JPS6320989Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6320989Y2 JPS6320989Y2 JP1985117931U JP11793185U JPS6320989Y2 JP S6320989 Y2 JPS6320989 Y2 JP S6320989Y2 JP 1985117931 U JP1985117931 U JP 1985117931U JP 11793185 U JP11793185 U JP 11793185U JP S6320989 Y2 JPS6320989 Y2 JP S6320989Y2
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- Japan
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- pellicle
- frame
- membrane
- dust
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- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Description
【考案の詳細な説明】
〔概要〕
ホトマスク、レチクルのためのペリクルフレー
ムをテーパをもたせた形状にし、ゴミの取り易さ
と洗浄時の洗浄液の落ち(きれ)を良くする。
ムをテーパをもたせた形状にし、ゴミの取り易さ
と洗浄時の洗浄液の落ち(きれ)を良くする。
本考案はペリクルフレームに関するもので、更
に詳しく言えば、ペリクルフレームを従来の垂直
型のものからテーパをもたせた構造としたものに
関する。
に詳しく言えば、ペリクルフレームを従来の垂直
型のものからテーパをもたせた構造としたものに
関する。
第2図aとbの斜視図と正面断面図に示される
ペリクルフレームは知られたものであり、同図に
おいて、21はペリクルフレーム、22はペリク
ル膜、23はレチクルをそれぞれ示す。ペリクル
(Pellicle)とは、それに照射された光の一部を反
射し、残りの部分を透過させる光のビームを分離
する場合などに用いられるものであるが、露光関
係の分野では光を透過させる透明な薄膜をペリク
ル膜と呼称する。第2図bに示される如く、使用
いおいてはレチクル23の両側にペリクルフレー
ムが配置され、図に見て上方の光学系からの光は
ペリクル膜/レチクル/ペリクル膜を通つて例え
ば下方に配置されたウエハ上に照射される。
ペリクルフレームは知られたものであり、同図に
おいて、21はペリクルフレーム、22はペリク
ル膜、23はレチクルをそれぞれ示す。ペリクル
(Pellicle)とは、それに照射された光の一部を反
射し、残りの部分を透過させる光のビームを分離
する場合などに用いられるものであるが、露光関
係の分野では光を透過させる透明な薄膜をペリク
ル膜と呼称する。第2図bに示される如く、使用
いおいてはレチクル23の両側にペリクルフレー
ムが配置され、図に見て上方の光学系からの光は
ペリクル膜/レチクル/ペリクル膜を通つて例え
ば下方に配置されたウエハ上に照射される。
ペリクルフレーム21は一般にアルミニウムま
たは硬質樹脂で作られた枠で中空になつており、
その一方側にペリクル膜22が貼り付けてある。
ペリクル膜はレチクルやホトマスクなどをゴミの
汚染から保護するためのもので、レチクルの両側
に第2図bに示す状態でレチクルを保護し、また
露光時も前述した如く第2図bに示した状態で使
用される。
たは硬質樹脂で作られた枠で中空になつており、
その一方側にペリクル膜22が貼り付けてある。
ペリクル膜はレチクルやホトマスクなどをゴミの
汚染から保護するためのもので、レチクルの両側
に第2図bに示す状態でレチクルを保護し、また
露光時も前述した如く第2図bに示した状態で使
用される。
ペリクル膜は使用の前に空気またはガスを吹き
付けて(パージ)その外側がきれいに保たれる。
しかし、ゴミを皆無にすることは難しく、露光時
にペリクル膜の上にゴミ24aが付着したままで
あることがある。しかし、露光時には光学系の焦
点をレチクルに合せ、レチクルのパターン23a
をウエハ上に投影するものであるので、ペリクル
膜上のゴミは特に問題にならない。しかし、ゴミ
24bがレチクル上にあると、そのゴミはウエハ
上に投影され、集積回路(IC)形成の妨げとな
る。
付けて(パージ)その外側がきれいに保たれる。
しかし、ゴミを皆無にすることは難しく、露光時
にペリクル膜の上にゴミ24aが付着したままで
あることがある。しかし、露光時には光学系の焦
点をレチクルに合せ、レチクルのパターン23a
をウエハ上に投影するものであるので、ペリクル
膜上のゴミは特に問題にならない。しかし、ゴミ
24bがレチクル上にあると、そのゴミはウエハ
上に投影され、集積回路(IC)形成の妨げとな
る。
〔考案が解決しようとする問題点〕
ペリクル膜22をペリクルフレーム21に貼り
付けるとき、ゴミ24cが第2図cの左に示す如
くペリクル膜22の内側に付着していたとする
と、露光時にそのゴミ24cがレチクル23上に
落下し、そこに留まつて前記した如くゴミ24c
