JP2000292909A - ペリクルおよびペリクルの製造方法 - Google Patents

ペリクルおよびペリクルの製造方法

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JP2000292909A
JP2000292909A JP10267399A JP10267399A JP2000292909A JP 2000292909 A JP2000292909 A JP 2000292909A JP 10267399 A JP10267399 A JP 10267399A JP 10267399 A JP10267399 A JP 10267399A JP 2000292909 A JP2000292909 A JP 2000292909A
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filter
notch
pellicle frame
frame
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JP10267399A
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Akihiko Nagata
愛彦 永田
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Shin Etsu Chemical Co Ltd
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    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/68Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 通気性を確保しつつ、より微細な異物(塵
埃)をも捕捉できるような通気機構を有するペリクルお
よびこのようなペリクルの製造方法を提供することであ
る。 【解決手段】 内部にフィルターが配置された溝状の切
欠部を上端面および/または下端面に少なくとも一つ有
するペリクル枠を具備することを特徴とするペリクルで
ある。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、外部の気圧変化に
よりペリクル膜に膨らみやへこみが生じないように、ペ
リクル枠にフィルターを有する通気機構を設けたペリク
ル、およびこのペリクルの製造方法に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】LSI、超LSIなどの半導体用デバイ
スまたは液晶表示用デバイスの製造においては、シリコ
ンウエーハなどの半導体ウエーハまたは液晶用原版上に
露光原版(本明細書中ではフォトマスク、レチクル等を
総称した意味で用いる)を配置し、この露光原版に光を
照射してこれを透過した光によりパターンを転写するこ
と、すなわちリソグラフィーが行われている。
【0003】しかしながら、このような工程において露
光原版に異物(ゴミ)が付着していると、この異物が光
を吸収したり光を曲げてしまうため、半導体ウエーハや
液晶用原版上に転写されるパターンが変形したり、エッ
ジががさついたものとなるほか、白地が黒く汚れたりし
て、寸法、品質、外観などが損なわれ、その結果、半導
体用デバイスや液晶表示用デバイスの性能や製造歩留り
の低下をもたらすといった問題が生じる。
【0004】このような問題を回避するため、通常、リ
ソグラフィーは、クリーンルーム内で行われる。しかし
ながら、クリーンルーム内でも露光原版を完全に清浄に
保つことは困難である。そこで、露光原版の表面に異物
等が付着しないように、露光用の光を良く透過させるペ
リクルを装着する方法が採られている。このようにペリ
クルを装着した場合、異物(ゴミ)は露光原版の表面に
は直接付着せずにペリクル膜上に付着する。したがっ
て、リソグラフィー時に焦点を露光原版のパターン上に
合わせておけば、このような異物(ゴミ)の存在は転写
とは無関係となり、上述した問題が生じることはない。
