JP2012108277A - リソグラフィー用ペリクル - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ペリクルフレームの一方の端面に接着剤層を介してペリクル膜が張設され、他方の端面にマスク貼付側の面が平坦な粘着剤層が設けられ、かつその粘着力が1N/mから100N/mの範囲にあることを特徴とし、前記粘着剤層のマスク貼付側の面の平坦度を15μm以下とし、ペリクル膜が貼付された前記接着剤層の面の平坦度を15μm以下とするのが望ましい。
【選択図】図3
Description
この場合、ゴミは露光原版の表面には直接付着せず、ペリクル膜上に付着するため、リソグラフィー時に焦点を露光原版のパターン上に合わせておけば、ペリクル上のゴミは転写に無関係となる利点がある。
しかし、露光光の波長が短波長になるにつれて、露光原版(マスク)の変形歪みによるリソグラフィー像の変形の影響が問題となってきている。
本発明者は先に、ペリクルのマスク粘着剤層の平坦度を向上させ、ペリクルのマスクへの貼り付けによるマスクの歪みを抑制することを提案した(特許文献5参照)。
この発明により、マスクの平坦度は格段に向上したが、特に、短波長による露光時に、像に歪みが生じる例が散見されるようになってきた。その原因を究明すると、貼り付け時に粘着剤層が変形し、その変形が粘着剤の粘着力により保持され、変形応力が残留することにあることが判明した。
粘着力の測定は、23±2℃、相対湿度(50±5)%の標準環境下で、JIS Z0237の180度引き剥がし法に準じて行えばよい。
平坦度の測定は、XYステージを使用して、レーザー変位計で測定すればよい。
図1は、本発明のリソグラフィー用ペリクルを示す概略側面図であって、リソグラフィー用ペリクルをマスク4に粘着する場合、ペリクルマウンターの加圧板5で加圧すると、接着剤層2の凸になったA−Aの部分はより大きな加圧を受ける。A−Aの部分のペリクルフレーム1及び粘着剤層3はより大きな荷重を受け、その結果変形し、図2に示すように、粘着剤層3の側面が膨出しマスク4と接触する。
アルミニウム合金製のペリクルフレーム(外形サイズ149mm×113mm×4.5mm、肉厚2mm、粘着剤・接着剤層側の平坦度;10μm)を純水で洗浄後、その端面にアクリル粘着剤:SKダイン1495(綜研化学製、製品名)を塗布し、室温で1時間放置した。平坦度が3μmの石英ガラス板上にセパレータを置き、この上に粘着剤を塗布した面が接触するようにペリクルフレームを置いた。このようにしてペリクルフレームの粘着剤層に平坦な面を形成した。その後、ガラス基板を70℃で12時間加熱して粘着剤を仮硬化させた。粘着剤硬化後、セパレータを剥離した。その後、ペリクルフレームを150℃に加熱して粘着剤を完全に硬化させた。
このとき、粘着剤の粘着力は40N/m、粘着剤層表面の平坦度は10μm、接着剤層表面の平坦度は10μmであった。なお、粘着力の測定は、別途粘着力測定用のサンプルを作成し、JIS Z0237の180度引き剥がし法により、ステンレス板に対し、剥離速度300mm/minの条件下で行った。平坦度は、XYステージを有するレーザー変位計で測定した(以下、同様)。
また、このペリクルを貼り付けたマスクを50℃で1ヶ月保管した後に、粘着剤層のマスク貼り付き部を観察したところ、特に粘着剤層の浮き等は認められず、良好な貼り付き安定性が確認できた。
この実施例の結果を、以下の実施例、比較例とともに表1にまとめて示す。
アルミニウム合金製のペリクルフレーム(外形サイズ149mm×113mm×4.5mm、肉厚2mm、粘着剤・接着剤層側の平坦度;10μm)を純水で洗浄後、その端面にアクリル粘着剤:コーポニールN−2260(日本合成化学製、製品名)を塗布し、室温で1時間放置した。平坦度が3μmの石英ガラス板上にセパレータを置き、この上に粘着剤を塗布した面が接触するようにペリクルフレームを置いた。このようにしてペリクルフレームの粘着剤層に平坦な面を形成した。その後、ガラス基板を70℃で12時間加熱して粘着剤を仮硬化させた。粘着剤硬化後、セパレータを剥離した。その後、ペリクルフレームを150℃に加熱して粘着剤を完全に硬化させた。
以下、ペリクルフレームへの接着剤層の形成、ペリクル膜の貼付固定は、実施例1と同様にして行い、ペリクルを完成させた。
作製したペリクルを、平坦度が0.25μmのマスクに貼り付けたところ、マスクの平坦度は0.28μmに変化した。この変化量は0.03μmであり、十分に小さな値に抑制することができた。
また、このペリクルを貼り付けたマスクを50℃で1ヶ月保管した後に、粘着剤層のマスク貼り付き部を観察したところ、特に粘着剤の浮き等は認められず、良好な貼り付き安定性が確認できた。
アルミニウム合金製のペリクルフレーム(外形サイズ149mm×113mm×4.5mm、肉厚2mm、粘着剤・接着剤層側の平坦度;10μm)を純水で洗浄後、その端面にアクリル粘着剤:SKダイン1499(綜研化学製、製品名)を塗布し、室温で1時間放置した。平坦度が3μmの石英ガラス板上にセパレータを置き、この上に粘着剤を塗布した面が接触するようにペリクルフレームを置いた。このようにしてペリクルフレームの粘着剤層に平坦な面を形成した。その後、ガラス基板を70℃で12時間加熱して粘着剤を仮硬化させた。粘着剤硬化後、セパレータを剥離した。その後、ペリクルフレームを150℃に加熱して粘着剤を完全に硬化させた。
