KR20060047206A - 페리클 프레임 및 그것을 이용한 포토리소그래피용 페리클 - Google Patents

Abstract

페리클막이나 접착층의 손상 및 입자의 발생을 효과적으로 막을 수 있고, 노광 원판에 대하여 균일하게 가압할 수 있는 페리클 프레임(Persicle Frame)을 제공한다.

상단면과 하단면을 갖고, 상단면에 페리클막을 부착하고, 하단면을 노광 원판에 부착하는 포토리소그래피용 페리클의 페리클 프레임으로서, 상기 프레임의 상단면에 있어서 전주 또는 일부에, 홈(2), 돌기, 또는 단차가 형성되어 있고, 상기 홈, 돌기, 또는 단차보다 내측에 접착층을 개재해서 페리클막을 부착하기 위한 영역(3)이 형성되어 있으며, 상기 홈, 돌기, 또는 단차보다 외측에 노광 원판에 대하여 상기 프레임을 가압하기 위한 영역(4)이 형성되어져 있는 것을 특징으로 하는 페리클 프레임(1).

Description

페리클 프레임 및 그것을 이용한 포토리소그래피용 페리클 {PERICLE FRAME AND PERICLE FOR PHOTOLITHOGRAPHY USING THE SAME}

도 1은, 본 발명에 따른 페리클 프레임의 일례를 나타내는 개략도로서, (A)는 평면도, (B)는 단면도.

도 2는, 본 발명에 따른 페리클 프레임의 다른 일례를 나타내는 개략도로서, (A)는 평면도, (B)는 단면도.

도 3은, 본 발명에 따른 페리클 프레임의 또 다른 일례를 나타내는 개략도로서, (A)는 평면도, (B)는 단면도.

도 4는, 도 3의 페리클 프레임에 부착한 페리클막을 나타내는 개략 단면도이다.

도 5는, 일반적인 페리클 프레임을 나타내는 개략도로서, (A)는 평면도, (B)는 단면도.

(부호의 설명)

1, 11, 21 : 페리클 프레임

2 : 홈

3, 13, 23 : 페이클을 부착하기 위한 영역

4, 14, 24 : 프레임을 가압하기 위한 영역

5 : 접착층

6 : 점착층

7 : 페리클막

12 : 돌기

22 : 단차

25 : 하단면

26 : 페리클

본 발명은 액정표시판 등을 제조할 때에, 노광 원판에 먼지막이로서 부착하는 페리클의 프레임에 관한 것으로, 특히, 한 변이 30cm 이상이 되는 대형 페리클 프레임에 관한 것이다.

종래, 액정표시판의 제조 공정의 하나로서 원판에 빛을 조사해서 패터닝을 행하는 포토리소그래피 공정이 있다. 최근 눈부시게 진보하고 있는 액정표시판의 제조에서는, 액정용 원판의 대형화가 진행됨과 아울러 패턴의 집적도도 높아져 오고 있다.

포토리소그래피 공정에서 이용하는 노광 원판에 입자 등의 먼지가 부착되어버리면, 입자가 빛을 흡수하거나, 빛을 구부려버리기 때문에, 입자가 전사되거나, 패턴이 변형되거나, 에지가 버석거린 것이 되는 것 외에, 흰 바탕이 검게 더럽혀지 거나 하는 등 치수, 품질, 외관 등이 손상되어, 액정표시판의 성능이나 제조 수율의 저하를 초래한다고 하는 문제가 생긴다.

포토리소그래피 공정에 관한 작업은 보통 클린룸에서 행하여지지만, 클린룸내에서도 노광 원판을 항상 청정하게 유지하는 것은 곤란하다. 그래서 노광 원판의 표면에의 입자의 부착을 피하기 위해, 노광 원판에 페리클을 부착해서 노광이 행하여진다.

일반적으로 페리클은, 예를 들면 도 5에 나타낸 바와 같은 알루미늄, 스텐레스, 철, 기타 금속으로 이루어지는 직사각형의 페리클 프레임(31)의 상단면(32)에, 노광용의 빛을 잘 통과시키는 니트로셀룰로오스, 초산 셀룰로오스, 비정질 불소계 수지 등으로 이루어지는 투명한 막(페리클막)을, 아크릴 수지나 에폭시 수지 등의 접착제로 접착시켜서 얻을 수 있다 (특허문헌 1, 특허문헌 2참조).

