JPH0792093A - 表面状態検査装置 - Google Patents
表面状態検査装置Info
- Publication number
- JPH0792093A JPH0792093A JP25648493A JP25648493A JPH0792093A JP H0792093 A JPH0792093 A JP H0792093A JP 25648493 A JP25648493 A JP 25648493A JP 25648493 A JP25648493 A JP 25648493A JP H0792093 A JPH0792093 A JP H0792093A
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- Japan
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- inspection surface
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 レクチル面やペリクル膜面上に付着したゴミ
や埃等の異物の有無を検査し、該異物を除去するように
した表面状態検査装置を得ること。 【構成】 光源手段からの光束を検査面上に照射し、該
検査面から生ずる散乱光を受光手段で受光して該検査面
上の異物の有無を検出する異物検出手段と、該異物検出
手段からの信号に基づいて該検査面上にイオン化エアー
を吹き付ける吹付け手段を該異物検出手段に隣接して設
けたこと。
や埃等の異物の有無を検査し、該異物を除去するように
した表面状態検査装置を得ること。 【構成】 光源手段からの光束を検査面上に照射し、該
検査面から生ずる散乱光を受光手段で受光して該検査面
上の異物の有無を検出する異物検出手段と、該異物検出
手段からの信号に基づいて該検査面上にイオン化エアー
を吹き付ける吹付け手段を該異物検出手段に隣接して設
けたこと。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は表面状態検査装置に関
し、特に半導体製造装置で使用される回路パターンが形
成されているレチクルやフォトマスク等の基板上又は
（（／及び））ペリクル保護膜を装着したときのペリク
ル保護膜面上に、例えば不透過性のゴミ等の異物が付着
しているか否かを検出し、付着しているときは該異物を
除去するようにした表面状態検査装置に関するものであ
る。
し、特に半導体製造装置で使用される回路パターンが形
成されているレチクルやフォトマスク等の基板上又は
（（／及び））ペリクル保護膜を装着したときのペリク
ル保護膜面上に、例えば不透過性のゴミ等の異物が付着
しているか否かを検出し、付着しているときは該異物を
除去するようにした表面状態検査装置に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】一般にＩＣ製造工程においてはレチクル
又はフォトマスク等の基板上に形成されている露光用の
回路パターンを半導体焼付け装置（ステッパー又はマス
クアライナー）によりレジストが塗布されたウエハ面上
に転写して製造している。
又はフォトマスク等の基板上に形成されている露光用の
回路パターンを半導体焼付け装置（ステッパー又はマス
クアライナー）によりレジストが塗布されたウエハ面上
に転写して製造している。
【０００３】この際、基板面上にパターン欠陥やゴミ等
の異物が存在すると転写する際、異物も同時に転写され
てしまい、ＩＣ製造の歩留を低下させる原因となってく
る。
の異物が存在すると転写する際、異物も同時に転写され
てしまい、ＩＣ製造の歩留を低下させる原因となってく
る。
【０００４】特にレチクルを使用し、ステップアンドリ
ピート方法により繰り返してウエハ面上に回路パターン
を焼付ける場合、レチクル面上に有害な１個の異物が存
在していると該異物がウエハ全面に焼付けられてしまい
ＩＣ工程の歩留を大きく低下させる原因となってくる。
ピート方法により繰り返してウエハ面上に回路パターン
を焼付ける場合、レチクル面上に有害な１個の異物が存
在していると該異物がウエハ全面に焼付けられてしまい
ＩＣ工程の歩留を大きく低下させる原因となってくる。
【０００５】その為、ＩＣ製造工程においては基板上の
異物の存在を検出するのが不可欠となっており、従来よ
