JP2008083166A - ペリクルフレーム - Google Patents
ペリクルフレーム Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008083166A JP2008083166A JP2006260481A JP2006260481A JP2008083166A JP 2008083166 A JP2008083166 A JP 2008083166A JP 2006260481 A JP2006260481 A JP 2006260481A JP 2006260481 A JP2006260481 A JP 2006260481A JP 2008083166 A JP2008083166 A JP 2008083166A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pellicle
- pellicle frame
- frame
- photomask
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
- G03F1/64—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof characterised by the frames, e.g. structure or material, including bonding means therefor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
【課題】ペリクル膜を貼りかえる際に生じるペリクルフレームとフォトマスクの剥離を円滑に行うためのペリクルフレームとペリクルフレーム剥離治具を提供する。
【解決手段】ペリクルフレーム1は、ペリクル膜5が取着され枠状を呈し、ペリクルフレーム1が外方に臨む箇所にペリクルフレーム剥離治具を係合するための係合部10が形成されている。ペリクルフレーム1は、ペリクル膜5の厚さ方向と平行する方向の高さを有してこの高さ方向と直交する方向に延在しており、係合部10は、ペリクルフレーム1が外方に臨む箇所の延在方向に間隔をおいて複数設けられている。
【選択図】図1
【解決手段】ペリクルフレーム1は、ペリクル膜5が取着され枠状を呈し、ペリクルフレーム1が外方に臨む箇所にペリクルフレーム剥離治具を係合するための係合部10が形成されている。ペリクルフレーム1は、ペリクル膜5の厚さ方向と平行する方向の高さを有してこの高さ方向と直交する方向に延在しており、係合部10は、ペリクルフレーム1が外方に臨む箇所の延在方向に間隔をおいて複数設けられている。
【選択図】図1
Description
本発明は、フォトマスク用防塵カバーであるペリクルを構成するペリクルフレームならびにペリクルをフォトマスクから剥離する為のペリクルフレーム剥離治具に関するものである。
ウエハー等を用いた半導体を製造する場合には、フォトマスクに形成されたパターンをフォトレジスト等の感光剤を塗布した基板上に投影光学系にて露光する投影露光方式が使用されている。
近年、パターン形状の微細化に伴い、使用される露光光は短波長化される傾向にあり、KrF(波長248nm)やArF(波長193nm)を用いた露光装置が実用化され、1つの半導体回路に対して数十枚に及ぶフォトマスクが使用されている。
近年、パターン形状の微細化に伴い、使用される露光光は短波長化される傾向にあり、KrF(波長248nm)やArF(波長193nm)を用いた露光装置が実用化され、1つの半導体回路に対して数十枚に及ぶフォトマスクが使用されている。
これらのフォトマスクは、露光時、または保管時、または搬送時に周囲を浮遊する異物が付着する。
フォトマスク上に付着した異物は、露光時、その部分の結像を妨げるため、製品に欠陥が現れる。
このようなフォトマスク表面に付着する異物による解像不良を防ぐため、フォトマスクは、その表面に透光性を有する防塵カバーとしてペリクルを装着している。
フォトマスク上に付着した異物は、露光時、その部分の結像を妨げるため、製品に欠陥が現れる。
このようなフォトマスク表面に付着する異物による解像不良を防ぐため、フォトマスクは、その表面に透光性を有する防塵カバーとしてペリクルを装着している。
ペリクルを装着したフォトマスクにおいても、近年では、使用環境によっては欠陥が発生している。
これは、周囲を浮遊する異物以外にも、露光、保管を繰り返す事で、ペリクルを構成する部材内部の曇り原因物質が変質して異物となり、フォトマスク上に該異物が徐々に堆積する影響によるものである。
フォトマスク上に異物が一定以上堆積すると、フォトマスクに曇りが発生し、製品に欠陥が現れる。このような曇りを除去するためにフォトマスクを洗浄する必要があるが、洗浄により、製品製造のためのコストが増大したり、フォトマスクのパターンが磨耗したりするなどの不都合が生じる。
これは、周囲を浮遊する異物以外にも、露光、保管を繰り返す事で、ペリクルを構成する部材内部の曇り原因物質が変質して異物となり、フォトマスク上に該異物が徐々に堆積する影響によるものである。
