスクからペリク
ルを脱着する方法である。このようにありふれた、扱い
易い溶媒が極めて良好な結果を与えたことは驚くべき事
である。
【0009】この発明の本質は水と水に可溶または部分
可溶なアルコ−ルの特定の容積比を有する混合溶媒中に
マスクとペリクルを浸潤させる点にある。貼付いた物を
該溶媒中に浸漬させたり、マスクとペリクルの間の粘着
体の部分に該溶媒をつけることも可能である。この容積
比がこの範囲を越えて、水が多くなった時には脱着させ
るために大きな力が必要でかつ粘着体そのものが残留し
やすい。又、アルコ−ルの量がこの範囲を越えて多くな
ると、脱着するための力は少なくてすむものの、粘着体
の残留物が急に多くなる。
可溶なアルコ−ルの特定の容積比を有する混合溶媒中に
マスクとペリクルを浸潤させる点にある。貼付いた物を
該溶媒中に浸漬させたり、マスクとペリクルの間の粘着
体の部分に該溶媒をつけることも可能である。この容積
比がこの範囲を越えて、水が多くなった時には脱着させ
るために大きな力が必要でかつ粘着体そのものが残留し
やすい。又、アルコ−ルの量がこの範囲を越えて多くな
ると、脱着するための力は少なくてすむものの、粘着体
の残留物が急に多くなる。
【0010】この発明で使用される混合溶媒のアルコ−
ル成分は2つから5つの炭素原子をもつアルコ−ルの1
以上である。メタノ−ルは特異性を示さない。6ケの炭
素原子を有するアルコ−ルは水との可溶性の悪さと高い
粘度のためにこの発明には使用されない。この発明に使
用しうるアルコ−ルの例として、以下のものがあげられ
る。n−ブタノ−ル、t−ブタノ−ル、イソブタノ−ル
、イソプロパノ−ル、n−プロパノ−ル、エタノ−ル、
1,2−プロパンジオ−ル、1,3−プロパンジオ−ル
、1,2−ブタンジオ−ル、1,3−ブタンジオ−ル、
1,4−ブタンジオ−ル、2,3−ブタンジオ−ル、グ
リセリン、ジエチレングリコ−ル、2−ペンタノ−ル、
3−ペンタノ−ル、1,5−ペンタンジオ−ルである。 このうち、エタノ−ル、n−ブタノ−ル、t−ブタノ−
ル、イソプロパノ−ル、ジエチレングリコ−ルがより好
ましい。
ル成分は2つから5つの炭素原子をもつアルコ−ルの1
以上である。メタノ−ルは特異性を示さない。6ケの炭
素原子を有するアルコ−ルは水との可溶性の悪さと高い
粘度のためにこの発明には使用されない。この発明に使
用しうるアルコ−ルの例として、以下のものがあげられ
る。n−ブタノ−ル、t−ブタノ−ル、イソブタノ−ル
、イソプロパノ−ル、n−プロパノ−ル、エタノ−ル、
1,2−プロパンジオ−ル、1,3−プロパンジオ−ル
、1,2−ブタンジオ−ル、1,3−ブタンジオ−ル、
1,4−ブタンジオ−ル、2,3−ブタンジオ−ル、グ
リセリン、ジエチレングリコ−ル、2−ペンタノ−ル、
3−ペンタノ−ル、1,5−ペンタンジオ−ルである。 このうち、エタノ−ル、n−ブタノ−ル、t−ブタノ−
ル、イソプロパノ−ル、ジエチレングリコ−ルがより好
ましい。
【0011】この発明の混合溶媒を使用したときの脱着
条件として、温度と浸潤時間があげられる。一般に長鎖
のアルコ−ルを使用するときの方が、緩やかな条件でよ
いという以外は、これらの条件はクリティカルではない
。ただあまりに高い温度で浸潤時間が長いと、脱着は容
易になるが、粘着体の残留物は多くなる傾向はある。 一般に0Cから60Cが用いられ、10から1000秒
の条件が用いられる。
条件として、温度と浸潤時間があげられる。一般に長鎖
のアルコ−ルを使用するときの方が、緩やかな条件でよ
いという以外は、これらの条件はクリティカルではない
。ただあまりに高い温度で浸潤時間が長いと、脱着は容
易になるが、粘着体の残留物は多くなる傾向はある。 一般に0Cから60Cが用いられ、10から1000秒
の条件が用いられる。
【0012】この発明は液晶用の大型ペリクルに好適に
使用することができる。即ち、粘着体の幅も全体も極め
て大きくなると、非常に脱着しにくいのでこの発明の有
用性が増すからである。一般に粘着体の厚みは0.1m