り種々の検査方法が提案されている。一般には異物が等
方的に光を散乱する性質を利用する方法が多く用いられ
ている。
異物の存在を検出するのが不可欠となっており、従来よ
り種々の検査方法が提案されている。一般には異物が等
方的に光を散乱する性質を利用する方法が多く用いられ
ている。
【０００６】例えば半導体素子製造用の露光装置に用い
られる表面状態検査装置では露光用マスクを露光装置本
体へ送り込む以前に露光用マスクに付着している異物の
大きさ及び個数等を検査し、その結果が予め設定された
値より大きいか又は多い場合は露光装置への露光用マス
クの送り込みを中断するようにしている。
られる表面状態検査装置では露光用マスクを露光装置本
体へ送り込む以前に露光用マスクに付着している異物の
大きさ及び個数等を検査し、その結果が予め設定された
値より大きいか又は多い場合は露光装置への露光用マス
クの送り込みを中断するようにしている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】従来の半導体素子製造
用の表面状態検査装置では検査面上に予め設定された値
より大きい異物が存在すると判定した露光用マスクは露
光装置本体への送り込みを中断して、一度装置から取り
出している。
用の表面状態検査装置では検査面上に予め設定された値
より大きい異物が存在すると判定した露光用マスクは露
光装置本体への送り込みを中断して、一度装置から取り
出している。
【０００８】そして作業者によってイオナイザーと呼ば
れるイオン化エアー吹付け装置により付着した異物を排
除した後、装置に搬入し、再び表面状態検査装置で検査
面上を検査するようにしている。そして検査面上に所定
の異物が存在しないと判定したときに、該露光用マスク
を露光装置本体に搬入している。
れるイオン化エアー吹付け装置により付着した異物を排
除した後、装置に搬入し、再び表面状態検査装置で検査
面上を検査するようにしている。そして検査面上に所定
の異物が存在しないと判定したときに、該露光用マスク
を露光装置本体に搬入している。
【０００９】この為、従来の露光装置では （イ）処理に時間がかかる （ロ）作業中に誤って露光用マスクを傷つけてしまう （ハ）作業者が露光用マスクを取り扱う為、逆に異物を
多く付着させてしまうことがある 等の問題点があった。
多く付着させてしまうことがある 等の問題点があった。
【００１０】本発明は、露光用マスクの検査面上の異物
の有無を検出し、対象とする大きさ又は（／及び）個数
の異物が存在しているときは作業者の介在を排し、装置
内において直ちに検査面上の異物を除去し、投影露光に
支障のある異物が付着された露光用マスク（基板）が露
光装置に搬入されて異物がウエハに転写されるのを効果
的に防止した表面状態検査装置の提供を目的とする。
の有無を検出し、対象とする大きさ又は（／及び）個数
の異物が存在しているときは作業者の介在を排し、装置
内において直ちに検査面上の異物を除去し、投影露光に
支障のある異物が付着された露光用マスク（基板）が露
光装置に搬入されて異物がウエハに転写されるのを効果
的に防止した表面状態検査装置の提供を目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明の表面状態検査装
置は、光源手段からの光束を検査面上に照射し、該検査
面から生ずる散乱光を受光手段で受光して該検査面上の
異物の有無を検出する異物検出手段と、該異物検出手段
からの信号に基づいて該検査面上にイオン化エアーを吹
付ける吹付け手段を該異物検出手段に隣接して設けたこ
とを特徴としている。
置は、光源手段からの光束を検査面上に照射し、該検査
面から生ずる散乱光を受光手段で受光して該検査面上の
異物の有無を検出する異物検出手段と、該異物検出手段
からの信号に基づいて該検査面上にイオン化エアーを吹
付ける吹付け手段を該異物検出手段に隣接して設けたこ
とを特徴としている。
【００１２】特に、 （１−１）前記光源手段は前記検査面上を一方向に帯状
に照射しており、前記検査面は該一方向と直交する方向
に移動しており、該直交する方向に対して順に前記吹付
け手段と該光源手段が配置していること。
に照射しており、前記検査面は該一方向と直交する方向
に移動しており、該直交する方向に対して順に前記吹付
け手段と該光源手段が配置していること。
【００１３】（１−２）前記吹付け手段はイオン化エア