フォトマスク上に異物が一定以上堆積すると、フォトマスクに曇りが発生し、製品に欠陥が現れる。このような曇りを除去するためにフォトマスクを洗浄する必要があるが、洗浄により、製品製造のためのコストが増大したり、フォトマスクのパターンが磨耗したりするなどの不都合が生じる。
また、フォトマスクの洗浄の際には、ペリクルフレームをフォトマスクから剥離する必要がある。
このペリクルを剥がす工程は、如何にペリクルフレームとフォトマスクの間に存在する接着剤をフォトマスク上に残さないようにするかが問題である。
ペリクルフレームは様々な形状があり、例えば特許文献1に示されているように接着剤を減らす目的で端面等に溝を作るなど様々な加工されている。
特開平6−19124号公報(ペリクルフレーム)
このペリクルを剥がす工程は、如何にペリクルフレームとフォトマスクの間に存在する接着剤をフォトマスク上に残さないようにするかが問題である。
ペリクルフレームは様々な形状があり、例えば特許文献1に示されているように接着剤を減らす目的で端面等に溝を作るなど様々な加工されている。
また、ペリクルはフォトマスクに接着させることを重点的に考えられており、剥がすことを重点的に考える方向性にはなかった。
その為、ペリクルフレーム剥離治具も造りが簡易なものとなり、フォトマスク自体を支点とした、てこの原理を利用するペリクルフレーム剥離治具が用いられていた。
その為、ペリクルフレーム剥離治具も造りが簡易なものとなり、フォトマスク自体を支点とした、てこの原理を利用するペリクルフレーム剥離治具が用いられていた。
さらに又、この方式だと接着剤がフォトマスク側に残留する事が十分に考えられ、その場合、洗浄装置ならびに洗浄液が汚染されることで洗浄能力が落ち、製品に悪影響を及ぼしてしまうことも懸念される。
このため、ペリクルフレームとフォトマスクが剥離しやすいようペリクルフレームの形状に改善が求められるようになってきた。
本発明はこのような事情に鑑みなされたものであり、本発明の目的は、フォトマスクからペリクルを簡単に剥がす上で有利なペリクルフレームおよびペリクルフレーム剥離治具を提供することにある。
本発明はこのような事情に鑑みなされたものであり、本発明の目的は、フォトマスクからペリクルを簡単に剥がす上で有利なペリクルフレームおよびペリクルフレーム剥離治具を提供することにある。
請求項1に記載の発明は、ペリクル膜が取着され枠状を呈するペリクルフレームであって、前記ペリクルフレームが外方に臨む箇所にペリクルフレーム剥離治具を係合するための係合部が形成されていることを特徴とするペリクルフレームである。
請求項2に記載の発明は、前記ペリクルフレームは、前記ペリクル膜の厚さ方向と平行する方向の高さを有してこの高さ方向と直交する方向に延在しており、前記係合部は、前記ペリクルフレームが外方に臨む箇所の延在方向に間隔をおいて複数設けられていることを特徴とする請求項1記載のペリクルフレームである。
請求項3に記載の発明は、前記ペリクルフレームは、前記ペリクル膜の厚さ方向と平行する方向の高さを有してこの高さ方向と直交する方向に延在する枠状の本体と、前記本体の前記高さ方向の一方の端部に形成され前記ペリクル膜が取着されるペリクル膜用環状面と、前記本体の前記高さ方向の他方の端部に形成され前記ペリクル膜用環状面に対向しフォトマスクが取着されるフォトマスク用環状面とを備え、前記係合部は、前記本体が外方に臨む外周面に、該外周面の周方向に間隔をおき前記高さ方向に延在形成された複数の溝によって構成されていることを特徴とする請求項1記載のペリクルフレームである。
請求項4に記載の発明は、前記複数の溝は、前記外周面の高さ方向の中間部から前記フォトマスク用環状面に向けて延在形成され、前記複数の溝が形成されていない前記外周面の高さ方向の中間部から前記ペリクル膜用環状面における前記外周面の部分は、前記中間部から前記ペリクル膜用環状面に向かうに従って前記外周面の外方に次第に変位する傾斜面で形成されていることを特徴とする請求項3記載のペリクルフレームである。
請求項5に記載の発明は、前記溝は前記中間部から前記ペリクル膜用環状面に至る長さと、この長さと直交する方向の幅と、深さとを有し、前記溝の前記中間部における端部は、前記幅方向と深さ方向に沿って延在する端面を有し、前記端面に、前記ペリクル膜用環状面に近接する方向に窪む凹部が形成されていることを特徴とする請求項3記載のペリクルフレームである。
請求項6に記載の発明は、前記請求項1乃至5の何れかのペリクルフレームの係合部に係合可能な係合部を有することを特徴とするペリクルフレーム剥離治具である。
請求項2に記載の発明は、前記ペリクルフレームは、前記ペリクル膜の厚さ方向と平行する方向の高さを有してこの高さ方向と直交する方向に延在しており、前記係合部は、前記ペリクルフレームが外方に臨む箇所の延在方向に間隔をおいて複数設けられていることを特徴とする請求項1記載のペリクルフレームである。