【0005】このようなペリクルについて、図5を用い
て簡単に説明する。このペリクル1は、ペリクル枠2
と、このペリクル枠2の上端面に接着されたペリクル膜
3とから概略構成されてなるものである。このペリクル
膜3は通常ペリクル枠2の上端面に接着剤層4を介して
接着される。また、ペリクル枠2の下端面には、ペリク
ル1を露光原版に密着させるための粘着層5が設けら
れ、その表面には粘着層5を保護するためのライナー6
が貼り付けられている。
【0006】上記ペリクルは、露光原版上に異物(ゴ
ミ)が付着することを防止するために設けられるもので
あるから、ペリクルが露光原版に装着された場合は、ペ
リクル外部の異物(ゴミ)がペリクル内に侵入しないよ
うに、通常ペリクルは露光原版に密着され、ペリクルの
外部と内部とは通気性がない。その結果、この露光原版
とペリクルにより形成される空間は気密な空間とされ
る。
【0007】一方、ペリクルは、通常大気圧下で使用す
るものであるが、輸送時や使用場所等の状況によりいく
らかの気圧の変化を受けることがある。例えば、空輸時
や使用場所が高地である場合などでは、気圧が低くなる
ことになり、また低気圧が接近した場合等においても気
圧が下がる。ペリクルが露光原版に取り付けられた状態
で、このように周囲の気圧が変化すると、上述したよう
に露光原版とペリクルにより形成される空間は気密な空
間であるので、ペリクル膜が膨らんだりへこんだりして
ペリクル膜の高さに変動が生じる。その結果、例えばペ
リクル膜が膨らんで露光用の装置の一部にペリクル膜が
接触したり、ペリクル膜上の異物検査を行った際に例え
ば照明用のレーザーのフォーカスがずれて誤検出したり
する等の、使用上の大きな問題となっていた。
【0008】このような場合、ペリクルの外部と内部と
の気圧を調整するだけであれば通気孔を設ければよいの
であるが、単に通気孔を設けるだけでは通気孔からの空
気の流入に伴って異物が侵入してしまうことになり、ペ
リクル内部の露光原版表面への異物の付着防止というペ
リクル本来の目的を損なうことになってしまうことにな
る。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】このような観点から、
ペリクル枠の側面に通気孔を設けると共にこの通気孔の
外側にフィルターを設けることにより、異物の侵入を防
止しつつペリクル内外の気圧調整を行う方法が提案され
た(例えば実公昭63−39703号公報)。しかしな
がら、微小な通気孔を設け、その外側にフィルターを貼
り付ける方法では、リソグラフィーを行う上で問題とな
るサイズの異物(塵埃)の侵入を防止するためにフィル
ターのメッシュサイズを小さくした場合、確かに外部か
ら侵入する異物の捕捉は可能であるが、通気性が確保で
きず、ペリクル内外の気圧の調節に時間がかかり過ぎる
という問題が生じる。
【0010】また、この点を解決するためにフィルター
のメッシュサイズを大きくした場合は、通気性は確保で
きペリクル内外の気圧の調節は短時間で行えるものの、
外部から侵入する異物(塵埃)を十分に補足できないこ
とになってしまうという問題があった。さらに、通気孔
の外側にフィルターを設けるものであることから、外部
からの異物(塵埃)の侵入を防止することはできるもの
の、フィルターより内側に位置する通気孔内壁に付着し
た異物は、そのままフィルターを通して流入してくる気
流に乗って露光原版表面へ運ばれてしまうという問題も
あった。
【0011】一方、小さな通気孔を設けて、通気孔内部
に粘着性の樹脂をコーティングする方法(特開平2−2
50055号公報)も提案されている。しかしながら、
近年のLSIのパターンルールはサブハーフミクロンへ
と微細化が進んでおり、マスクパターン面の付着許容異
物のサイズもより微細なものとなってきている。そのよ
うな中で、フィルターが無い場合は、通気孔内部に粘着
性の樹脂がコーティングされていたとしてもこのような
微細な異物を全て捕捉することは不可能であり、せっか
くペリクルを設置しても異物(塵埃)が通気孔を抜けて
マスクパターン面に到達してしまうことになり、ペリク
ルを設置する目的が失われてしまいかねないという問題