또한, 프레임(31)의 하단면(33)에는 노광 원판에 부착하기 위하여 스티렌-에틸렌-부타디엔-스티렌계의 수지, 폴리초산비닐 수지, 아크릴 수지, 실리콘 수지 등으로 이루어지는 점착층이 형성되고, 또한 점착층의 보호를 목적으로 한 세퍼레이터가 설치되어진다.

페리클을 노광 원판에 부착할 때에는, 세퍼레이터를 벗겨서 노광 원판의 소정의 위치에 부착하게 된다. 이것에 의해, 입자는 노광 원판의 표면에는 직접 부착되지 않고, 페리클막에 부착되게 된다. 그 때문에, 리소그래피시에 초점을 노광 원판 패턴상에 맞춰 두면, 페리클막에 부착된 입자가 전사되는 것을 막을 수 있다.

최근의 액정표시판의 제조 공정에 이용되어지는 포토리소그래피용 마스크 원 판에 사용되는 페리클은, 원판의 대형화에 따라 프레임의 한 변이 30㎝ 이상이 되는 대형 페리클이 사용되고 있고, 특히, 한 변이 1m를 초과하는 것도 있다. 이와 같은 대형 페리클을 노광 원판에 부착하는 경우에는, 예를 들면, 세퍼레이터를 박리해서 노광 원판의 소정의 위치에 둔 후, 페리클 프레임의 상단면의 외주부를 가압할 수 있는 부착용의 지그를 세트하고, 노광 원판에 대하여 지그를 통해서 가압한다. 또한, 대형 페리클을 노광 원판에 부착하기 위한 장치도 개발되어 있다(예를 들면, 마츠시타 세이키 가부시키가이샤 제품 상품명 「M515L」).

그러나, 페리클을 노광 원판에 확실하게 부착하기 위해 페리클 프레임의 상단면에 큰 하중을 가하면, 페리클막이나 접착층이 손상되는 것 외에, 입자가 발생하기 쉬워진다는 문제가 있다.

또한, 페리클이 대형화할수록, 페리클 전체를 노광 원판에 균일하게 가압하는 것이 어렵게 되고, 노광 원판에 정밀도 좋게 부착하는 것이 곤란해진다는 문제도 있다.

[특허문헌1] 미국 특허 제 4861402호 공보

[특허문헌2] 일본 특허공고 소 63-27707호 공보

본 발명은 상기와 같은 문제에 비추어 보아서 된 것이며, 페리클막이나 접착층의 손상 및 입자의 발생을 효과적으로 막을 수 있고, 노광 원판에 대하여 균일하게 가압할 수 있는 페리클 프레임을 제공하는 것을 주된 목적으로 한다.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따르면, 상단면과 하단면을 갖고, 상단면에 페리클막을 부착하고, 하단면을 노광 원판에 부착하는 포토리소그래피용 페리클의 페리클 프레임으로서, 상기 프레임의 상단면에 있어서, 전주 또는 일부에, 홈, 돌기, 또는 단차가 형성되어 있고, 상기 홈, 돌기, 또는 단차보다 내측에 접착층을 개재해서 페리클막을 부착하기 위한 영역이 형성되어 있으며, 상기 홈, 돌기, 또는 단차보다 외측에 노광 원판에 대하여 상기 프레임을 가압하기 위한 영역이 형성되어 있는 것임을 특징으로 하는 페리클 프레임이 제공된다(청구항 1).

이와 같이 상단면에 홈, 돌기, 또는 단차를 형성해서 두 개의 영역으로 나눈 페리클 프레임으로 하면, 홈 등보다 내측의 영역에만 접착층을 형성하여 페리클막을 부착할 수 있다.

또한, 상기와 같이 페리클막을 부착한 프레임을 노광 원판에 부착하는 때는, 홈 등보다 내측의 접착층을 가압하는 일 없이, 외측의 영역을 균일하게 가압해서 확실하게 부착할 수 있음과 아울러, 접착층의 손상이나 입자의 발생을 확실하게 막을 수 있다.

상기 페리클 프레임은, 적어도 한 변이 30㎝ 이상이 되는 직사각형의 것으로 할 수 있다(청구항 2).