m〜2.0mm程度であるが、マスクとの装着ミスをな
くすために約1.0mmとかなり厚くなっている。マス
クの装着後作業中の落下を防ぐために粘着体の接着力は
かなり強く100〜100g/cmとなっている(接着
力の値はJIS Z−0237粘着力試験方法による
)。
使用することができる。即ち、粘着体の幅も全体も極め
て大きくなると、非常に脱着しにくいのでこの発明の有
用性が増すからである。一般に粘着体の厚みは0.1m
m〜2.0mm程度であるが、マスクとの装着ミスをな
くすために約1.0mmとかなり厚くなっている。マス
クの装着後作業中の落下を防ぐために粘着体の接着力は
かなり強く100〜100g/cmとなっている(接着
力の値はJIS Z−0237粘着力試験方法による
)。
【0013】光学的薄膜体としては、単層のものあるい
は反射防止層を有するものが使用できる。中心層を構成
する膜の材料としては、石英等の無機物質やポリマ−が
使用できる。ポリマ−としては、ポリエチレンテレフタ
レ−ト、セルロ−スエステル類、ポリカ−ボネ−ト、ポ
リメタクリル酸メチル等をあげることができる。特に一
般に好適な素材として、ニトロセルロ−スが用いられて
いる。これら材質を溶解しないような混合溶媒が好まし
い。反射防止層の材料としては、MgF2等の無機物か
らポリスチレン、テフロン等のポリマ−が使用できる。
は反射防止層を有するものが使用できる。中心層を構成
する膜の材料としては、石英等の無機物質やポリマ−が
使用できる。ポリマ−としては、ポリエチレンテレフタ
レ−ト、セルロ−スエステル類、ポリカ−ボネ−ト、ポ
リメタクリル酸メチル等をあげることができる。特に一
般に好適な素材として、ニトロセルロ−スが用いられて
いる。これら材質を溶解しないような混合溶媒が好まし
い。反射防止層の材料としては、MgF2等の無機物か
らポリスチレン、テフロン等のポリマ−が使用できる。
【0014】支持枠としてはアルミニウム合金、ステン
レススチ−ル等の金属、プラスチック等が使用できる。 その大きさはマスクの大きさに対応して1〜8インチ径
、または1〜8インチ角程度であり、液晶用になると2
0インチ以上に達する場合もある。その高さは2〜10
mm程度である。ペリクルは使用に供されるまで清浄な
ケ−スに収納されゴミの付着を防止する。ステッパ−に
用いるに当たっては、異物の影響が鋭敏に現れるためマ
スクの画像側だけでなく他の面にもペリクルが装着され
ることが多い。
レススチ−ル等の金属、プラスチック等が使用できる。 その大きさはマスクの大きさに対応して1〜8インチ径
、または1〜8インチ角程度であり、液晶用になると2
0インチ以上に達する場合もある。その高さは2〜10
mm程度である。ペリクルは使用に供されるまで清浄な
ケ−スに収納されゴミの付着を防止する。ステッパ−に
用いるに当たっては、異物の影響が鋭敏に現れるためマ
スクの画像側だけでなく他の面にもペリクルが装着され
ることが多い。
【0015】以下実施例と比較例により本発明を更に詳
細に説明する。
細に説明する。
【0016】
【実施例及び比較例】外寸120mm×98mmの矩形
のアルミニウム合金からなる支持枠に、基材がクロロプ
レンゴムで粘着剤がアクリル系の厚み0.8mmの両面
粘着テ−プ(住友3M社製NO.4262)をつけた。 このような支持枠の反対側にエポキシ接着剤を塗布して
おき、別に用意しておいた光学的薄膜体(中心層がニト
ロセルロ−ス、両面にフッソ系ポリマ−の反射防止層を
有する)に貼付け固着した。このようにして作ったペリ
クルを両面粘着テ−プが約0.4mm程度沈み込むぐら
いの圧力を支持枠にかけてマスクに装着した。
のアルミニウム合金からなる支持枠に、基材がクロロプ
レンゴムで粘着剤がアクリル系の厚み0.8mmの両面
粘着テ−プ(住友3M社製NO.4262)をつけた。 このような支持枠の反対側にエポキシ接着剤を塗布して
おき、別に用意しておいた光学的薄膜体(中心層がニト
ロセルロ−ス、両面にフッソ系ポリマ−の反射防止層を