があった。
【0012】本発明は上記問題点に鑑みてなされたもの
で、通気性を確保しつつ、より微細な異物(塵埃)をも
捕捉できるような通気機構を有するペリクルおよびこの
ようなペリクルの製造方法を提供することを主目的とす
るものである。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明は、請求項1にお
いて、内部にフィルターが配置された溝状の切欠部を上
端面および/または下端面に少なくとも一つ有するペリ
クル枠を具備することを特徴とするペリクルにより上記
目的を達成するようにしたものである。
【0014】このように、本発明はペリクル枠の上端面
および/または下端面に溝状の切欠部を設け、その中に
フィルターを配置して通気機構としたものであるので、
ペリクルの製造に際して切欠部(溝)のサイズを比較的
自由に変更することができる。したがって、ペリクル内
に侵入した場合に問題となるサイズの異物を捕捉するよ
うにフィルターのメッシュサイズを小さくしたとして
も、切欠部を大きく形成することによりフィルターの濾
過面積を大きくすることができ、十分に早くペリクル内
外の気圧差を解消することができる。また、通気機構を
設けてその外側からフィルターを覆う方法ではなく、通
気機構、すなわち切欠部内部にフィルターを配置したも
のであるので、切欠部内壁に付着した異物がペリクル内
部に侵入することがない。さらに、通気機構を溝状の切
欠部としたので、通気機構内部へのフィルターの配置が
容易である。
【0015】この場合、請求項2に記載するように、切
欠部の厚みに比較してフィルターの厚みが同じか小さい
ことが好ましい。このように切欠部の厚み、すなわちペ
リクル枠の外周面から内周面までの距離に対してフィル
ターの厚みを同等かもしくは小さくすることにより、フ
ィルターが切欠部から外周面側に突出することがない。
したがって、治具等を用いてペリクルを取り扱う場合に
フィルターが治具等と接触して損傷・摩耗して異物を発
生させることがない。また同様に、切欠部からフィルタ
ーが内周面側に突出することがない。したがって、例え
ば異物検査の場合に突出部が迷光の原因となり異物検査
がしづらい等の問題が生じない。
【0016】さらに、請求項3に記載するように、フィ
ルターのメッシュサイズが、0.1μm〜3.0μmの
範囲内であることが好ましい。フィルターのメッシュサ
イズを0.1μm〜3.0μmの範囲内とすることによ
り、ペリクル内部に侵入した場合に問題となる大きさの
異物を捕捉することが可能であり、かつペリクルの内外
の気圧差を迅速に解消することができるからである。
【0017】また、請求項4に記載するように、上記切
欠部の形状が直方体形状であることが好ましい。切欠部
の形状を直方体形状とすることにより、切欠部の形成が
容易であると同時にフィルターの形成も容易であるから
であり、さらに、切欠部内にフィルターを接着・固定す
る際も容易となるからである。
【0018】そして、本発明の請求項5に記載した発明
は、上端面および/または下端面に溝状の切欠部を有す
るペリクル枠を形成する工程と、前記切欠部内にフィル
ターを配置する工程と、フィルターが配置された切欠部
を有するペリクル枠にペリクル膜を張設する工程とを有
することを特徴とするペリクルの製造方法である。この
ように、上端面および/または下端面に溝状の切欠部を
設けたペリクル枠を用い、この切欠部にフィルターを配
置してペリクルを製造するものであるので、ペリクルの
切欠部の大きさを容易にかつ自由に変更したペリクルを
製造することができる。したがって、ペリクル内に侵入
した場合に問題となるサイズの異物を捕捉できるように
メッシュサイズの小さいフィルターを切欠部内に配置し
た場合でも、スムースに内外の圧力差を調節することが
できるペリクルを製造することができる。また、溝状の
切欠部にフィルターを配置するものであるので、容易に
内部にフィルターを有する通気機構を具備するペリクル
を製造することができる。
【0019】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態を説明