이러한 대형 페리클 프레임을 갖는 페리클에서는, 노광 원판에 부착할 때에 특히 큰 하중이 필요하게 되지만, 본 발명과 같이 상단면에 홈 등을 형성한 것으로 하면, 페리클 프레임의 상단면의 외측부분을 선택적으로 정밀도 좋게 가압하는 것이 가능해져서, 특히 유효하게 된다.

상기 홈의 깊이는 50㎛ 이상으로 하는 것이 바람직하다(청구항 3).

프레임 상단면에 상기 깊이의 홈을 형성한 것으로 하면, 접착층을 형성할 때, 홈을 경계로 하여 접착제의 유출을 보다 확실하게 막을 수 있다.

또한, 상기 돌기의 높이는 1㎜ 이하로 하고(청구항 4), 상기 단차도 1㎜ 이하로 하는 것이 바람직하다(청구항 5).

프레임 상단면의 돌기 또는 단차의 크기를 1㎜ 이하로 하면, 핸들링이나 노광시에 지장이 생길 우려를 확실하게 막을 수 있다.

또한, 본 발명에 따르면, 포토리소그래피용 페리클로서, 적어도 페리클 프레임과, 상기 프레임의 상단면에 형성한 접착층과, 상기 접착층을 개재해서 상기 프레임에 부착된 페리클막을 갖고, 상기 프레임이 상기 본 발명에 따른 페리클 프레임이며, 상기 홈, 돌기, 또는 단차보다 내측이 되는 상단면에 접착층이 형성되어 있으며, 상기 접착층을 개재해서 페리클막이 부착되어 있는 것을 특징으로 하는 포토리소그래피용 페리클이 제공된다(청구항 6).

이와 같이 본 발명에 관한 페리클 프레임을 사용한 페리클로 하면, 노광 원판에 부착할 때에 홈 등보다 내측에 형성된 접착층을 가압하는 일 없이, 상단면이 노출된 외측의 영역만을 가압해서 노광 원판에 균일하게 부착할 수 있다. 그 때문에, 특히 대형 페리클이라도 접착층의 손상이나 입자의 발생을 막음과 아울러 노광 원판에 확실하게 부착할 수 있다.

이하, 본 발명에 따른 페리클 프레임 및 페리클에 관하여, 첨부한 도면을 참조하면서 구체적으로 설명한다.

본 발명의 완성에 앞서, 본 발명자들은 페리클 프레임에 관하여 페리클막을 부착하기 위한 접착층의 폭을 적정하게 컨트롤 할 수 있고, 또한, 프레임의 상단면 내측 끝까지 형성시키는 것 등 여러가지 검토를 행하였다. 그 결과, 페리클 프레임의 상단면에 소정의 구조, 다시 말해, 홈, 돌기, 또는 단차를 형성하는 것에 의해, 접착제의 도포면적을 감소시킬 뿐만 아니라, 표면장력 등에 의해 액상의 접착제의 퍼짐이 억제되어, 홈 등보다 내측의 영역에만 접착층을 형성시킬 수 있는 것을 찾아냈다. 또한, 이와 같이 상단면에 홈 등을 형성한 페리클 프레임으로 하면, 페리클막을 부착해서 페리클로 한 후, 홈 등보다 외측의 영역을 가압함으로써, 내측의 접착층을 가압하지 않고, 노광 원판에 균일하게 부착할 수 있는 것을 찾아내어 본 발명을 완성하기에 이른 것이다.

도 1의 (A), (B)부분은, 본 발명에 관한 페리클 프레임의 일례를 나타낸 것이다. 이 페리클 프레임(1)은, 상단면의 전주에 걸쳐 한 개의 홈(2)이 형성되어 있다. 홈(2)보다 내측은 접착층을 개재해서 페리클막을 부착하기 위한 영역(3)이 되고, 홈(2)보다 외측은 노광 원판에 대하여 프레임(1)을 가압하기 위한 영역(4)이 된다.

다시 말해, 프레임(1)의 상단면에 도 1과 같은 홈(2)이 형성되어 있으면, 액상의 접착제를 내측의 영역(3)에 정밀도 좋게 도포할 수 있고, 홈(2)의 경계부에 있어서의 표면장력 등에 의해 외측영역(4)으로의 접착제의 유출이나 퍼짐을 막을 수 있다. 따라서, 홈(2)보다 내측의 영역(3)에만 접착층을 손쉽게 형성하고, 이 접착층을 개재해서 페리클막을 부착할 수 있다.