がウエハ上に投影されるおそれがある。そこで、
ペリクル膜を貼り付けた後にペリクル膜22の内
側と外側とを洗浄する。ペリクル膜の外側にある
ゴミは重大な問題にならぬとしても、ペリクル膜
は清浄であることが好ましいので、その内側のみ
ならず外側も洗浄する。そのとき、ペリクルフレ
ーム21が従来の中空柱状(また箱状)のフレー
ムが水平面に対し垂直なものであると、洗浄後に
洗浄液が落ちきれず(または十分にきれないで)
洗浄液25が第2図cの右側に示される如くフレ
ームの近くのペリクル膜上に残存する。この中に
ゴミが含まれていると、洗浄液が乾いたときゴミ
と洗浄剤の乾燥したものがそのまま残り、それが
レチクル上に落下して前記した問題を惹起するお
それがある。また、空気またはガスをゴミをパー
ジしようとするとき、ペリクル膜がフレームと接
する部分は図示の如く隅の直角部分であるので、
そこにはゴミが溜り易い問題がある。
付けるとき、ゴミ24cが第2図cの左に示す如
くペリクル膜22の内側に付着していたとする
と、露光時にそのゴミ24cがレチクル23上に
落下し、そこに留まつて前記した如くゴミ24c
がウエハ上に投影されるおそれがある。そこで、
ペリクル膜を貼り付けた後にペリクル膜22の内
側と外側とを洗浄する。ペリクル膜の外側にある
ゴミは重大な問題にならぬとしても、ペリクル膜
は清浄であることが好ましいので、その内側のみ
ならず外側も洗浄する。そのとき、ペリクルフレ
ーム21が従来の中空柱状(また箱状)のフレー
ムが水平面に対し垂直なものであると、洗浄後に
洗浄液が落ちきれず(または十分にきれないで)
洗浄液25が第2図cの右側に示される如くフレ
ームの近くのペリクル膜上に残存する。この中に
ゴミが含まれていると、洗浄液が乾いたときゴミ
と洗浄剤の乾燥したものがそのまま残り、それが
レチクル上に落下して前記した問題を惹起するお
それがある。また、空気またはガスをゴミをパー
ジしようとするとき、ペリクル膜がフレームと接
する部分は図示の如く隅の直角部分であるので、
そこにはゴミが溜り易い問題がある。
ペリクル膜22をペリクルフレーム21に貼り
付けるとき、ペリクルフレームが現在の形状のも
のであると作業者の指でペリクル膜をペリクルフ
レームに押し付けて貼らなければならない。ペリ
クル膜は前記した如く薄い膜であるので、この貼
付けのときにペリクル膜が破損され易いという問
題もある。
付けるとき、ペリクルフレームが現在の形状のも
のであると作業者の指でペリクル膜をペリクルフ
レームに押し付けて貼らなければならない。ペリ
クル膜は前記した如く薄い膜であるので、この貼
付けのときにペリクル膜が破損され易いという問
題もある。
本考案はこのような点に鑑みて創作されたもの
で、ゴミが溜り難く、洗浄のとき洗浄液の落ちま
たはきれが良く、ペリクルフレームに貼り付ける
ときペリクル膜の破損のおそれがないペリクルフ
レームを提供することを目的とする。
で、ゴミが溜り難く、洗浄のとき洗浄液の落ちま
たはきれが良く、ペリクルフレームに貼り付ける
ときペリクル膜の破損のおそれがないペリクルフ
レームを提供することを目的とする。
第1図aは本考案実施例の斜視図、同図bは当
該実施例の正面断面図、同図cは同図aのペリク
ル膜がペリクルフレームに接する部分の拡大断面
図である。
該実施例の正面断面図、同図cは同図aのペリク
ル膜がペリクルフレームに接する部分の拡大断面
図である。
第1図において、ペリクル膜12が貼り付けら
れるペリクルフレーム11は、中空の枠状の構造
であるが、ペリクル膜の貼り付けられた側から外
方にテーパして末広がりになる構造のものであ
る。
れるペリクルフレーム11は、中空の枠状の構造
であるが、ペリクル膜の貼り付けられた側から外
方にテーパして末広がりになる構造のものであ
る。
上記のペリクルフレームにおいては、ペリクル
フレームにテーパが付けてあるので、ペリクル膜
を貼り付けたところでは同膜とペリクルフレーム
が形成する角は鈍角であるので、ゴミが溜り難
く、また空気、ガスでパージするとゴミは容易に
除去され、また洗浄液の落ちも良くなるのであ
る。
フレームにテーパが付けてあるので、ペリクル膜
を貼り付けたところでは同膜とペリクルフレーム
が形成する角は鈍角であるので、ゴミが溜り難
く、また空気、ガスでパージするとゴミは容易に
除去され、また洗浄液の落ちも良くなるのであ
る。
以下、図面を参照して本考案の実施例を詳細に
説明する。
説明する。
本考案においては、第1図aとbに見られる如
く、ペリクルフレーム11を、ペリクル膜12が
貼り付けられたところから図に見て下方にテーパ
を付け、ペリクルフレーム11がペリクル膜に接
する側から外側に末広がりになるよう形成する。
ペリクルフレーム11の1辺とペリクル膜12が
なす角αは90℃より大であればよいが、図示の例
ではαは約120℃に設定した。なお、ペリクルフ
レーム11は第2図bに示した如くにレチクルと
共に使用されるが、ホトマスクのためにも使用可
能である。
く、ペリクルフレーム11を、ペリクル膜12が
貼り付けられたところから図に見て下方にテーパ
を付け、ペリクルフレーム11がペリクル膜に接
する側から外側に末広がりになるよう形成する。
ペリクルフレーム11の1辺とペリクル膜12が