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。本
発明のペリクルは、内部にフィルターが配置された溝状
の切欠部を上端面および/または下端面に少なくとも一
つ有するペリクル枠を具備するところに特徴を有するも
のである。
【0020】本発明における切欠部とは、ペリクル枠の
少なくとも一端面に設けられたものであり、ペリクル枠
の内周面側から外周面側まで通じた溝状の凹部を示すも
のである。具体的には、図1に示すようなペリクル枠2
の上端面7の一部を溝状にペリクル枠2の内周面から外
周面まで貫通して形成されたもの等を挙げることができ
る。なお、本発明においてペリクル枠の上端面とは、ペ
リクル膜が接着される側のペリクル枠の端面のことであ
り、ペリクル枠の下端面とは露光原版に密着する側のペ
リクル枠の端面を示すものである。
【0021】本発明において、この溝状の切欠部の形状
は、特に限定されるものではなく、図1に示すように直
方体形状のものであってもよく、また直径部分を開口面
とする半円柱形状、一辺部分を開口面とする三角柱形状
等であってもよい。しかしながら、ペリクル枠の加工、
切欠部内に配置されるフィルターの加工、および切欠部
内へのフィルターの配置、接着・固定等を考慮した場
合、直方体形状(四角柱形状)であることが好ましい。
この切欠部の大きさは、特に限定されるものではなく、
切欠部内に収納されるフィルターのメッシュサイズと、
ペリクルの内外の圧力差を均一にすることができる時間
との関係で適宜決定されるものである。この場合、切欠
部の大きさは必要以上に大きく形成せず、必要最低限の
大きさとすることが好ましい。異物のペリクル内への侵
入の可能性を最低限にとどめるためである。
【0022】上記切欠部の高さは、ペリクルの強度との
関係等から、ペリクル枠の最大高さ、すなわちペリクル
枠の上端面から下端面までの最大の長さの95%以下で
あることが好ましい。なお、切欠部の高さとはペリクル
枠の上端面および下端面に垂直な部分の長さを示し、切
欠部の幅とは、ペリクル枠の上端面および下端面と平行
な部分の長さを示す。さらに本発明において、切欠部
は、図1に示す例のようにペリクル枠2の上端面7側に
形成されてもよく、また下端面8側に形成されてもよ
い。さらには、上端面側および下端面側の両方に形成さ
れてもよい。またその数も、1個に限らず、複数個形成
されていてもよい。
【0023】本発明においては、図2に示すように切欠
部9の内部にフィルター10が配置される。このよう
に、切欠部9の外側からでなく、切欠部9の内部にフィ
ルター10を配置することにより、切欠部9内面に存在
する異物がペリクル内に侵入することがない。ここで用
いられるフィルター10の材質としては、ポリテトラフ
ルオロエチレン(PTFE)やナイロン66等の樹脂、
316Lステンレス等の金属、アルミナ、チッ化アルミ
等のセラミックス等を挙げることができるが、いずれに
しろ多孔質であり、通気性を有するものであれば特に限
定されるものではない。
【0024】また、このフィルター10は、粘着剤によ
り含浸されていてもよい。粘着剤により含浸されている
ことにより、フィルターを通過する異物を捕捉すること
ができ、かつフィルター内部で発生する異物のペリクル
内部への侵入を防止することができるからである。これ
により、ペリクル内部の異物を大幅に減少させることが
できる。この粘着剤の含浸量は、通気性を保つ程度であ
れば特に限定されるものではない。また、含浸される粘
着剤の種類も特に限定されるものではなく、例えばシリ
コーン系の粘着剤等を挙げることができる。
【0025】次に、本発明に用いるフィルターの形状に
ついて説明する。本発明において、切欠部内部に配置さ
れるフィルターの高さ(フィルターと切欠部とを接着す
る接着層を含む。)は、切欠部の高さと同じ高さである
ことが好ましい。これは、例えば図3に示すように切欠
部9をペリクル枠2の上端面に形成した場合、切欠部9
内に収納されるフィルター10の上端面にペリクル膜を
ペリクル枠2に接着させるための接着剤層4が形成され
る。ここで、フィルター10の高さが切欠部9の高さと