請求項3に記載の発明は、前記ペリクルフレームは、前記ペリクル膜の厚さ方向と平行する方向の高さを有してこの高さ方向と直交する方向に延在する枠状の本体と、前記本体の前記高さ方向の一方の端部に形成され前記ペリクル膜が取着されるペリクル膜用環状面と、前記本体の前記高さ方向の他方の端部に形成され前記ペリクル膜用環状面に対向しフォトマスクが取着されるフォトマスク用環状面とを備え、前記係合部は、前記本体が外方に臨む外周面に、該外周面の周方向に間隔をおき前記高さ方向に延在形成された複数の溝によって構成されていることを特徴とする請求項1記載のペリクルフレームである。
請求項4に記載の発明は、前記複数の溝は、前記外周面の高さ方向の中間部から前記フォトマスク用環状面に向けて延在形成され、前記複数の溝が形成されていない前記外周面の高さ方向の中間部から前記ペリクル膜用環状面における前記外周面の部分は、前記中間部から前記ペリクル膜用環状面に向かうに従って前記外周面の外方に次第に変位する傾斜面で形成されていることを特徴とする請求項3記載のペリクルフレームである。
請求項5に記載の発明は、前記溝は前記中間部から前記ペリクル膜用環状面に至る長さと、この長さと直交する方向の幅と、深さとを有し、前記溝の前記中間部における端部は、前記幅方向と深さ方向に沿って延在する端面を有し、前記端面に、前記ペリクル膜用環状面に近接する方向に窪む凹部が形成されていることを特徴とする請求項3記載のペリクルフレームである。
請求項6に記載の発明は、前記請求項1乃至5の何れかのペリクルフレームの係合部に係合可能な係合部を有することを特徴とするペリクルフレーム剥離治具である。
請求項1に記載の発明では、ペリクルフレームに係合部を設けることで、ペリクルフレームの剥離時にペリクルフレーム剥離治具の密着性並びに引っかかりをよくし、安定的にペリクルフレームとフォトマスクの剥離を実施する事が可能となる。
請求項2に記載の発明では、ペリクルフレームとフォトマスクとを剥がす際に用いるペリクルフレーム剥離治具を複数の係合部で接触させることで、ペリクルフレームの剥離時にペリクルフレーム剥離治具の密着性並びに引っかかりをよくし、安定的にペリクルフレームとフォトマスクの剥離を実施する事が可能となる。
請求項3に記載の発明では、ペリクルフレームとフォトマスクとを剥がす際に用いるペリクルフレーム剥離治具を複数の溝で接触させることで、ペリクルフレームの剥離時にペリクルフレーム剥離治具の密着性並びに引っかかりをよくし、安定的にペリクルフレームとフォトマスクの剥離を実施する事が可能となる。
請求項4に記載の発明では、複数の溝が形成されていない外周面の高さ方向の中間部からペリクル膜用環状面における外周面の部分を、中間部からペリクル膜用環状面に向かうに従って外周面の外方に次第に変位する傾斜面で形成することにより、ペリクルフレームを剥離する際にペリクルフレーム剥離治具の密着性並びに引っかかりをよくし、安定的にペリクルフレームとフォトマスクの剥離を実施する事が可能となる。
請求項5に記載の発明では、溝の端面に凹部が形成されていることにより、ペリクルフレームを剥離する際にペリクルフレーム剥離治具の密着性並びに引っかかりをよくし、安定的にペリクルフレームとフォトマスクの剥離を実施する事が可能となる。
請求項6に記載の発明では、ペリクルフレーム剥離治具の係合部をペリクルフレームの係合部に係合させることで、ペリクルフレームの剥離時にペリクルフレーム剥離治具の密着性並びに引っかかりをよくし、安定的にペリクルフレームとフォトマスクの剥離を実施する事が可能となる。
請求項2に記載の発明では、ペリクルフレームとフォトマスクとを剥がす際に用いるペリクルフレーム剥離治具を複数の係合部で接触させることで、ペリクルフレームの剥離時にペリクルフレーム剥離治具の密着性並びに引っかかりをよくし、安定的にペリクルフレームとフォトマスクの剥離を実施する事が可能となる。
請求項3に記載の発明では、ペリクルフレームとフォトマスクとを剥がす際に用いるペリクルフレーム剥離治具を複数の溝で接触させることで、ペリクルフレームの剥離時にペリクルフレーム剥離治具の密着性並びに引っかかりをよくし、安定的にペリクルフレームとフォトマスクの剥離を実施する事が可能となる。
請求項4に記載の発明では、複数の溝が形成されていない外周面の高さ方向の中間部からペリクル膜用環状面における外周面の部分を、中間部からペリクル膜用環状面に向かうに従って外周面の外方に次第に変位する傾斜面で形成することにより、ペリクルフレームを剥離する際にペリクルフレーム剥離治具の密着性並びに引っかかりをよくし、安定的にペリクルフレームとフォトマスクの剥離を実施する事が可能となる。
請求項5に記載の発明では、溝の端面に凹部が形成されていることにより、ペリクルフレームを剥離する際にペリクルフレーム剥離治具の密着性並びに引っかかりをよくし、安定的にペリクルフレームとフォトマスクの剥離を実施する事が可能となる。
請求項6に記載の発明では、ペリクルフレーム剥離治具の係合部をペリクルフレームの係合部に係合させることで、ペリクルフレームの剥離時にペリクルフレーム剥離治具の密着性並びに引っかかりをよくし、安定的にペリクルフレームとフォトマスクの剥離を実施する事が可能となる。
