KR200149834Y1

KR200149834Y1 - 펠리클을 구비한 마스크

Info

Publication number: KR200149834Y1
Application number: KR2019950040227U
Authority: KR
Inventors: 송영수
Original assignee: 구본준; 엘지반도체주식회사
Priority date: 1995-12-12
Filing date: 1995-12-12
Publication date: 1999-06-15
Also published as: KR970045361U

Abstract

본 고안은 펠리클(pellicle)을 구비한 마스크에 관한 것으로, 펠리클을 마스크에 용이하게 부착하거나 분리하도록 하기 위하여, 기판에 패턴이 형성된 마스크와, 상기 마스크의 패턴을 보호하는 펠리크막과, 상기 펠리클막의 둘레에 부착되어 상기 펠리클막을 지지하되, 자성체로 형성되는 상기 마스크 기판의 상하에 서로 대향시켜 자기력에 의하여 상기 마스크에 부착되는 펠리클프레임을 포함하며, 마스크교환시, 마스크의 세정 과정이 불필요하게 되어 마스크 패턴의 손상을 막을 수 있다.

Description

펠리클을 구비한 마스크

제1도는 종래의 펠리클을 구비한 마스크의 실시예를 나타낸 도면.

제2도는 본 고안의 펠리클을 구비한 마스크의 실시예를 나타낸 도면.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

10, 20 : 마스크 11, 21 : 펠리클

10-1, 20-1 : 마스크 기판 10-2, 20-2 : 크롬 패턴

11-1, 21-1 : 펠리클막 11-2 : 펠리클프레임

21-2 : 자성체로 된 펠리클 프레임 12 : 접착제

본 고안은 펠리클(pellicle)을 구비한 마스크에 관한 것으로, 특히 펠리클을 마스크에 용이하게 부착하거나 분리하도록 한 펠리클을 구비한 마스크에 관한 것이다.

일반적으로 포토마스킹(photo-masking)에 사용되는 마스크(mask)와 래티클(reticle)(이하 마스크와 레티클을 마스크로 통칭한다.)은 결함이 없는 상태로 제작되었다 할지라도 취급되는 도중에 외부 물질에 오염되기 때문에 웨이퍼에 패턴을 정확하게 전달하지 못하게 되는 경우가 많다. 그래서 무결점 레티클에 대한 요구가 증가되고 있고, 마스크의 수리나 세척하는 횟수를 줄이고자 하는 욕구가 증가하고 있다.

이에 대한 대책으로 마스크를 보호하기 위해 펠리클프레임과 펠리클막으로 구성된 펠리클(pellicle)을 마스크에 붙여서 사용한다. 현재 주로 사용하는 펠리클막은 니트로셀룰로오스(Nitrocellulose)로 되어 있어서 빛의 흡수에 의하여 일정시간 사용후에는 그 막이 변질 또는 변색되고, 정전기를 띄는 입자가 강하게 펠리클막에 부착되어 그 입자를 제거하기 힘든 경우도 생긴다. 이때에는 펠리클을 제거한 후 마스크를 세정하고 펠리클을 다시 부착하는 펠리클 교체과정을 거쳐야 한다.

종래의 펠리클을 구비한 마스크는 제1도에 나타낸 바와 같이, 마스크(10) 상하면에 펠리클프레임(11-2)이 접착제에 의해 접착되어 있고, 펠리클막(11-1)은 펠리클프레임(11-2)에 부착되어 마스크를 보호하도록 되어 있다. 펠리클프레임은 펠리클막(11-1)을 지지하는 동시에 그 하단에 있는 접착제(12)에 의해 마스크(10)에 접착됨으로써 펠리클막(11-1)이 마스크(10)를 보호할 수 있게 해준다.

니트로셀룰로오스(Nitrocellulose)로 된 펠리클막(11-1)과 양극 처리된 알루미늄(anodized Al)으로 된 펠리클프레임(11-2)으로 펠리클을 형성하였고, 마스크 기판(10-1) 표면에 크롬 패턴(10-2)을 형성하여 마스크를 만들었다.