同じ高さである場合は、この接着剤層4を容易に平坦に
形成することができ、ペリクル膜を接着した場合にペリ
クル膜に不要な撓みやひずみを与えることがない。
【0026】また、例えば図4に示すように切欠部9が
ペリクル枠2の下端面に形成された場合、フィルター1
0の下端面にペリクル枠2を露光原版に密着するための
粘着層5が形成される。ここで、フィルター10の高さ
が切欠部9の高さと同じ高さである場合は、フィルター
10の下端面とペリクル枠2の下端面とを同一の平面と
することができる。したがって、粘着層5をフィルター
10の部分において容易に平面とすることができ、露光
原版との密着性を向上させることができる。
【0027】なお、ここでいうフィルター10には、上
述したようにフィルター10と切欠部9とを接着・固定
させるための接着層を含むものとする。したがって、フ
ィルター10の高さとは、フィルター10の高さに加え
て切欠部9の底部とフィルター10とを接着する接着層
を含む長さとなる。さらに、フィルター10の幅も切欠
部9の幅と同じ幅であることが好ましい。フィルター1
0の幅が切欠部9より小さい場合は、フィルター10と
切欠部9の側面との間に透き間が生じることになり、そ
こから異物が進入する可能性があるからである。
【0028】また、フィルターの厚みは、切欠部の厚み
と比較して同じかもしく小さいことが好ましい。これ
は、フィルターの厚みを、切欠部の厚みと同じかもしく
は小さくすることにより、フィルターがペリクル枠の外
周面から外側にはみ出すことがない。したがって、ペリ
クル枠外側からフィルターがはみ出した場合に、用いら
れる種々の治具等との接触により生ずるフィルターの損
傷・摩耗による異物の発生等がないからである。また、
同様に内周側にはみ出すこともないことから、内面側に
フィルターが突出した場合に生じる不具合、例えば異物
検査の場合に突出部が迷光の原因となり異物検査がしづ
らい等の不具合を生じない。なお、切欠部の厚みとは、
ペリクル枠の内周面から外周面までの距離をいうもので
あり、フィルターの厚みとはこれに相当するフィルター
の部分の長さをいう。
【0029】本発明のペリクルは、このようなフィルタ
ーが配置された切欠部を有するペリクル枠の上端面にペ
リクル膜が張設されてなるものである。本発明に用いら
れるペリクル膜を形成する材料としては、光をよく通過
させる材料であれば特に限定されるものではないが、例
えばニトロセルロース、酢酸セルロース、プロピオン酸
セルロース、変性ポリビニルアルコール、フッ素系ポリ
マーなどが好ましく、特に好ましくはフッ素系ポリマ
ー、中でもテトラフルオロエチレンとフッ化ビニリデン
との共重合体、テトラフルオロエチレンとヘキサフルオ
ロプロピレンとフッ化ビニリデンとの三元共重合体、テ
トラフルオロエチレンと環状パーフルオロエーテル基を
有する含フッ素モノマーとの共重合体等の非晶質フッ素
系ポリマーが好ましい。
【0030】このような非晶質フッ素系ポリマーは、高
い光線透過率を有しており、短波長から長波長領域まで
広く使用することができ、耐光性も優れているからであ
る。市販されている非晶質フッ素系ポリマーとしては、
サイトップ(旭硝子(株)製、商品名)、テフロンAF
(デュポン(株)製、商品名)等を挙げることができ
る。これらのポリマーは、ペリクル膜作製時に必要に応
じて溶媒に溶解して使用してもよく、例えばフッ素系の
溶媒などで適宜溶解した後、膜が形成される。
【0031】本発明においては、上記ペリクル膜をペリ
クル枠に接着するために、通常ペリクル枠の上端面に接
着剤層が設けられる。この接着剤層に用いられる接着剤
の種類については、特に制限はなく、接着を加熱して行
う場合は熱可塑性の樹脂や熱硬化性の樹脂が接着剤とし
て用いられ、光硬化を利用して接着を行う場合は、光硬
化型樹脂が接着剤として用いられる。このような接着剤
の例としては、アクリル樹脂接着剤、エポキシ樹脂接着
剤、シリコーン樹脂接着剤、含フッ素シリコーン接着剤
等のフッ素系ポリマー等を挙げることができ、中でもフ
ッ素系ポリマーが好ましい。具体的には、フッ素系ポリ
マーCT69(旭硝子(株)製、商品名)等を挙げるこ