以下、ペリクルフレームへの接着剤層の形成、ペリクル膜の貼付固定は、実施例1と同様にして行い、ペリクルを完成させた。
作製したペリクルを、平坦度が0.25μmのマスクに貼り付けたところ、マスクの平坦度は0.26μmに変化した。この変化量は0.01μmであり、十分に小さな値に抑制することができた。
また、このペリクルを貼り付けたマスクを50℃で1ヶ月保管した後に、粘着剤層のマスク貼り付き部を観察したところ、特に粘着剤の浮き等は認められず、良好な貼り付き安定性が確認できた。
アルミニウム合金製のペリクルフレーム(外形サイズ149mm×113mm×4.5mm、肉厚2mm、粘着剤・接着剤層側の平坦度;10μm)を純水で洗浄後、その端面にアクリル粘着剤:SKダイン1223(綜研化学製、製品名)を塗布し、室温で1時間放置した。平坦度が3μmの石英ガラス板上にセパレータを置き、この上に粘着剤を塗布した面が接触するようにペリクルフレームを置いた。このようにしてペリクルフレームの粘着剤層に平坦な面を形成した。その後、ガラス基板を70℃で12時間加熱して粘着剤を仮硬化させた。粘着剤硬化後、セパレータを剥離した。その後、ペリクルフレームを150℃に加熱して粘着剤を完全に硬化させた。
以下、ペリクルフレームへの接着剤層の形成、ペリクル膜の貼付固定は、実施例1と同様にして行い、ペリクルを完成させた。
なお、このペリクルを貼り付けたマスクを50℃で1ヶ月保管した後に、粘着剤層のマスク貼り付き部を観察したところ、特に粘着剤の浮き等は認められなかった。
アルミニウム合金製のペリクルフレーム(外形サイズ149mm×113mm×4.5mm、肉厚2mm、粘着剤・接着剤層側の平坦度;10μm)を純水で洗浄後、その端面にアクリル粘着剤:コーポニールN−4742(日本合成化学製、製品名)を塗布し、室温で1時間放置した。平坦度が3μmの石英ガラス板上にセパレータを置き、この上に粘着剤を塗布した面が接触するようにペリクルフレームを置いた。このようにしてペリクルフレームの粘着剤層に平坦な面を形成した。その後、ガラス基板を70℃で12時間加熱して粘着剤を仮硬化させた。粘着剤硬化後、セパレータを剥離した。その後、ペリクルフレームを150℃に加熱して粘着剤を完全に硬化させた。
以下、ペリクルフレームへの接着剤層の形成、ペリクル膜の貼付固定は、実施例1と同様にして行い、ペリクルを完成させた。
しかしながら、このペリクルを貼り付けたマスクを50℃で1ヶ月保管した後に、粘着剤層のマスク貼り付き部を観察したところ、一部に粘着剤の浮き等が確認され、貼り付き安定性に問題があった。
2:接着剤層
3:粘着剤層
4:マスク
5:(ペリクルマウンターの)加圧板
Claims (3)
- ペリクルフレームの一方の端面に接着剤層を介してペリクル膜が張設され、他方の端面にマスク貼付側の面が平坦な粘着剤層が設けられ、かつその粘着力が1N/mから100N/mの範囲にあることを特徴とするリソグラフィー用ペリクル。
- 前記粘着剤層のマスク貼付側の面の平坦度が15μm以下である請求項1に記載のリソグラフィー用ペリクル。
- ペリクル膜が貼付された前記接着剤層の面の平坦度が15μm以下である請求項1又は2に記載のリソグラフィー用ペリクル。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2010256482A JP5478463B2 (ja) | 2010-11-17 | 2010-11-17 | リソグラフィー用ペリクル |
KR1020110106879A KR101727328B1 (ko) | 2010-11-17 | 2011-10-19 | 리소그래피용 펠리클 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2010256482A JP5478463B2 (ja) | 2010-11-17 | 2010-11-17 | リソグラフィー用ペリクル |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012108277A true JP2012108277A (ja) | 2012-06-07 |
JP5478463B2 JP5478463B2 (ja) | 2014-04-23 |
Family
ID=45422020
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010256482A Active JP5478463B2 (ja) | 2010-11-17 | 2010-11-17 | リソグラフィー用ペリクル |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8652711B2 (ja) |