ーを射出する射出部を有し、該射出部はイオン化エアー
を検査面に対して９０度以下の角度で吹付けているこ
と。
ーを射出する射出部を有し、該射出部はイオン化エアー
を検査面に対して９０度以下の角度で吹付けているこ
と。
【００１４】（１−３）前記吹付け手段は検査面からの
イオン化エアーを吸入する排気部を有し、該排気部は検
査面の法線に対して前記射出部に対して反対側に配置し
ていること。 等を特徴としている。
イオン化エアーを吸入する排気部を有し、該排気部は検
査面の法線に対して前記射出部に対して反対側に配置し
ていること。 等を特徴としている。
【００１５】
【実施例】図１，図２は本発明の実施例１の要部概略図
である。図１においては本発明に係る異物検出手段と吹
付け手段とが隣接して装置内に配置されている場合を示
している。
である。図１においては本発明に係る異物検出手段と吹
付け手段とが隣接して装置内に配置されている場合を示
している。
【００１６】本実施例ではレーザー光源３から発したビ
ームはピンホール３ａを通過し、ビームエキスパンダー
４により所定の光束径に変換し、ビーム形成部ＢＭに入
射している。ビーム形成部ＢＭはビームスプリッター２
０，２１とコーナーキューブ２２とを有し、入射光束を
２つの光束６ａ，６ｂに分離して射出している。
ームはピンホール３ａを通過し、ビームエキスパンダー
４により所定の光束径に変換し、ビーム形成部ＢＭに入
射している。ビーム形成部ＢＭはビームスプリッター２
０，２１とコーナーキューブ２２とを有し、入射光束を
２つの光束６ａ，６ｂに分離して射出している。
【００１７】即ちビーム形成部ＢＭは入射光束をビーム
スプリッター２０により強度の等しい２つの光束Ａ，Ｂ
に分離している。そして分離した一方の光束Ａはコーナ
ーキューブ２２によってビームスプリッター２１へ反射
している。
スプリッター２０により強度の等しい２つの光束Ａ，Ｂ
に分離している。そして分離した一方の光束Ａはコーナ
ーキューブ２２によってビームスプリッター２１へ反射
している。
【００１８】但しここでコーナーキューブ２２がＸ方向
へ所定量Ｌ／２だけシフトして設定している為、ビーム
スプリッター２１で元のビームと再合成された後に射出
される２つの光束Ａａ，Ｂａは各々平行であり、且つ２
つの光束Ａａ，Ｂａの中心間の距離がＬだけ離れたもの
となっている。
へ所定量Ｌ／２だけシフトして設定している為、ビーム
スプリッター２１で元のビームと再合成された後に射出
される２つの光束Ａａ，Ｂａは各々平行であり、且つ２
つの光束Ａａ，Ｂａの中心間の距離がＬだけ離れたもの
となっている。
【００１９】更にビームスプリッター２１はハーフミラ
ーである為に各々合成された光束が２方向の２つの光束
６ａ，６ｂとなって射出され、各々後述するようにマス
ク１のブランク面１ａと下ペリクル面２ａの検査用の光
束となっている。
ーである為に各々合成された光束が２方向の２つの光束
６ａ，６ｂとなって射出され、各々後述するようにマス
ク１のブランク面１ａと下ペリクル面２ａの検査用の光
束となっている。
【００２０】ブランク面検査用の光束６ａはミラー７に
より所定の角度θでブランク面１ａに斜めに入射され
る。下ペリクル面検査用の光束６ｂも又、ミラー８，９
により所定の角度θで下ペリクル面２ｂに斜めに入射さ
れる。これにより、検査面上にはレーザービームの照明
領域１０がＹ方向に直線状に形成される。
より所定の角度θでブランク面１ａに斜めに入射され
る。下ペリクル面検査用の光束６ｂも又、ミラー８，９
により所定の角度θで下ペリクル面２ｂに斜めに入射さ
れる。これにより、検査面上にはレーザービームの照明
領域１０がＹ方向に直線状に形成される。
【００２１】次に説明の簡略化の為、マスク１の裏面
（ブランク面）１ａを検査面とし、その面の異物の有無
の検査を例にとり説明する。
（ブランク面）１ａを検査面とし、その面の異物の有無
の検査を例にとり説明する。
【００２２】例えばレーザービームの照明領域１０上に
異物１１が存在した場合、異物１１から散乱光が発生す
る。散乱光はレーザービームの照明領域１０に沿って配
置された散乱光受光用の結像レンズ１２により受光手段
としてのラインセンサー１３上に結像する。
異物１１が存在した場合、異物１１から散乱光が発生す
る。散乱光はレーザービームの照明領域１０に沿って配
置された散乱光受光用の結像レンズ１２により受光手段