한편, 홈(2)보다 외측의 영역(4)에는 접착층이 형성되지 않고, 프레임(1)의 표면이 노출된 상태가 된다. 특히, 프레임(1)의 한 변이 30㎝ 이상이 되는 대형 페리클이 되면, 노광 원판(레티클)에 부착할 때, 프레임(1)의 상단면에 높은 압력을 가할 필요가 있지만, 홈(2)의 외측의 노출된 상단면을 부착 지그 등에 의해 균일하게 가압할 수 있고, 원판에 정밀도 좋게 또한 확실하게 부착할 수 있다.

또한, 대형 페리클을 노광 원판에 부착하는 경우, 페리클에는 매우 높은 평탄도가 요구되지만, 접착층이나 페리클막을 개재하지 않고 페리클 프레임(1)의 상단면을 직접 또한 균일하게 가압할 수 있기 때문에 부착한 후의 페리클은 매우 고평탄도의 것이 된다.

그리고 접착층 등을 가압한 경우와 같이, 지그의 흔적이나 손상이 남기 어렵고, 입자의 발생도 효과적으로 막을 수 있다.

또한, 페리클의 수송, 보관시에 케이스에 수납하는 경우에도, 프레임(1)이 노출된 상면의 외측을 강하게 누른 상태로 수납할 수 있고, 페리클의 핸들링의 때에도 외주부를 파지함으로써 페리클막 등에 흔적이나 손상을 입히지 않고, 입자의 발생을 효과적으로 억제할 수 있다.

또한, 접착제층을 페리클 프레임(1)의 상단면 내측에만 형성시킬 수 있기 때문에, 접착제로부터 발생하는 아웃 가스를 최소한으로 억제하는 효과도 있다.

또한, 홈(2)의 단면형상은 도 1(B)에 나타낸 바와 같은 삼각형 뿐만 아니라, 이것과 같은 효과를 갖는 형상, 예를 들면 사각형, 반원형 혹은 반타원형 등이여도 좋다.

홈(2)의 깊이나 폭은, 페리클 프레임의 크기나 접착제의 점도 등에 따라 적절하게 정하면 되지만, 홈(2)이 지나치게 얕으면 표면장력에 의해 접착제를 고정하는 효과를 충분히 얻을 수 없을 우려가 있으므로, 홈(2)의 깊이는 50㎛ 이상으로 하는 것이 바람직하다. 또한, 홈(2)의 폭도 같은 이유에서 50㎛ 이상으로 하는 것이 바람직하다.

홈(2)의 위치는 프레임(1)의 폭(두께) t 등에도 의하지만, 홈(2)보다 내측의 영역(3)이 지나치게 좁으면 페리클막을 부착하기 어려워진다. 한편, 홈(2)보다 외측의 영역(4)이 지나치게 좁으면, 노광 원판에 대하여 가압하기 어려워진다. 이들의 관점에서, 각 영역(3, 4)의 폭이 1㎜ 이상이 되도록 홈(2)을 형성하는 것이 바람직하다.

한편, 프레임(1)의 재질은 페리클 프레임으로서 사용되고 있는 것이면 특별히 한정되지 않고, 알루미늄 합금, 스텐레스, 스텐레스강 등을 사용할 수 있다.

도 2는, 본 발명에 관한 페리클 프레임의 다른 예를 나타낸 것이다. 이 페리클 프레임(11)은, 상단면의 전주에 걸쳐 일련의 돌기(12)가 형성되어 있다. 돌기(12)보다 내측은 접착층을 개재해서 페리클막을 부착하기 위한 영역(13)이 되고, 돌기(12)보다 외측은 노광 원판에 대하여 프레임(11)을 가압하기 위한 영역(14)이 된다.

이와 같이 프레임(11)의 상단면에 돌기(12)가 형성된 페리클 프레임(11)이면, 돌기(12)보다 내측의 영역(13)에 도포한 접착제가, 돌기(12)보다 외측의 영역(14)에 유출하는 것을 한층 더 효과적으로 막을 수 있고, 내측의 영역(13)에만 접 착층을 형성할 수 있다.

이와 같은 돌기(12)의 단면형상도, 상기 홈(2)과 마찬가지로 삼각형 뿐만 아니라, 이것과 같은 효과를 갖는 형상, 예를 들면 사각형, 반원형, 반타원형 등의 단면형상의 것으로 할 수 있다.

