JPH03231248A - 異物検査装置及び露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、フォトマスクに装着されたペリクル面上の異
物検査、除去に関する。

［従来の技術］ 半導体装置製造などのフォトエツチング工程で使用され
るフォトマスクには、前記フォトマスク上のＲ物が投影
露光時に転写され、パターン不良を引き起こすことを防
止するために、ペリクルが装着されている６第４図は、
ペリクルが装着されたフォトマスクを示す図であるがペ
リクル（４３）は、ニトロセルロースに代表される透明
薄膜からなり、アルミ合金等からなるペリクル枠（４２
）を介して、フォトマスク（４１）から−定の距離をお
いで、前記フォトマスク（４１）上のパターン部を覆っ
て固定される。前記ペリクル（４３）上には、空気上の
異物が付着するが、投影露光時の焦点位置はフォトマス
ク（４１）面上にあるために、前記ペリクル（４３）上
の異物は焦点ずれとなり、数十μｍ程度までの異物は転
写しない仕組みとなっている。このように、ペリクル〔
４３〕によって、フォトマスク（４１）上への異物付着
は防止されるものの、依然、ペリクル（４３）上の異物
検査は欠かすことができない。

第３区は、フォトマスクに装置されたペリクル面上の異
物を検査する従来の異物検査装置である。フォトマスク
（３１）は、可動ステージ（３３）に保持される６そし
て、光源として、Ｈｅ−Ｎｅレーザーを用い、レーザー
ビーム（３４）は、ガルバノミラ＝（３５）で反射され
、Ｆ−θレンズ（３６）で約１０ｕｍψに絞られ、ペリ
クル（３２）に対して一定の角度を保って斜め方向から
入射する。この時、レーザービーム（３４）をガルバノ
ミラ−（３５）の回転によって、前記ペリクル（３２）
上をＸ軸方向に沿って走査し、更（二可動ステージ（３
３）をｙ軸方向に沿って移動させることにより、前記ペ
リクル（３２）の全域を走査できるように構成されでい
る。

そして、前記ペリクル（３２）上に異物があれば散乱光
を発するため、集光レンズ（３７）により、前記散乱光
を集光し、検出器（３８）で受光する事によって異物の
大きさ、位置を判定した後、そのデータをもとに、ノズ
ル（３９）を用いて気体を吹き付けることにより異物を
除去していた。

次に従来の縮小露光装置であるが、露光前に露光装置に
よって異物検査により異物が発見された場合、従来技術
では、前述と同様にノズルにより気体を吹き付けること
により、その異物を除去していた。

［発明が解決しようとする課題］ しかし、前述の従来技術では、以下のような問題、占を
有する。

従来の異物検査装置及び露光装置は、ペリクル面上の異
物を検査し、そのデータをもとにノズルを用いて気体を
吹き付けることにより異物を除去していた。しかしなが
ら、従来の方法では、異物をその位置から除去できるが
、その異物が完全にペリクル面上から取り除かれる事は
、保証できず、再びペリクルの別の位置に付着する可能
性を否定できない、その場合、作業効率が悪い。また、
仮に異物がペリクル面上から取り除かれたとしても、そ
の異物は、装置内に存在するので、装置内のクリーン度
低下につながり、装置の性格上好ましくない、また、露
光装置において、従来の方法では、異物管理に加えて露
光作業に対しても、その作業効率が悪かった。

そこで、本発明は、このような問題を解決するもので、
その目的とするところは、フォトマスクに装着されたペ
リクル面上の異物を除去する際に、除去効率、作業効率
、装置内のクリーン度を高める事を可能にする異物検査
装！及び露光装！を提供するところにある。

［課題を解決するための手段］ （１）本発明の異物検査装置は、フォトマスクに装着さ
れたペリクル面上の異物を検査する装置において、吸引
することにより、前記異物を除去する機能を有すること
を特徴とする。

（２）本発明は、請求項１記載の異物検査装置において
、ペリクル面上の異物を吸引した後、回収することを特
徴とする。

（３）本発明の露光装置は、ペリクルを装着したフォト
マスクを使用する露光装置において、前記ペリクル面上
の異物を吸引することにより、前記異物を除去する機能
を有することを特徴とする。

（４）本発明は、請求項３記載の露光装置において、ペ
リクル面上の異物を吸引した後、回収することを特徴と
する。

［実　施　例］ 第１図は５本発明の異物検査装置を示す図である。従来
技術同様に、フォトマスク（１１）は、可動ステージ（
１３）に保持され、光源として、Ｈｅ−Ｎｅレーザーを
用い、レーザービーム（１４）は、ガルバノミラ−（１
５）で反射され、Ｆ−θレンズ（１６）で約１０ｕｍφ
に絞られ、ペリクル（１２）に対して一定の角度を保っ
て斜め方向から入射する。この時、レーザービーム（１
４）をガルバノミラ−（１５）の回転によって、前記ペ
リクル（１２）上をＸ軸方向に沿って走査し、更に、可
動ステージ（１３）をｙ軸方向に沿って移動させること
により、前記ペリクル（１２）の全域を走査できるよう
に構成されている。