としてのラインセンサー１３上に結像する。
【００２３】本実施例では散乱光受光用のレンズにアレ
ーレンズを用いているが通常のカメラレンズのような結
像レンズ又はフーリエ変換レンズでも良い。
ーレンズを用いているが通常のカメラレンズのような結
像レンズ又はフーリエ変換レンズでも良い。
【００２４】本実施例では図２に示すように光学系全体
１４がマスク１に対してレーザービームの照明領域１０
に対して交差する方向（図中のＸ方向）に相対的に走査
されることによってマスク１の全面の検査を行ってい
る。そして受光手段１３からの出力信号を用いて検査面
１ａに異物が存在しているか否かを検出している。
１４がマスク１に対してレーザービームの照明領域１０
に対して交差する方向（図中のＸ方向）に相対的に走査
されることによってマスク１の全面の検査を行ってい
る。そして受光手段１３からの出力信号を用いて検査面
１ａに異物が存在しているか否かを検出している。
【００２５】図１の異物検出手段のＸ軸方向（露光用マ
スクの移動方向）の前方（図中左側）には隣接して吹付
け手段が配置されている。そして吹付け手段は異物検出
手段からの信号に基づいて検査面上に異物が存在してい
るときは装置から取り外さずに直ちに該検査面にイオン
化エアーを吹付けて検査面上から異物を除去している。
スクの移動方向）の前方（図中左側）には隣接して吹付
け手段が配置されている。そして吹付け手段は異物検出
手段からの信号に基づいて検査面上に異物が存在してい
るときは装置から取り外さずに直ちに該検査面にイオン
化エアーを吹付けて検査面上から異物を除去している。
【００２６】図３は本実施例の吹付け手段ＦＤの構成の
要部概略図である。
要部概略図である。
【００２７】一般に露光用マスク等における検査面上に
付着した異物としては静電気を帯びたもの（帯電物）が
多い。
付着した異物としては静電気を帯びたもの（帯電物）が
多い。
【００２８】この為、本実施例では吹付け手段として空
気を正イオンと負イオンにして異物に照射して検査面上
に付着した異物を除去するようにしている。
気を正イオンと負イオンにして異物に照射して検査面上
に付着した異物を除去するようにしている。
【００２９】図３に示すように本実施例の吹付け手段Ｆ
Ｄはイオン化エアーを射出する射出部１５と検査面１ａ
からのイオン化エアー１８を吸入する排気部１６とを有
している。射出部１５はイオン化エアーを検査面１ａに
対して９０度以下の角度で吹付けている。
Ｄはイオン化エアーを射出する射出部１５と検査面１ａ
からのイオン化エアー１８を吸入する排気部１６とを有
している。射出部１５はイオン化エアーを検査面１ａに
対して９０度以下の角度で吹付けている。
【００３０】排気部１６はイオン化エアー１８により無
帯電化し、吹き飛ばし且つ吹付けられたエアーが周囲の
ゴミを巻き上げないように吸引している。
帯電化し、吹き飛ばし且つ吹付けられたエアーが周囲の
ゴミを巻き上げないように吸引している。
【００３１】ここでイオン化エアーの射出部１５と排気
部１６の位置関係は図３に示す如くマスク１の垂直面１
７に対して互いに反対方向の角度を成していてイオン化
エアー１８が周囲に散らずに排気部１６へ導かれるよう
に構成している。
部１６の位置関係は図３に示す如くマスク１の垂直面１
７に対して互いに反対方向の角度を成していてイオン化
エアー１８が周囲に散らずに排気部１６へ導かれるよう
に構成している。
【００３２】本発明においては検査面上の異物の有無を
検査する異物検出手段の前に吹付け手段を配置したが、
構造上等の制約により異物検出手段の前に構成できない
場合は異物検出手段の後に配置し、異物検査の結果がＮ
Ｇの場合は自動的にエアー吹付けを行なった後で再設定
をするようなシーケンスにしても良い。
検査する異物検出手段の前に吹付け手段を配置したが、
構造上等の制約により異物検出手段の前に構成できない
場合は異物検出手段の後に配置し、異物検査の結果がＮ
Ｇの場合は自動的にエアー吹付けを行なった後で再設定
をするようなシーケンスにしても良い。
【００３３】
【発明の効果】本発明によれば以上のように、露光用マ
スクの検査面上の異物の有無を検出し、対象とする大き
さ又は（／及び）個数の異物が存在しているときは作業
者の介在を排し、装置内において直ちに検査面上の異物
を除去し、投影露光に支障のある異物が付着された露光