とができる。
【0032】さらに、本発明においては、上記ペリクル
枠の下端面側に、露光原版に装着するための粘着層とこ
れを保護するためのライナーを設けてもよい。粘着層5
を形成する材料としては、両面粘着テープ、シリコーン
樹脂粘着剤、アクリル系粘着剤等を挙げることができ
る。また、ライナーに用いられる材料としては、例えば
ポリエチレンテレフタレート(PET)、PTFE、フ
ェノール−ホルムアルデヒド樹脂(PFA)、ポリエチ
レン(PE)、ポリカーカーボネート(PC)、塩化ビ
ニル、ポリプロピレン(PP)等を挙げることができ
る。
【0033】次に、このようなペリクルの製造方法につ
いて説明する。まず、上端面および/または下端面に少
なくとも一カ所溝状の切欠部を有するペリクル枠を準備
する。このペリクル枠は、予め切欠部を有する形状で成
形されたものであってもよく、また切欠部のないペリク
ル枠を成形後加工することにより、切欠部を形成しても
よい。
【0034】ここで用いらるペリクル枠としては、円形
のものでも方形のものでもよく、またその材質は特に限
定されるものではなく、例えばアルミ材に陽極酸化処理
を行ったもの、ステンレスなどの金属、ポリアセター
ル、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル(PM
MA)、アクリル樹脂、ポリエチレンなどの樹脂、青板
ガラス等の材料を挙げることができる。ペリクル枠表面
については、通常サンドブラストや化学研磨によって粗
化されるが、本発明においては、このペリクル枠表面の
粗化の方法についても特に限定されるものではない。例
えば、アルミ材を使用した場合には、カーボランダム、
ガラスビーズ等によって表面をブラスト処理し、さらに
NaOH等によって化学研磨を行い表面を粗化する方法
等が知られている。
【0035】ついで、このようなペリクル枠の切欠部に
フィルターを取り付ける。本発明においては、溝状の切
欠部内部にフィルターを取り付けるので、切欠部内部に
フィルターを配置、接着・固定することが、例えば通気
孔内部にフィルターを配置等することと比較して、容易
に行うことができる。すなわち、内部にフィルターを有
する通気機構を容易に形成することができるのである。
切欠部へのフィルターの取り付けは、フィルターに接着
剤もしくは粘着剤を塗布して接着層を設けた後、切欠部
内に配置することにより切欠部内にフィルターを接着・
固定する。上記接着剤もしくは粘着剤としては、特に限
定されるものではなく通常用いられる瞬間接着剤等を用
いることができる。フィルターに粘着剤を含浸させてい
る場合は、この粘着剤と同じ材料を用いてもよい。
【0036】このようにしてフィルターを取り付けたペ
リクル枠にペリクル膜を張設する。ペリクル膜のペリク
ル枠への接着は、従来より行われている方法により行う
ことができ、例えば熱融着法等が用いられる。また、ペ
リクル枠下端面には、露光原版に接着するための粘着層
を形成し、この粘着層の表面には粘着層を保護するため
のライナーが貼り付けられることにより、本発明のペリ
クルは製造される。
【0037】
【実施例】以下、本発明を実施例と比較例とを挙げて説
明する。 (実施例)初めに、ペリクル枠として、枠外寸149m
m×122mm×5.8mm、ペリクル枠厚さ2mmの
アルミニウム合金製フレームを用意した。このフレーム
の一端面に幅10mm、高さ3mmでペリクル枠外周側
から内周側に通じる直方体形状の溝を形成して溝状の切
欠部とした。このペリクル枠を表面洗浄した後、ガラス
ビーズを使用し、吐出圧1.5kgのサンドブラスト装
置にて10分間表面処理し、表面を粗化した。次いで、
NaOH処理浴中にて10秒間処理し洗浄した後、陽極
酸化、黒色染色、封孔処理して表面に黒色の酸化皮膜を
形成した。
【0038】このアルミニウム合金製のペリクル枠を純
水と超音波洗浄装置を併用して、洗浄した。次いで、こ
のペリクル枠の内周面にスプレーコーティング装置を用
いて、シリコーン系粘着剤を1μmコーティングした。
上記切欠部に、PTFE製で塵埃濾過サイズ(メッシュ
サイズ)が0.1μm、0.5μm、1.0μm、2.