또한, 돌기(12)를 필요이상으로 높게 하면, 핸들링이나 리소그래피의 때에 지장이 생길 우려가 있으므로, 돌기(12)의 높이는 1.0㎜ 이하로 하는 것이 바람직하다. 단, 접착제의 유출을 확실하게 막기 위해서 돌기(12)의 높이는 0.1㎜ 이상으로 하는 것이 바람직하다.

도 3은, 본 발명에 관한 페리클 프레임의 또 다른 예를 나타낸 것이다. 이 페리클 프레임(21)은, 상단면의 전주에 걸쳐 일련의 단차(22)가 형성되어 있다. 단차(22)보다 내측은 접착층을 개재해서 페리클막을 부착하기 위한 영역(23)이 되고, 단차(22)보다 외측은 노광 원판에 대하여 프레임(21)을 가압하기 위한 영역(24)이 된다.

이 경우도 상기 홈(2)이나 돌기(12)를 형성한 경우와 같은 효과를 얻을 수 있다. 또한, 이와 같은 상단면의 단차(22)도, 필요이상으로 크게 하면 핸들링이나 리소그래피의 때에 지장이 생길 우려가 있으므로, 1.0㎜ 이하로 하는 것이 바람직하고, 또한, 접착제의 유출을 막기 위해서 0.1㎜ 이상으로 하는 것이 바람직하다.

또한, 프레임 상단면의 단차는 도 3에 나타내는 바와 같은 프레임(21)의 내측이 외측보다 높아지는 형상 뿐만 아니라, 내측이 외측보다 낮아지는 형상으로 하여도 좋고, 수직의 단차에 한하지 않고, 경사가 있는 단차로 하여도 좋다.

도 4는, 도 3에 나타낸 페리클 프레임(21)에 페리클막(7)을 부착해서 페리클(26)로 한 개략을 나타내고 있다.

프레임(21)의 상단면에 있어서 단차(22)보다 내측이 되는 영역(23)에 접착제를 도포해서 접착층(5)이 형성되고, 프레임(21)의 하단면(25)에는 노광 원판에 부착하기 위한 점착층(6)이 형성되어져 있다. 그리고, 상단면의 접착층(5)을 개재해서 페리클막(7)을 부착함으로써 페리클(26)로 할 수 있다.

이와 같은 페리클(26)로 하면, 노광 원판의 소정의 위치에 적재하고, 노광 원판에 대하여, 접착층(5)이 형성되어 있지 않은 상단면의 외측의 영역(24)을 지그 등에 의해 균일하게 가압할 수 있고, 원판에 정밀도 좋게 또한 확실하게 부착할 수 있다.

이하, 본 발명의 실시예 및 비교예에 대해서 설명한다.

(실시예1)

페리클 프레임으로서 높이 5.5㎜, 긴 변의 길이 782.0㎜, 짧은 변의 길이 474.0㎜, 긴 변의 두께(폭) 9.0㎜, 짧은 변의 두께(폭) 7.0㎜이며, 표면을 알루마이트 처리한 알루미늄 합금제의 프레임을 준비하고, 도 1에 나타내는 바와 같은 홈을, 홈의 중심이 상단면의 전주에 걸쳐 내측의 가장자리로부터 3㎜의 위치가 되고, 폭 0.5㎜, 깊이 0.3㎜로 되도록 형성했다.

이 페리클 프레임의 상단면에 있어서의 홈(2)에 의해 구분된 내측의 영역에 접착제로서 실리콘 점착제 KR - 3700(신에쓰 가가꾸 고교(주)제)의 15% 톨루엔 용액을, 내경 0.3㎜의 니들을 갖는 디스펜서를 사용하여, 두께가 0.2㎜이고 표면이 평활하게 되도록 도포했다.

한편, 프레임의 하단면에는 점착제로서 실리콘계 점착제를 도포한 후, 120℃에서 30분간 가열하고, 접착제 및 점착제를 큐어했다. 가열 종료후, 접착제가 도포된 페리클 프레임 상단면을 관찰한 바, 접착층이 프레임 전주에 걸쳐 내측으로부터 홈의 끝을 따라 최대폭 약 2.8㎜로 거의 균일하게 형성되어 있었다.

다음에, 페리클막으로서 4.0㎛ 두께의 사이톱 CTX - S type(아사히가라스(주)제)의 박막을 준비하고, 먼저 페리클 프레임의 상단면에 형성한 접착층을 개재해서 부착했다.