なす角αは90℃より大であればよいが、図示の例
ではαは約120℃に設定した。なお、ペリクルフ
レーム11は第2図bに示した如くにレチクルと
共に使用されるが、ホトマスクのためにも使用可
能である。
このようにペリクルフレームを形成することに
より、先ず、ペリクル膜11を貼り付けるとき、
ペリクル膜12に触れることなく、ペリクルフレ
ーム11を押すことによつて貼付けが可能になる
ので、ペリクル膜の破損が防止される。
より、先ず、ペリクル膜11を貼り付けるとき、
ペリクル膜12に触れることなく、ペリクルフレ
ーム11を押すことによつて貼付けが可能になる
ので、ペリクル膜の破損が防止される。
第2に、ペリクル膜12とペリクルフレーム1
1の接触部が前記した如く鈍角に開いているの
で、ゴミが溜り難くなる。
1の接触部が前記した如く鈍角に開いているの
で、ゴミが溜り難くなる。
洗浄について説明すると、第1図cの左側に示
される如く、洗浄時にペリクル膜がペリクルフレ
ームに接する部分の近くにゴミ13があつても、
それは洗浄水によつて運び去られ、洗浄液は同図
の右側に示される如く矢印Aに沿つて流れるの
で、落ちまたはきれが良い。洗浄液には水また洗
浄剤溶液を用いる。また、洗浄後にゴミ13が図
示の場所に位置したとしても、それは空気または
ガスの吹付け(パージ)によつて容易に除去され
る。
される如く、洗浄時にペリクル膜がペリクルフレ
ームに接する部分の近くにゴミ13があつても、
それは洗浄水によつて運び去られ、洗浄液は同図
の右側に示される如く矢印Aに沿つて流れるの
で、落ちまたはきれが良い。洗浄液には水また洗
浄剤溶液を用いる。また、洗浄後にゴミ13が図
示の場所に位置したとしても、それは空気または
ガスの吹付け(パージ)によつて容易に除去され
る。
以上述べてきたように、本考案によれば、ゴミ
が溜り難くなり、洗浄後に洗浄液が流れ易くな
り、ペリクル膜をきれいな状態で保管し使用する
ことが可能になり、またペリクル膜を貼り付ける
ときペリクル膜の破損が防止され、半導体装置製
造の歩留りと信頼性の向上に効果がある。
が溜り難くなり、洗浄後に洗浄液が流れ易くな
り、ペリクル膜をきれいな状態で保管し使用する
ことが可能になり、またペリクル膜を貼り付ける
ときペリクル膜の破損が防止され、半導体装置製
造の歩留りと信頼性の向上に効果がある。
第1図aは本考案実施例の斜視図、第1図bは
本考案実施例の正面断面図、第1図cは本考案実
施例のパージと洗浄状態を示す断面図、第2図a
は従来例の斜視図、第2図bは従来例とレチクル
の断面図、第2図cは従来例のパージと洗浄状態
を示す断面図である。 第1図において、11はペリクルフレーム、1
2はペリクル膜、13はゴミである。
本考案実施例の正面断面図、第1図cは本考案実
施例のパージと洗浄状態を示す断面図、第2図a
は従来例の斜視図、第2図bは従来例とレチクル
の断面図、第2図cは従来例のパージと洗浄状態
を示す断面図である。 第1図において、11はペリクルフレーム、1
2はペリクル膜、13はゴミである。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 ペリクル膜12を貼り付けた状態でレチクル、
ホトマスクなどの保護のために用いるペリクルフ
レーム11にして、 該ペリクルフレーム11はペリクル膜12が貼
り付けられた側から外方にテーパして末広がりに
なつた形状の枠状体のものであることを特徴とす
るペリクルフレーム11。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1985117931U JPS6320989Y2 (ja) | 1985-07-31 | 1985-07-31 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1985117931U JPS6320989Y2 (ja) | 1985-07-31 | 1985-07-31 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6227346U JPS6227346U (ja) | 1987-02-19 |
JPS6320989Y2 true JPS6320989Y2 (ja) | 1988-06-10 |
Family
ID=31003908
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1985117931U Expired JPS6320989Y2 (ja) | 1985-07-31 | 1985-07-31 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6320989Y2 (ja) |
-
1985
- 1985-07-31 JP JP1985117931U patent/JPS6320989Y2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6227346U (ja) | 1987-02-19 |
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