EP (1) | EP2455809A3 (ja) |
JP (1) | JP5478463B2 (ja) |
KR (1) | KR101727328B1 (ja) |
CN (1) | CN102466964A (ja) |
TW (1) | TWI440970B (ja) |
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KR102188973B1 (ko) | 2013-04-30 | 2020-12-09 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 펠리클 |
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KR20160074402A (ko) | 2014-12-18 | 2016-06-28 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 리소그래피용 펠리클 용기 |
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KR102619269B1 (ko) | 2014-12-18 | 2023-12-28 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 리소그래피용 펠리클 용기 |
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JP2016122090A (ja) * | 2014-12-25 | 2016-07-07 | 信越化学工業株式会社 | ペリクル用粘着剤、それを用いたペリクル、及びペリクルの評価方法 |
JP2016173414A (ja) * | 2015-03-16 | 2016-09-29 | 旭化成株式会社 | ペリクル |
JP2017090719A (ja) * | 2015-11-11 | 2017-05-25 | 旭化成株式会社 | ペリクル |
JP2017090718A (ja) * | 2015-11-11 | 2017-05-25 | 旭化成株式会社 | ペリクル |
KR20190028072A (ko) | 2017-09-08 | 2019-03-18 | 주식회사 에프에스티 | 펠리클 프레임 |
JP2020160466A (ja) * | 2020-06-12 | 2020-10-01 | 旭化成株式会社 | ペリクル |
JP2022066487A (ja) * | 2020-06-12 | 2022-04-28 | 旭化成株式会社 | ペリクル |
JP7274636B2 (ja) | 2020-06-12 | 2023-05-16 | 旭化成株式会社 | ペリクル |
WO2022215609A1 (ja) | 2021-04-05 | 2022-10-13 | 信越化学工業株式会社 | ペリクルフレーム、ペリクル、ペリクル付きフォトマスク、露光方法、半導体デバイスの製造方法及び液晶ディスプレイの製造方法 |
KR20230164123A (ko) | 2021-04-05 | 2023-12-01 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 펠리클 프레임, 펠리클, 펠리클 부착 포토마스크, 노광 방법, 반도체 디바이스의 제조 방법 및 액정 디스플레이의 제조 방법 |
WO2023182186A1 (ja) * | 2022-03-23 | 2023-09-28 | 三井化学株式会社 | 粘着層付きペリクル枠の製造方法、保護フィルム付きペリクル枠、粘着層付きペリクル枠、ペリクル及びペリクル付きフォトマスク |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN102466964A (zh) | 2012-05-23 |
TW201239516A (en) | 2012-10-01 |
TWI440970B (zh) | 2014-06-11 |
EP2455809A2 (en) | 2012-05-23 |
US8652711B2 (en) | 2014-02-18 |
US20120122024A1 (en) | 2012-05-17 |
KR20120069540A (ko) | 2012-06-28 |
EP2455809A3 (en) | 2012-09-05 |
JP5478463B2 (ja) | 2014-04-23 |
KR101727328B1 (ko) | 2017-04-14 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131128 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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