さらにこのペリクルフレーム剥離治具はこれまで力を一点に集中させ剥離していたペリクルフレームを面又は多点で剥離する事が出来るため、ペリクルフレームとの接触面が多くなる。その結果、ペリクル剥理ペリクルフレーム剥離治具を冷却させ、フレームとフォトマスクの温度差が生じることでフレーム側に接着剤を付着させる状況が生じたときでも、このペリクルフレーム剥離治具をペリクルフレームに対してより多くの面を密着させる事が出来るため、一点のみで接触させるときよりも、より多くの面積で均一的冷却され、温度のばらつきも少ない状態でペリクルフレームに対して接触させることが可能となるため、よりペリクルフレームへの冷却効果も期待できる。その結果、フォトマスクとペリクルフレームを接着するための接着剤は、ペリクルフレーム側に付着して剥がれる為、フォトマスクに対する接着剤の残渣を減らす事ができ、ペリクル剥膜に関わる工程への汚染の防止にもつながる効果も期待できる。
以下、本発明のペリクルフレームの一例を、図1を用いて説明する。
ペリクルはフォトマスク3上に設置する透光性を有する防塵カバーである。
ペリクルは、ペリクルフレーム1とペリクル膜5を含んで構成される。
ペリクル膜5は、透光性を有し、異物をトラップするものであり、透明な薄膜で構成されている。
ペリクルフレーム1は、ペリクル膜5を保持し展開するものである。
ペリクルフレーム1は、ペリクル接着剤によってペリクル膜5が接着され取着されている。
また、ペリクルフレーム1は、マスク接着剤2によってフォトマスク3に接着され取着されている。
ペリクルフレーム1には、ペリクルフレーム1内外の圧力差を調節するための不図示のフィルターが設けられている。
ペリクルはフォトマスク3上に設置する透光性を有する防塵カバーである。
ペリクルは、ペリクルフレーム1とペリクル膜5を含んで構成される。
ペリクル膜5は、透光性を有し、異物をトラップするものであり、透明な薄膜で構成されている。
ペリクルフレーム1は、ペリクル膜5を保持し展開するものである。
ペリクルフレーム1は、ペリクル接着剤によってペリクル膜5が接着され取着されている。
また、ペリクルフレーム1は、マスク接着剤2によってフォトマスク3に接着され取着されている。
ペリクルフレーム1には、ペリクルフレーム1内外の圧力差を調節するための不図示のフィルターが設けられている。
ペリクルフレーム1はペリクル膜5を保持し、展開するために設けられる。また、露光時の光の散乱を防ぐために黒化処理を施されていることが望ましい。
また、形状は露光部に影響を与えない形で作成され、また、ペリクルフレーム1には、発塵を防ぐ目的と、他から来た発塵を露光部に存在させないことを目的として、内壁部に粘着物を加える事もある。
ペリクルフレーム1としては、例えば、アルミなどの金属系フレームや、樹脂系フレームなどを用いることが出来る。
また、形状は露光部に影響を与えない形で作成され、また、ペリクルフレーム1には、発塵を防ぐ目的と、他から来た発塵を露光部に存在させないことを目的として、内壁部に粘着物を加える事もある。
ペリクルフレーム1としては、例えば、アルミなどの金属系フレームや、樹脂系フレームなどを用いることが出来る。
ペリクル膜5は、ペリクルフレーム1により保持され、フォトマスク3の露光エリアを覆うように設けられる。
このため、ペリクル膜5は露光によるエネルギーを遮断させない様、透光性を有する。
また、シワなどによりフォトマスク3表面に影を作らせ無い様、ペリクルフレーム1と均一の力がかかる様、貼られている。
ペリクル膜5としては、フッ素系や酢酸セルロース等の透明性膜や、石英ガラスなどを用いることが出来る。
このため、ペリクル膜5は露光によるエネルギーを遮断させない様、透光性を有する。
また、シワなどによりフォトマスク3表面に影を作らせ無い様、ペリクルフレーム1と均一の力がかかる様、貼られている。
ペリクル膜5としては、フッ素系や酢酸セルロース等の透明性膜や、石英ガラスなどを用いることが出来る。
前記ペリクル接着剤は、ペリクルフレーム1とペリクル膜5を接着するために用いられる。ペリクル接着剤としては、シリコン系やアルカリ系の接着剤を好適に用いることが出来る。
マスク接着剤2は、ペリクルフレーム1とフォトマスク3を接着するために用いられる。マスク接着剤2としては、シリコン系やアルカリ系の接着剤を好適に用いることが出来る。
前記フィルターは、ペリクルフレーム1の側面に内外圧力差を緩和する為に存在する穴から、塵が入り込まない様にするため設けられる。
フィルターとしては、HEPAフィルターに用いられるポリプロピレン(PP)やパーテトラフルオロフラン(PTFE)などを用いることが出来る。
フィルターとしては、HEPAフィルターに用いられるポリプロピレン(PP)やパーテトラフルオロフラン(PTFE)などを用いることが出来る。
本発明のペリクルは、フォトマスク3に付着する異物に焦点が合わさる事を防ぎ、ウエハーへの解像不良を防ぐため、フォトマスク3上に装着される。このとき、ペリクルはフォトマスク3の露光エリアを覆うように装着される。
フォトマスク3としては、ガラス基板の表面に遮光膜を具備し、シリコンウエハを露光する為の原版として用いられる。