0μmおよび3.0μmで、濾過効率が99.9999
%である5種類のフィルターを用意した。このフィルタ
ーの大きさは、幅9.5mm、高さ2.5mm、厚み
2.0mmであった。この5種類のフィルターをそれぞ
れ3面に接着剤を塗布してペリクル枠の切欠部内に密着
させ固定し、5種類のペリクル枠を得た。
【0039】次いで、テフロンAF1600(米国デュ
ポン社製、商品名)をフッ素系溶剤・フロリナートFC
−75(米国スリーエム社製、商品名)に溶解させて濃
度8重量%の溶液を調製した。次に、この溶液により、
直径200mm、厚さ200μmの鏡面研磨したシリコ
ン基板面に、スピンコーターを用いて膜の厚みが0.8
μmの透明膜であるペリクル膜を形成した。そして、こ
のペリクル膜と外寸200mm×200mm×5mm
幅、厚さ5mmの枠を有するペリクル製造用治具とを、
エポキシ系接着剤アラルダイトラピッド(昭和高分子
(株)製、商品名)を用いて接着させた後、水中でシリ
コン基板面から剥離した。
【0040】上記アルミニウム合金製のペリクル枠の一
端面にシリコーン系粘着剤を塗布し、100℃で10分
間加熱し乾燥硬化させ、粘着層を形成した。また、この
アルミニウム合金製ペリクル枠フレームの別な一端面上
にフッ素系溶媒CTソルブ180(旭硝子(株)製、商
品名)に希釈したフッ素系高分子ポリマーCTX(旭硝
子(株)製、商品名)を塗布し、100℃で10分間加
熱し乾燥・硬化させ接着剤層を形成した。また、PET
製ライナーを用意し、CCDカメラによる画像処理位置
決め機構を有するライナー貼り付け装置によってペリク
ル枠の上記粘着層上に貼り合わせした。
【0041】そして、上記テフロンAF1600のペリ
クル膜表面に、上記ペリクル枠の接着剤層を密着させた
後、IRランプにてペリクル枠を加熱してペリクル枠と
ペリクル膜とを融着させた。ペリクル枠とペリクル製造
用治具の枠との二つの枠はペリクル枠の接着面を上向き
にして固定用治具に取り付けて相対的に位置がずれない
ように固定した。次いで、ペリクル枠の外側のペリクル
製造用治具の枠を引き上げて固定し、ペリクル枠外側の
ペリクル膜に0.5g/cmの張力を加えた。
【0042】次いで、スカラーロボットに取り付けたカ
ッターにチューブ式ディスペンサを用いて、フロリナー
トFC75(デュポン社製、商品名)を毎分10マイク
ロリットル滴下しながら、前記ペリクル枠の接着剤層の
外周部に沿ってカッターを移動しながら、ペリクル枠外
側の不要なペリクル膜を切断・除去した。このようにし
て、5種類のフィルターが異なるペリクルを調製した。
【0043】完成したペリクルを、予め異物検査をした
マスク基板に貼り付けた。基板に貼り付けたペリクルを
基板と共に減圧チャンバー内にセットし、500mmH
gまで減圧し再び大気圧に戻した。大気圧に戻ったあ
と、超音波センサーによりペリクル膜の復元時間を調べ
た。また実験後、マスク基板上の異物を検査した。5種
類のペリクルそれぞれについて上記実験を繰り返した。
結果を表1にまとめる。
【0044】
【表1】
【0045】メッシュサイズが0.1μm〜3.0μm
の5種類のいずれのフィルターを用いた場合でも、10
分間以内の気圧調製時間により外気圧との差を無くすこ
とが可能であり、また、いずれのフィルターを用いた場
合もペリクル内に問題となるサイズの異物が侵入するこ
とはなかった。
【0046】(比較例)切欠部の代わりにペリクル枠を
貫通した0.5mmφの貫通穴を開け、これを外側から
覆うフィルターとして材質がPTFEで塵埃濾過サイズ
が、1.0μm、2.0μm、3.0μm、5.0μ
m、および10μmで濾過効率が99.9999%であ
る、幅9.5mm、高さ2.5mmのフィルターを用意
した以外は、実施例と同様にペリクルを作製し、実施例