이와 같이 하여 얻어진 페리클을 노광 원판상의 소정의 위치에 두고, 페리클 프레임의 상단면의 외주부를 2㎜의 폭으로 누를 수 있는 부착 지그를 세트했다. 그리고 부착 지그에 의해, 노광 원판에 대하여 페리클 프레임을 30㎏, 3분간의 가중에 의해 부착했다.

이와 같이 하여 노광 원판에 부착한 페리클을 노광 원판과 함께 투광기로 비추어 보아, 페리클막 및 페리클 프레임의 상단면을 관찰한 바, 입자는 발견되지 않았다. 또한 접착층 및 페리클막에는 흠집 등의 결함은 보여지지 않았다.

(실시예2)

실시예1에서 사용한 프레임과 같은 사이즈로, 표면을 알루마이트 처리한 알루미늄 합금제의 프레임을 준비하고, 내측으로부터 3㎜의 곳에 폭 0.5㎜, 높이 0.3㎜의 도 2에 나타내는 바와 같은 돌기를 형성했다.

이 페리클 프레임의 상단면에 있어서 돌기에 의해 구분된 내측의 영역에, 실 시예1과 마찬가지로 해서 실리콘 접착제를 도포했다.

한편, 프레임의 하단면에 실리콘계 점착제를 도포한 후, 120℃에서 30분간 가열하고, 접착제 및 점착제를 큐어했다.

가열 종료후, 접착제가 도포된 페리클 프레임의 상단면을 관찰한 바, 접착층이 프레임 전주에 걸쳐 내측으로부터 돌기를 따라 최대폭 2.7㎜로 거의 균일하게 형성되어 있었다.

다음에, 페리클막으로서 4.0㎛ 두께의 사이톱 CTX - S type (아사히가라스(주)제)의 박막을 준비하고, 먼저 페리클 프레임의 상단면에 형성한 접착층을 개재해서 부착했다.

이와 같이 하여 얻어진 페리클을 노광 원판상의 소정의 장소에 두고, 실시 예1에서 사용한 부착 지그를 세트해서 노광 원판에 부착했다.

이와 같이 하여 노광 원판에 부착한 페리클의 페리클막 및 페리클 프레임 상단면을 관찰한 바, 입자나 결함은 보여지지 않았다.

(실시예3)

실시예1에서 사용한 프레임과 같은 사이즈로, 표면을 알루마이트 처리한 알루미늄 합금제의 프레임을 준비하고, 내측으로부터 3㎜의 곳에, 내측이 외측보다 높아지도록, 높이 0.3㎜, 경사 45°의 단차가 형성된 페리클 프레임을 제작했다.

이 프레임의 상단면에 있어서 단차에 의해 구분된 내측의 영역에는, 실시예1과 마찬가지로 해서 실리콘 접착제를 도포하고, 프레임의 하단면에는 실리콘계 점착제를 도포했다. 그리고 120℃에서 30분간 가열해서 접착제 및 점착제를 큐어했 다.

가열 종료후, 접착제가 도포된 페리클 프레임의 상단면을 관찰한 바, 접착층이 프레임 전주에 걸쳐 내측으로부터 단차를 따라 최대폭 2.9㎜로 거의 균일하게 형성되어 있었다.

다음에, 페리클막으로서 4.0㎛ 두께의 사이톱 CTX - S type(아사히가라스(주)제)의 박막을, 먼저 페리클 프레임의 상단면에 실시한 접착층을 개재해서 부착했다.

이와 같이 하여 얻어진 페리클을, 실시예1과 마찬가지로 노광 원판에 부착해서 페리클막 및 페리클 프레임 상단면을 관찰한 바, 입자나 결함은 보여지지 않았다.

(비교예1)

실시예1과 같은 사이즈의 프레임으로, 표면을 알루마이트 처리한 알루미늄 합금의 페리클 프레임을 준비하고, 상단면은 도 5에 나타낸 바와 같이 평탄한 상태로 했다.

이 프레임의 상단면에 실시예1과 마찬가지로 실리콘 접착제를 도포하고, 이어서 프레임 저면에 실리콘계의 점착제를 도포한 후, 120℃에서 30분간 가열해서 접착제 및 점착제를 큐어했다.