図1、図2(A)を用いて詳細に説明すると、本発明の請求項1乃至3に係るペリクルフレーム1は、ペリクル膜5が取着され枠状を呈し、ペリクルフレーム1が外方に臨む箇所にペリクルフレーム剥離治具を係合するための係合部10が形成されている。
ペリクルフレーム1は、ペリクル膜5の厚さ方向と平行する方向の高さを有してこの高さ方向と直交する方向に延在しており、係合部10は、ペリクルフレーム1が外方に臨む箇所の延在方向に間隔をおいて複数設けられている。
また、ペリクルフレーム1は、ペリクル膜5の厚さ方向と平行する方向の高さを有してこの高さ方向と直交する方向に延在する枠状の本体1Aと、本体1Aの高さ方向の一方の端部に形成されペリクル膜5が取着されるペリクル膜用環状面1Bと、本体1Aの高さ方向の他方の端部に形成されペリクル膜用環状面1Bに対向しフォトマスク3が取着されるフォトマスク用環状面1Cとを備えている。
係合部10は、本体1Aが外方に臨む外周面12に、該外周面12の周方向に間隔をおき高さ方向に延在形成された複数の溝14によって構成されている。
複数の溝14は、外周面12の高さ方向の中間部からフォトマスク用環状面1Cに向けて延在形成されている。
さらに具体的に説明すると、ペリクルフレーム1の外周面(外周部)に高さ1.0mm、横1.0mm、奥行き0.2mm以上の溝を1箇所以上、より好ましくは、ペリクルフレーム1の外周面に高さ2.0mm、横10.0mm、奥行き0.5mm以上の溝を対称に配置し、さらに複数個設けることによりペリクルフレーム1とペリクルフレーム剥離治具の引っ掛かりをよくする事で不良発生を防止する事が出来、フォトマスク3の安定的な使用が可能となる。
ペリクルフレーム1は、ペリクル膜5の厚さ方向と平行する方向の高さを有してこの高さ方向と直交する方向に延在しており、係合部10は、ペリクルフレーム1が外方に臨む箇所の延在方向に間隔をおいて複数設けられている。
また、ペリクルフレーム1は、ペリクル膜5の厚さ方向と平行する方向の高さを有してこの高さ方向と直交する方向に延在する枠状の本体1Aと、本体1Aの高さ方向の一方の端部に形成されペリクル膜5が取着されるペリクル膜用環状面1Bと、本体1Aの高さ方向の他方の端部に形成されペリクル膜用環状面1Bに対向しフォトマスク3が取着されるフォトマスク用環状面1Cとを備えている。
係合部10は、本体1Aが外方に臨む外周面12に、該外周面12の周方向に間隔をおき高さ方向に延在形成された複数の溝14によって構成されている。
複数の溝14は、外周面12の高さ方向の中間部からフォトマスク用環状面1Cに向けて延在形成されている。
さらに具体的に説明すると、ペリクルフレーム1の外周面(外周部)に高さ1.0mm、横1.0mm、奥行き0.2mm以上の溝を1箇所以上、より好ましくは、ペリクルフレーム1の外周面に高さ2.0mm、横10.0mm、奥行き0.5mm以上の溝を対称に配置し、さらに複数個設けることによりペリクルフレーム1とペリクルフレーム剥離治具の引っ掛かりをよくする事で不良発生を防止する事が出来、フォトマスク3の安定的な使用が可能となる。
また本発明の請求項4に係るペリクルフレーム1は、図2(B)を用いて説明するとおり、ペリクルフレーム1の本体1Aにおいて、複数の溝14が形成されていない外周面12の高さ方向の中間部からペリクル膜用環状面1Bにおける外周面12の部分は、中間部からペリクル膜用環状面1Bに向かうに従って外周面12の外方に次第に変位する傾斜面16で形成されている。
さらに具体的に説明すると、ペリクルフレーム1の外周面に底面(フォトマスク用環状面1C)の幅と上面(ペリクル膜用環状面1B)の幅の差が少なくとも0.1mm以上上面の幅が大きくなるような傾斜を設けることで、ペリクルフレーム1とペリクルフレーム剥離治具の引っ掛かりをよくする事で不良発生を防止する事が出来、フォトマスク3の安定的な使用が可能となる。
さらに具体的に説明すると、ペリクルフレーム1の外周面に底面(フォトマスク用環状面1C)の幅と上面(ペリクル膜用環状面1B)の幅の差が少なくとも0.1mm以上上面の幅が大きくなるような傾斜を設けることで、ペリクルフレーム1とペリクルフレーム剥離治具の引っ掛かりをよくする事で不良発生を防止する事が出来、フォトマスク3の安定的な使用が可能となる。
また本発明の請求項5に係るペリクルフレーム1は、図2(C)を用いて説明するとおり、溝14は中間部からペリクル膜用環状面1Bに至る長さと、この長さと直交する方向の幅と、深さとを有し、溝14の中間部における端部は、幅方向と深さ方向に沿って延在する端面18を有し、この端面18に、ペリクル膜用環状面1Bに近接する方向に窪む凹部20が形成されている。
さらに具体的に説明すると、外周部の溝14の内側の上面にさらに小さな凹部を設けることでより密着性を向上させることで不良発生を防止する事が出来、フォトマスク3の安定的な使用が可能となる。
さらに具体的に説明すると、外周部の溝14の内側の上面にさらに小さな凹部を設けることでより密着性を向上させることで不良発生を防止する事が出来、フォトマスク3の安定的な使用が可能となる。