有する)に貼付け固着した。このようにして作ったペリ
クルを両面粘着テ−プが約0.4mm程度沈み込むぐら
いの圧力を支持枠にかけてマスクに装着した。
【0017】一方種々の混合容積比の水−アルコ−ル混
合溶媒をあらかじめ調製しておいた。そうした溶媒中に
マスクごと浸漬し、適当な時間後支持枠をもってひき剥
した。マスク面上の粘着体の残留物を観察した。表1は
その結果である。本発明の容積比の混合溶媒は、それか
らはずれる溶媒よりもあきらかに良い結果を与えた。
合溶媒をあらかじめ調製しておいた。そうした溶媒中に
マスクごと浸漬し、適当な時間後支持枠をもってひき剥
した。マスク面上の粘着体の残留物を観察した。表1は
その結果である。本発明の容積比の混合溶媒は、それか
らはずれる溶媒よりもあきらかに良い結果を与えた。
【0018】
【表1】
【0019】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の混合溶媒
を使用すればペリクルをマスクから脱着することが容易
で、かつ従来剥離時生じていた多くの問題点を解消する
ことができるようになった。
を使用すればペリクルをマスクから脱着することが容易
で、かつ従来剥離時生じていた多くの問題点を解消する
ことができるようになった。
【図1】一般的なペリクルの説明図。
1.光学的薄膜体
2.支持枠
3.接着層
4.粘着体
5.保護フィルム
Claims (1)
- 【請求項1】光学的薄膜体と、それを一側に有し、かつ
、その反対側の端面に粘着体を有する支持枠とを備えて
なるペリクルを、該ペリクルが貼付いたマスクから脱着
する方法において、水に可溶または部分可溶なC2 −
C5の少なくとも1つのアルコ−ルと水から本質的にな
り、1/5〜5/1の容積比の混合溶媒にあらかじめ浸
潤することを特徴とするマスクからペリクルを脱着する
方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3142044A JPH04366846A (ja) | 1991-06-13 | 1991-06-13 | ペリクルをマスクから剥離する方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3142044A JPH04366846A (ja) | 1991-06-13 | 1991-06-13 | ペリクルをマスクから剥離する方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04366846A true JPH04366846A (ja) | 1992-12-18 |
Family
ID=15306090
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3142044A Pending JPH04366846A (ja) | 1991-06-13 | 1991-06-13 | ペリクルをマスクから剥離する方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04366846A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012108277A (ja) * | 2010-11-17 | 2012-06-07 | Shin Etsu Chem Co Ltd | リソグラフィー用ペリクル |
-
1991
- 1991-06-13 JP JP3142044A patent/JPH04366846A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012108277A (ja) * | 2010-11-17 | 2012-06-07 | Shin Etsu Chem Co Ltd | リソグラフィー用ペリクル |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20000704 |