그러나 펠리클을 구비한 마스크에서는 펠리클막이 변색 또는 변질되어 펠리클을 제거해야 할 경우 펠리클 프레임과 마스크 상하면을 접착하는 접착제를 떼어내야 하는 번거로움이 있었고, 펠레클을 잘못 부착할 경우 다시 새로운 펠리클을 부착해야 하기때문에 펠리클이 낭비되는 문제가 있었다. 또한, 펠리클을 제거한후 마스크를 세정할때 황산등의 화학약품을 사용하거나 고온처리를 실시하기 때문에 그 과정에서 마스크에 형성된 크롬 패턴에 손상을 주게 되었다.

본 고안은 펠리클프레임을 자성체로 형성함으로써, 자기력에 의하여 펠리클을 마스크에 부착시키도록 하여 종래 기술의 문제점을 해결하려는 것이다.

본 고안에 의하 펠리클을 구비한 마스크는 기판에 패턴이 형성된 마스크와, 상기 마스크의 패턴을 보호하는 펠리크막과, 상기 펠리클막의 둘레에 부착되어 상기 펠리크막을 지지하되, 자성체로 형성되어 상기 마스크 기판의 상하에 서로 대향시켜 자기력에 의하여 상기 마스크에 부착되는 펠리클프레임을 포함한다.

제2도는 본 고안에 의한 펠리클을 구비한 마스크의 실시예를 나타낸 것으로, 첨부한 도면을 참고로 본 고안에 의한 펠리클을 구비한 마스크를 설명하면 다음과 같다.

본 고안에 의한 펠리클을 구비한 마스크는, 자성체로 형성된 펠리클프레임(21-2)에 펠리클막(21-1)이 부착되어서 펠리클(21)을 형성한다. 이 펠리클은(21) 마스크(20)의 양편에서 자성체로 형성된 펠리클프레임(21)의 자기력에 의하여 서로 잡아당기는 힘을 발생하여 마스크(20)에 결합된다. 두 개의 펠리클프레임(21)이 마스크를 사이에 두고 서로 잡아당기는 자기력을 발생하므로 마스크(20)에 결합되는 것이다.

자성체로 형성된 펠리클프레임(21-2)은 펠리클막(21-1) 둘레에 부착됨으로써 페리클막(21-1)을 지지하는 지지수단이 된다. 또한, 동시에 마스크(20)를 사이에 두고 서로 잡아당기는 자기력에 의해 마스크(20)에 부착됨으로써 펠리클막(21-1)이 마스크(20)를 보호할 수 있게 하는 부착수단이 된다.

이 때, 마스크(20) 기판(20-1)의 상하면에 펠리클프레임(21-1)이 결합되도록 대응하는 형태로 홈을 파서 펠리클(21)이 정확하게 마스크(20)에 부착될 수 있도록 하면 더욱 좋다. 즉, 펠리클프레임(21-1)이 부착될 마스크(20) 부분에 펠리클프레임(21-1)이 삽입될 수 있는 홈을 형성하는 것이 좋다.

이와 같이, 본 고안에 의한 펠리클을 구비한 마스크에서는 펠리클막이 변색 또는 변질되어 펠리클을 교체해야 할 경우 펠리클프레임의 서로 잡아당기는 자기력을 생쇄시킴으로써 펠리클을 마스크에서 쉽게 분리시킬 수 있고, 종래와 같은 마스크의 세정 과정이 불필요하게 되어 크롬 패턴(Cr pattern)의 손상을 막을 수 있다.

또한, 마스크의 상하면에 펠리클프레임이 결합되도록 홈이 형성되어 있기 때문에 펠리클이 정확하게 마스크에 위치되고 결합된다. 따라서, 마스크에 펠리클을 잘못 부착할 경우 다시 새로운 펠리클을 부착해야 함으로써 야기되는 펠리클의 낭비를 막을 수 있다.

Claims

기판에 패턴이 형성된 마스크와, 상기 마스크의 패턴을 보호하는 펠리크막과, 상기 펠리크막의 둘레에 부착되어 상기 펠리클막을 지지하되, 자성체로 형성되어 상기 마스크 기판의 상하에 서로 대향시켜 자기력에 의하여 상기 마스크에 부착되는 펠리클프레임을 포함하는 펠리클을 구비한 마스크.
제1항에 있어서, 상기 펠리클프레임이 부착될 상기 마스크 부분에 상기 펠리클프레임이 삽입될 수 있는 홈이 형성되어 있는 펠리클을 구비한 마스크.