また本発明の請求項6に係るペリクルフレーム1は、図1に示すように、請求項1乃至5の何れかのペリクルフレーム1の係合部10に係合可能な係合部6Aを有したものである。
すなわち、図1に示すように、フォトマスク3を保護するペリクルにおいて、そのペリクルフレーム1とフォトマスク3とを剥がす際に用いるペリクルフレーム剥離治具6を請求項1乃至5にあるような形状と対応させることで効率的にフォトマスク3とペリクルフレーム1を剥離する事が出来、フォトマスク3の安定的な使用が可能となる。
すなわち、図1に示すように、フォトマスク3を保護するペリクルにおいて、そのペリクルフレーム1とフォトマスク3とを剥がす際に用いるペリクルフレーム剥離治具6を請求項1乃至5にあるような形状と対応させることで効率的にフォトマスク3とペリクルフレーム1を剥離する事が出来、フォトマスク3の安定的な使用が可能となる。
以上説明したように本発明によれば、以下に示すような効果が奏される。
ペリクルフレーム1に対して複数の係合部10(溝14)を設けることで、ペリクルフレーム1をフォトマスク3から剥離する際に、よりペリクルフレーム剥離治具6とペリクルフレーム1とを密着させる事が出来、安定的にペリクルフレーム1をフォトマスク3から剥離させる事が出来る。
また、ペリクルフレーム1に対して多点又は面で、すなわち複数の係合部10(溝14)で接触させ、ペリクルフレーム剥離治具6とペリクルフレーム1の密着性がさらに向上する事で、ペリクルフレーム剥離治具6を冷却させるとともに、フォトマスク3を加熱し、その温度差を用いてペリクルフレーム1とフォトマスク3の間のマスク接着剤2をフォトマスク3上から除去することが可能となり、再洗浄の際に洗浄機への汚染が低減でき、工程への負荷が軽減されることも期待される。
ペリクルフレーム1に対して複数の係合部10(溝14)を設けることで、ペリクルフレーム1をフォトマスク3から剥離する際に、よりペリクルフレーム剥離治具6とペリクルフレーム1とを密着させる事が出来、安定的にペリクルフレーム1をフォトマスク3から剥離させる事が出来る。
また、ペリクルフレーム1に対して多点又は面で、すなわち複数の係合部10(溝14)で接触させ、ペリクルフレーム剥離治具6とペリクルフレーム1の密着性がさらに向上する事で、ペリクルフレーム剥離治具6を冷却させるとともに、フォトマスク3を加熱し、その温度差を用いてペリクルフレーム1とフォトマスク3の間のマスク接着剤2をフォトマスク3上から除去することが可能となり、再洗浄の際に洗浄機への汚染が低減でき、工程への負荷が軽減されることも期待される。
(実施例)
以下に本発明の実施例を具体的に説明する。
なお、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
ペリクルフレーム1について、従来のフレームを具備するペリクルと、本発明に係るペリクルフレーム1を用いたペリクルとを準備し、それぞれ剥離テストを行った。本発明に係るペリクルフレーム1を用いたペリクルは、ペリクルフレーム1の本体1Aの外周面12に高さ2.0mm、横10.0mm、奥行き0.5mmの溝14を複数個設け、フォトマスク用環状面1Bにフォトマスク3を接着した。
以下に本発明の実施例を具体的に説明する。
なお、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
ペリクルフレーム1について、従来のフレームを具備するペリクルと、本発明に係るペリクルフレーム1を用いたペリクルとを準備し、それぞれ剥離テストを行った。本発明に係るペリクルフレーム1を用いたペリクルは、ペリクルフレーム1の本体1Aの外周面12に高さ2.0mm、横10.0mm、奥行き0.5mmの溝14を複数個設け、フォトマスク用環状面1Bにフォトマスク3を接着した。
従来の外周部に溝をつけないペリクルは、剥離の際に引っ掛けるところがない為、スムーズに剥離できないものの、係合部10(溝14)をつけたペリクルは溝14にペリクルフレーム剥離治具6を適宜引っ掛けることでスムーズに剥離できた。
1……ペリクルフレーム、2……マスク接着剤、3……フォトマスク、4……パターン、5……ペリクル膜、6……ペリクルフレーム剥離治具、6A……係合部、10……係合部、12……周面、14……溝。
Claims (6)
- ペリクル膜が取着され枠状を呈するペリクルフレームであって、
前記ペリクルフレームが外方に臨む箇所にペリクルフレーム剥離治具を係合するための係合部が形成されている、
ことを特徴とするペリクルフレーム。 - 前記ペリクルフレームは、前記ペリクル膜の厚さ方向と平行する方向の高さを有してこの高さ方向と直交する方向に延在しており、
前記係合部は、前記ペリクルフレームが外方に臨む箇所の延在方向に間隔をおいて複数設けられている、
ことを特徴とする請求項1記載のペリクルフレーム。 - 前記ペリクルフレームは、前記ペリクル膜の厚さ方向と平行する方向の高さを有してこの高さ方向と直交する方向に延在する枠状の本体と、
前記本体の前記高さ方向の一方の端部に形成され前記ペリクル膜が取着されるペリクル膜用環状面と、
前記本体の前記高さ方向の他方の端部に形成され前記ペリクル膜用環状面に対向しフォトマスクが取着されるフォトマスク用環状面とを備え、