가열 종료후, 프레임의 상단면을 관찰한 바, 프레임 전주에 걸쳐 상단면 전체에 접착층이 거의 균일하게 형성되어 있었다.

다음에, 페리클막으로서 4.0㎛ 두께의 사이톱 CTX - S type(아사히가라스( 주)제)의 박막을, 먼저 페리클 프레임의 상단면에 형성한 접착층을 개재해서 부착했다.

이와 같이 하여 얻어진 페리클을 노광 원판상의 소정의 위치에 두고, 실시예1에서 사용한 부착 지그에 의해, 노광 원판에 대하여 페리클 프레임을 30㎏, 3분간의 가중에 의해 부착했다.

페리클을 노광 원판과 함께 투광기로 비추어 보아, 페리클막 등을 관찰한 바, 부착 지그에 의해 가압된 부분에는 가압에 의해 변형한 흔적이 남아 있었다. 또한, 부착 지그에 의해 가압되지 않은 접착층의 내측에는 다수의 입자가 보여지고, 페리클막의 프레임 근방에도 부착 지그에 의한 가압시에 발생했다고 생각되어지는 입자가 다섯 개 관찰되었다.

또한, 본 발명은 상기 실시형태에 한정되는 것은 아니다. 상기 실시형태는 단순한 예시이며, 본 발명의 특허청구의 범위에 기재된 기술적 사상과 실질적으로 동일한 구성을 갖고, 같은 작용 효과를 나타내는 것은, 어떠한 것이여도 본 발명의 기술적 범위에 포함된다.

예를 들면, 상기 실시형태에서는, 프레임의 전주에 홈, 돌기 또는 단차를 형성한 것에 대하여 설명했지만, 상기 홈 등은, 상단면에 단속적으로 형성하는 등, 일부에 형성한 것으로 하여도 좋다.

또한, 본 발명에 관한 페리클 프레임은, 예를 들면 반도체 디바이스의 제조에 있어서의 포토리소그래피용의 페리클에도 적절하게 사용할 수 있다.

본 발명에 의한 상단면의 소정의 위치에 홈, 돌기, 또는 단차를 형성한 페리클 프레임이면, 홈 등보다 내측에만 접착제를 도포해서 접착층을 형성시킬 수 있다. 또한, 노광 기판에 부착할 때, 페리클막이나 접착층을 손상하는 일 없이, 프레임의 상단면에 있어서의 홈 등보다 외측의 영역을 강하게 가압할 수 있고, 페리클을 노광 원판에 고정밀도 또한 균일하게 부착할 수 있다.

Claims (6)

1. 상단면과 하단면을 갖고, 상단면에 페리클막을 부착하고, 하단면을 노광 원판에 부착하는 포토리소그래피용 페리클의 페리클 프레임으로서, 상기 프레임의 상단면에 있어서 전주 또는 일부에 홈, 돌기, 또는 단차가 형성되고 있어, 상기 홈, 돌기, 또는 단차보다 내측에 접착층을 개재해서 페리클막을 부착하기 위한 영역이 형성되어 있고, 상기 홈, 돌기, 또는 단차보다 외측에 노광 원판에 대하여 상기 프레임을 가압하기 위한 영역이 형성되어 있는 것임을 특징으로 하는 페리클 프레임.
2. 제 1항에 있어서, 상기 페리클 프레임이, 적어도 한 변이 30㎝ 이상으로 되는 직사각형의 것임을 특징으로 하는 페리클 프레임.
3. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 홈의 깊이가 50㎛ 이상인 것을 특징으로 하는 페리클 프레임.
4. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 돌기의 높이가 1㎜ 이하인 것을 특징으로 하는 페리클 프레임.
5. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 단차가 1㎜ 이하인 것을 특징으로 하는 페리클 프레임.
6. 포토리소그래피용 페리클로서, 적어도 페리클 프레임과, 상기 프레임의 상단면에 형성한 접착층과, 상기 접착층을 개재해서 상기 프레임에 부착된 페리클막을 갖고, 상기 프레임이 상기 제 1항 내지 제 5항 중 어느 한 항에 기재된 페리클 프레임이며, 상기 홈, 돌기, 또는 단차보다 내측이 되는 상단면에 접착층이 형성되어 있고, 상기 접착층을 개재해서 페리클막이 부착되어 있는 것임을 특징으로 하는 포토리소그래피용 페리클.

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