そして、前記ペリクル（１２）上に異物があれば散乱光
を発するため、集光レンズ（１７）により、前記散乱光
を集光し、検出器（１８）で受光する事によって、異物
の大きさ、位置を判定する。更に、本発明の異物検査装
置には、検出された異物へ、６００ｍｍＨｇの圧力差で
真空の剛力で引かれたノズル（１９）が向けられるよう
になっている。第２図は本発明の異物検査装置によって
検出された異物を除去する方法を示した図であるが、異
物検査によって検出したペリクル（２２）上の異物（２
３）の位置座槽に従って、フォトマスク（２１）が保持
されている可動ステラ（２４）をｘ、ｙ方向に移動して
、前記異物（２３）をノズル（２５）の直下に移動させ
、前記ノズル（２５）より、６００ｍｍＨｇの圧力差で
真空で引かれた。その吸引力を利用して、前記異物（２
３）を吸い取る事により除去するものである。この際、
前記異物（２３）は、前記ノズル（２５）より吸い取ら
れ回収される１回収された異物（２７）は、真空源によ
り再び装置内へ戻ることはない、このことにより、従来
技術のように、前記異物（２７）が再びペリクル面に付
着する事がないことはもちろん、前記装置内に異物が残
ることもない、更に、装置内のクリーン度を低下させる
こともない。よって、従来の問題、屯であった作業効率
、装置内のクリーン度が著しく向上した。

次に以上述べた本発明の異物検査装置を縮小露光装置内
に組み込み、露光前にペリクル面上の異物を、検査−除
去−確認する動作を一貫してできるようにした。従来で
は、異物が発見された場合、気体を吹き付けることによ
り、その異物を除去していた。この方法の場合、前記異
物は再びへりクル面の他の場所に再付着する可能性があ
る。

また、再付着しなくても、異物は装置内にあるので縮小
露光装置の性格上好ましくない。よって、従来の方法で
は、異物管理に加えて露光作業に対しても、その作業効
率が悪かった。しかし、本発明では、異物除去の工程で
異物を吸引し、更に回収するので、除去した異物がペリ
クルに再付着したり、縮小露光装置内のクリーン度低下
にもつながらない、よって、本発明により、これらの問
題は解決され、作業効率、露出効率は、もとより、その
作業工程において、装置内のクリーン度低下をも未然に
防ぐ二とができた。

以上、本発明の一実施例を述べたが、これ以外にも （１）本実施例の異物検圧原理に基ずく装置に限らず、
他の検出原理に・よる異物検査装置に本発明を適用する
。

（２）除去しにくい異物の回収能力を高めるために従来
の方法で異物を吹き飛ばした後に吸引除去する。

（３）フォトマスクが保持されている可動ステージを動
かして、異物をノズル直下に移動する以外に、ノズル側
のみを移動させたり、可動ステージと連動させたりする
。

などについても、本発明の実施例と同様な利点が得られ
る事は言うまでもない。

［発明の効果］ 以上述べたように、本発明によれば、 （１）フォトマスクに装着されたペリクル面上の異物を
検査する異物検査装置において、吸引することにより、
前記異物を除去する機能を有する。

（２）請求項１記載の異物検査装置において、ペリクル
面上の異物を吸引した後、回収する。

（３）ペリクルを装着したフォトマスクを使用する露光
装置において、前記ペリクル面上の異物を吸引すること
により、前記異物を除去する機能を有する。

（４）請求項３記載の露光装置において、ペリクル面上
の異物を吸引した後、回収する。

ことにより、フォトマスクに装着されたペリクル面上の
異物を検査し、除去するときの除去効率を高め、更に、
装置内のクリーン度を向上させるという効果を有するも
のである。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の異物検査装置の一実施例を示す図で
ある。 第２図は、本発明の異物検査装置を用いて、ペリクル面
上の異物を除去する方法を説明する図である。 ８３図は、従来の異物検査装置を示す図である。 第４図は、ペリクルを装着したフォトマスクを示す図で
ある。 ・フォトマスク ・ペリクル ・可動ステージ ・レーザービーム ガルバノミラ− ・Ｆ−θレンズ ・集光レンズ 検出器 ・ノズル フォトマスク ２２　・ ２３　・ ２４　・ ２５　・ ２６　・ ２７　・ ３１　・ ３２　・ ３３　・ ３４　・ ３５　・ ３６　・ ３７　・ ３８　・ ３９　・ １ ４２　・ ４３　・ ・・ペリクル ・・異物 ・・可動ステージ ・・ノズル ・・気流 ・・回収された異物 ・・フォトマスク ・・ペリクル ・・可動ステージ ・・レーザービーム ・・ガルバノミラ ・Ｆ−θレンズ ・・集光レンズ ・・検出器 ・・ノズル ・・フォトマスク ・・ペリクル枠 ・ペリクル 第 図 第 図 第 ３ 図 第 図

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）フォトマスクに装着されたペリクル面上の異物を
   検査する装置において、吸引することにより、前記異物
   を除去する機能を有することを特徴とする異物検査装置
   。
2. （２）ペリクル面上の異物を吸引した後、回収すること
   を特徴とした請求項１記載の異物検査装置。
3. （３）ペリクルを装着したフォトマスクを使用する露光
   装置において、前記ペリクル面上の異物を吸引すること
   により、前記異物を除去する機能を有することを特徴と
   する露光装置。
4. （４）ペリクル面上の異物を吸引した後、回収すること
   を特徴とした請求項３記載の露光装置。