前記係合部は、前記本体が外方に臨む外周面に、該外周面の周方向に間隔をおき前記高さ方向に延在形成された複数の溝によって構成されている、
ことを特徴とする請求項1記載のペリクルフレーム。 - 前記複数の溝は、前記外周面の高さ方向の中間部から前記フォトマスク用環状面に向けて延在形成され、
前記複数の溝が形成されていない前記外周面の高さ方向の中間部から前記ペリクル膜用環状面における前記外周面の部分は、前記中間部から前記ペリクル膜用環状面に向かうに従って前記外周面の外方に次第に変位する傾斜面で形成されている、
ことを特徴とする請求項3記載のペリクルフレーム。 - 前記溝は前記中間部から前記ペリクル膜用環状面に至る長さと、この長さと直交する方向の幅と、深さとを有し、
前記溝の前記中間部における端部は、前記幅方向と深さ方向に沿って延在する端面を有し、
前記端面に、前記ペリクル膜用環状面に近接する方向に窪む凹部が形成されている、
ことを特徴とする請求項3記載のペリクルフレーム。 - 前記請求項1乃至5の何れかのペリクルフレームの係合部に係合可能な係合部を有する、
ことを特徴とするペリクルフレーム剥離治具。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006260481A JP2008083166A (ja) | 2006-09-26 | 2006-09-26 | ペリクルフレーム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006260481A JP2008083166A (ja) | 2006-09-26 | 2006-09-26 | ペリクルフレーム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008083166A true JP2008083166A (ja) | 2008-04-10 |
Family
ID=39354140
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006260481A Pending JP2008083166A (ja) | 2006-09-26 | 2006-09-26 | ペリクルフレーム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2008083166A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008032981A (ja) * | 2006-07-28 | 2008-02-14 | Mtc:Kk | ペリクル枠剥離方法及びその装置並びにこれに使用される剥離治具 |
JP2010102357A (ja) * | 2007-07-06 | 2010-05-06 | Asahi Kasei E-Materials Corp | 大型ペリクルの枠体及び該枠体の把持方法 |
CN101930165A (zh) * | 2009-06-24 | 2010-12-29 | 信越化学工业株式会社 | 防护膜框架及光刻用防护膜 |
JP2013195950A (ja) * | 2012-03-22 | 2013-09-30 | Toppan Printing Co Ltd | ベルクル及びフォトマスク |
EP3470922A1 (en) * | 2017-10-10 | 2019-04-17 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Pellicle frame, pellicle, and method for peeling pellicle |
-
2006
- 2006-09-26 JP JP2006260481A patent/JP2008083166A/ja active Pending
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008032981A (ja) * | 2006-07-28 | 2008-02-14 | Mtc:Kk | ペリクル枠剥離方法及びその装置並びにこれに使用される剥離治具 |
JP2010102357A (ja) * | 2007-07-06 | 2010-05-06 | Asahi Kasei E-Materials Corp | 大型ペリクルの枠体及び該枠体の把持方法 |
CN101930165A (zh) * | 2009-06-24 | 2010-12-29 | 信越化学工业株式会社 | 防护膜框架及光刻用防护膜 |
TWI476510B (zh) * | 2009-06-24 | 2015-03-11 | Shinetsu Chemical Co | 防護膠膜框架及微影用防護膠膜 |
JP2013195950A (ja) * | 2012-03-22 | 2013-09-30 | Toppan Printing Co Ltd | ベルクル及びフォトマスク |