用マスク（基板）が露光装置に搬入されて異物がウエハ
に転写されるのを効果的に防止した表面状態検査装置を
達成することができる。
スクの検査面上の異物の有無を検出し、対象とする大き
さ又は（／及び）個数の異物が存在しているときは作業
者の介在を排し、装置内において直ちに検査面上の異物
を除去し、投影露光に支障のある異物が付着された露光
用マスク（基板）が露光装置に搬入されて異物がウエハ
に転写されるのを効果的に防止した表面状態検査装置を
達成することができる。
【図１】 本発明の実施例１の要部概略図
【図２】 本発明の実施例１の要部概略図
【図３】 図１の一部分の要部側面図
【符号の説明】 １ マスク ２ ペリクル支持枠 ３ 光源手段 ４ ビームエクスパンダー ７，８，９ ミラー １０ 照明領域 １１ 異物 １２ 結像レンズ １３ 受光手段 ＢＭ ビーム形成部 ＦＤ 吹付け手段
Claims (4)
- 【請求項１】 光源手段からの光束を検査面上に照射
し、該検査面から生ずる散乱光を受光手段で受光して該
検査面上の異物の有無を検出する異物検出手段と、該異
物検出手段からの信号に基づいて該検査面上にイオン化
エアーを吹付ける吹付け手段を該異物検出手段に隣接し
て設けたことを特徴とする表面状態検査装置。 - 【請求項２】 前記光源手段は前記検査面上を一方向に
帯状に照射しており、前記検査面は該一方向と直交する
方向に移動しており、該直交する方向に対して順に前記
吹付け手段と該光源手段が配置していることを特徴とす
る請求項１の表面状態検査装置。 - 【請求項３】 前記吹付け手段はイオン化エアーを射出
する射出部を有し、該射出部はイオン化エアーを検査面
に対して９０度以下の角度で吹付けていることを特徴と
する請求項１の表面状態検査装置。 - 【請求項４】 前記吹付け手段は検査面からのイオン化
エアーを吸入する排気部を有し、該排気部は検査面の法
線に対して前記射出部に対して反対側に配置しているこ
とを特徴とする請求項３の表面状態検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25648493A JPH0792093A (ja) | 1993-09-20 | 1993-09-20 | 表面状態検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25648493A JPH0792093A (ja) | 1993-09-20 | 1993-09-20 | 表面状態検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0792093A true JPH0792093A (ja) | 1995-04-07 |
Family
ID=17293284
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25648493A Pending JPH0792093A (ja) | 1993-09-20 | 1993-09-20 | 表面状態検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0792093A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100669944B1 (ko) * | 2004-04-21 | 2007-01-18 | 주식회사 나래나노텍 | 이물질 제거와 검출기능을 갖춘 박막성형장치 |
| JP2015121503A (ja) * | 2013-12-25 | 2015-07-02 | 新東エスプレシジョン株式会社 | 検査装置 |
-
1993
- 1993-09-20 JP JP25648493A patent/JPH0792093A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100669944B1 (ko) * | 2004-04-21 | 2007-01-18 | 주식회사 나래나노텍 | 이물질 제거와 검출기능을 갖춘 박막성형장치 |
| JP2015121503A (ja) * | 2013-12-25 | 2015-07-02 | 新東エスプレシジョン株式会社 | 検査装置 |
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