と同様の方法で評価した。結果を表1にまとめる。表1
から明らかなように、メッシュサイズが3.0μmより
大きいサイズのフィルターでは、異物がペリクル内に侵
入した。また、メッシュサイズが3.0μmのフィルタ
ーですら気圧調製時間が10分間必要であった。この結
果より、比較例のペリクルではより微細な塵埃に対応で
きないことが明らかになった。
【0047】なお、本発明は、上記実施形態に限定され
るものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明
の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同
一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いか
なるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【0048】
【発明の効果】本発明は、内部にフィルターが配置され
た溝状の切欠部を上端面および/または下端面に少なく
とも一つ有するペリクル枠を具備するペリクルであるの
で、切欠部のサイズを自由に変更することが可能であ
る。したがって、ペリクル内に侵入した場合に問題とな
るサイズの異物を捕捉するようにフィルターのメッシュ
サイズを小さくしたとしても、切欠部を大きく形成する
ことによりフィルターの濾過面積を大きくさせることが
でき、十分に早くペリクル内外の気圧差を解消すること
ができる。また、通気孔を設けてその外側からフィルタ
ーを覆う方法ではないので、通気孔内壁に付着した異物
がペリクル内部に侵入することがない。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に用いられるペリクル枠の切欠部の一例
を示す斜視図である。
【図2】切欠部にフィルターが取り付けられた状態の本
発明に用いられるペリクル枠の一例を示す斜視図であ
る。
【図3】切欠部がペリクル枠の上端面に設けられた例を
示す側面図である。
【図4】切欠部がペリクル枠の下端面に設けられた例を
示す側面図である。
【図5】一般的なペリクルを示す断面図である。
【符号の説明】
1 … ペリクル、 2 … ペリクル枠、 3 …
ペリクル膜、4 … 接着剤層、 5 … 粘着層、
6 … ライナー、7 … ペリクル枠上端面、 8
… ペリクル枠下端面、9 … 切欠部、 10 …
フィルター。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 内部にフィルターが配置された溝状の切
    欠部を上端面および/または下端面に少なくとも一つ有
    するペリクル枠を具備することを特徴とするペリクル。
  2. 【請求項2】 上記切欠部の厚みに比較してフィルター
    の厚みが同じか小さいことを特徴とする請求項1に記載
    のペリクル。
  3. 【請求項3】 前記フィルターのメッシュサイズが、
    0.1μm〜3.0μmの範囲内であることを特徴とす
    る請求項1または請求項2に記載のペリクル。
  4. 【請求項4】 上記切欠部の形状が直方体形状であるこ
    とを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれか一
    項に記載のペリクル。
  5. 【請求項5】 上端面および/または下端面に溝状の切
    欠部を有するペリクル枠を形成する工程と、前記切欠部
    内にフィルターを配置する工程と、フィルターが配置さ
    れた切欠部を有するペリクル枠にペリクル膜を張設する
    工程とを有することを特徴とするペリクルの製造方法。
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