KR20190040444A (ko) * | 2017-10-10 | 2019-04-18 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 펠리클 프레임, 펠리클 및 펠리클의 박리 방법 |
EP3470922A1 (en) * | 2017-10-10 | 2019-04-17 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Pellicle frame, pellicle, and method for peeling pellicle |
CN109656096A (zh) * | 2017-10-10 | 2019-04-19 | 信越化学工业株式会社 | 护层框架、护层和剥离护层的方法 |
JP2019070742A (ja) * | 2017-10-10 | 2019-05-09 | 信越化学工業株式会社 | ペリクルフレーム、ペリクル及びペリクルの剥離方法 |
US10935882B2 (en) | 2017-10-10 | 2021-03-02 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Pellicle frame, pellicle, and method for pelling pellicle |
US11480870B2 (en) | 2017-10-10 | 2022-10-25 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Pellicle frame, pellicle, and method for pelling pellicle |
KR102565514B1 (ko) * | 2017-10-10 | 2023-08-09 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 펠리클 프레임 및 펠리클 |
US11796908B2 (en) | 2017-10-10 | 2023-10-24 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Pellicle frame, pellicle, and method for peeling pellicle |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI431415B (zh) | 具有光罩及遮蓋光罩之防塵薄膜組件的光罩單元與其製造方法。 | |
US10088745B2 (en) | Pellicle for EUV exposure | |
JP5189614B2 (ja) | ペリクル及びその取り付け方法、並びにペリクル付マスク及びマスク | |
TWI815825B (zh) | 防護薄膜框架及防護薄膜組件 | |
CN107436534B (zh) | 表膜构件 | |
JP2008083166A (ja) | ペリクルフレーム | |
JP4512782B2 (ja) | マスク構造体及びそれを用いた半導体デバイスの製造方法 | |
KR102619269B1 (ko) | 리소그래피용 펠리클 용기 | |
US20090286170A1 (en) | Pellicle | |
KR100856621B1 (ko) | 포토 마스크의 펠리클 제거 장치 및 방법 | |
JP5668346B2 (ja) | ペリクルのフォトマスクへの取り付け構造 | |
TWI498672B (zh) | 微影用防塵薄膜組件 | |
US6727029B1 (en) | Method for making reticles with reduced particle contamination and reticles formed | |
US7286205B2 (en) | Closing disk for immersion head | |
JP4100813B2 (ja) | ペリクルフレームおよびこれを用いたリソグラフィー用ペリクル | |
JP7063962B2 (ja) | ペリクルフレーム及びペリクル | |
KR102172217B1 (ko) | 펠리클 수납용기 및 이를 이용한 파티클 제거 방법 | |
KR20070051965A (ko) | 기판 노광 공정에 사용되는 레티클 | |
JP2024038330A (ja) | ペリクルとその専用ペリクルケースからなるアセンブリ | |
JP2004241740A (ja) | 防塵装置、防塵装置付きステンシルマスクおよび露光方法、検査方法と欠陥修正方法 | |
JP2005157222A (ja) | レチクルおよび半導体装置の製造方法 | |
JPS6380257A (ja) | ホトマスク | |
JPH03263046A (ja) | フォトマスク用ペリクル | |
JP2008262093A (ja) | ペリクル膜評価用治具及びペリクル膜の評価方法 | |
KR20070014554A (ko) | 반도체 제조용 포토 마스크 |