JPS6246239A - 表面異物検査装置 - Google Patents

表面異物検査装置

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JPS6246239A
JPS6246239A JP60188200A JP18820085A JPS6246239A JP S6246239 A JPS6246239 A JP S6246239A JP 60188200 A JP60188200 A JP 60188200A JP 18820085 A JP18820085 A JP 18820085A JP S6246239 A JPS6246239 A JP S6246239A
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JP
Japan
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mask blank
foreign
circuit
size
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JP60188200A
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JPH0743323B2 (ja
Inventor
Shinya Kato
真也 加藤
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/94Investigating contamination, e.g. dust

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 目I\要] 本発明は、表面異物検査装置であって、例えば露光用マ
スクまたはレチクル等のパターンでも、特にパターンが
稠密で精度を要する領域や、比較的単純なパターン領域
、またマスク周辺等で殆どパターンがなされていない領
域等があるが、予めこれらのそれぞれの領域に異なる異
物検査判定基準を設けておき、それによってマスクの異
物の検査を行うことにより、それぞれの領域の異物の検
査基準が実用的に検査されて、検査が過剰品質にならな
いような適切な検査が行なえるようにしたものである。
[産業上の利用分野] 本発明は、表面異物検査機に係わり、特にマスク等の表
面に付着する異物検査に関するものである。
近時、半導体装置をはじめ多くのデバイスで、光学、電
子線、X線等の技術を駆使した、極微細でi?]i精度
の露光が行われているが、転写されたパターンの品質は
露光に使用されたマスクは勿論のことパターニングがな
されるマスクブランクの品質に大きく左右される。
例えば、マスクまたはレチクルのパターニングを行う場
合には、マスクブランクの表面に?fiNJしたレジス
ト膜を露光して、パターンを形成することになるが、こ
のマスクブランクの表面に異物が付着していると、その
異物によってパターニングに断線や短絡を生ずることに
なるので、異物の除去には厳密な検査が必要になる。
然しなから、従来のマスクブランクの表面検査では、レ
ーザ光線等でマスクブランクの表面を均一に走査し、異
物の数量や大きさを検知した後、メモリに予め格納され
た異物の判定基準と比較して、良否を判断をしているた
めに、屡マスクの異物検査が過剰品質を生むことになり
、経済性のある検査装置が要望されている。
[従来の技術〕 第3図は、従来の基板表面の異物検査装置の構成を示す
ブロック図である。
基板lとして例えばマスクブランクがあり、その表面に
付着している異物2を検出するために、通常レーザ発擾
器3を用い、そこから発射される点線のレーザビームは
光学系4を介して、振動ミラー5に投射され、1辰勤ミ
ラーの角度変化によって、マスクブランクの表面を、レ
ーザビームが走査する。
マスクブランクの表面から反射されるレーザビームは散
乱光として集光r:I6で集光され、マスクブランクス
の表面の凹凸、特に異物については、その位置関係と大
小が圧砕に検知できるように成っている。
集光器6からの信号は、異物検出回路7に入力され、レ
ーザビーム走査との位置信号と同期させて、マスクブラ
ンク表面上の異物の位5ffi(X−Y座標)、存在す
る異物の大小、数量等が計数される。
一方、マスクブランクの表面における異物の数量の許容
限度と異物の大きさの許容限度を格納した許容限度メモ
リ回路8があって、上記の異物検出回路7からの出力と
許容限度メモリ回路8からの出力が比較回路9によって
比較することにより、許容限度と比較した異物の数量、
大きさの大小により、マスクブランクの良否の判断が判
別装置10に表示される。
このように従来のマスクブランクの表面に付着している
異物の検出方法では、マスクブランクの全面に渡って均
一な判定基準で検査をするために、例えばマスクブラン
クでパターンを形成しない領域でも、判定基準以上の異
物があると不良とや)断され、実用的でないという欠点
がある。
[発明が解決しようとする問題点] 従来のマスクブランクの表面検査では、マスクブランク
の全面を均一な判定基準を適用していることが問題点で
ある。
[問題点を解決するための手段〕 本発明は、上記問題点を解決するための表面異物検査装
置を提供するもので、その解決の手段は、マスクを製作
するためのマスクブランク等の表面に付着している異物
の数量や大小を検査する際に、マスクブランクの表面に
ついて、パターンの稠密度や精度を勘案した予め指定さ
れた複数の領域に区分し、それぞれの区分した領域毎に
合理的な判定基準を設定しておき、レーザ走査によって
得られた異物のデータと、それぞれの領域に設定した判
定基準とを比較することにより、マスクブランク表面に
付着している異物の数量や大小を領域毎に比較して1仝
査するようにして解決したものである。
[作用〕 本発明は、従来のマスクブランクの表面に付着している
異物の検査を均一に行うことを改め、同一マスクブラン
クでも、パターンを形成しない領域や過疎な領域には、
多少の異物が存在しても差支えがないとし、反対に高精
度で緻密なパターンを形成する領域には、厳重な検査を
行うようにしたもので、マスクブランクの表面検査の基
準をマスフの実用性から良否の判断を行うようにしたも
のであり、これによって最も経済性の高い表面検査装置
が実現することになる。
[実施例] 第1図は本発明による表面異物検査装置のブロック図で
ある。
基Fitとして例えばマスクブランクスがあり、その表
面に付着している異物2を検出するためのレーザ発振器
3、光学系4、振動ミラー5でマスクブランクスの表面
をレーザビームで走査し、マスクブランクスの表面で反
射されたレーザビームの散乱光を、集光器6に集光して
、異物検出回路7に人力するのは、従来例と全く同一で
あり、符合も同一符合を附している。
本発明による、マスクブランクスの表面に付着する異物
の数量の許容限度と、異物の大きさの許容限度を格納し
た、マスクブランクスのそれぞれの領域毎の許容限度メ
モリ回路11が新たに設けである。
異物1仝出回路7からの出力と本発明による許容限度メ
モリ回路11からの出力が比較回路12によって、それ
ぞれのマスクブランクの領域毎に比較され、許容限度と
比較して存在する異物の数量、大きさの大小により、マ
スクブランクスの良否の判断が判別回路13に表示され
る。
第2図は、−例としてマスクブランクスの表面にバター
ニングがなされるべき緻密度や精度に応じて、領域の区
分けを行った平面図である。
バターニングの精度に応じて、稠密にバターニングがな
される領域を点線で示すようにA領域とし、異物の存在
を最も制限すべき領域であり、枠部はB領域として異物
の存在に中程度の制限を設け、マスクブランクスの周辺
部はC領域として異物の存在を大幅に緩和した許容限度
とするものである。
これらの限度数値はメモリとして、第1図の許容限度メ
モリ回路11にそれぞれA、B、Cメそりとして格納さ
れている。
このようにマスクブランクの表面にバターニングがなさ
れるべき稠密度により、異物付着の限度を領域により区
別することにより、合理的にマスクブランクの異物付着
程度の良否を判断することができる。
[発明の効果] 以上、詳細に説明したように、本発明による表面異物検
査装置を採用することにより、最も合理的且つ経済的に
マスクブランクの表面検査をすることができ、マスクブ
ランクの製造工程の合理化に寄与するという効果大なる
ものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の表面異物検査装置の要部ブロック図
、 第2図は、本発明のマスクブランクの領域を示す平面図
、 第3図は、従来の表面異物検査装置の要部ブロック図、 図において、 lは基板、       2は異物、 3はレーザ発振器3、4は光学系、 5は振動ミラー、    6は集光器、7は異物検出回
路、 11は許容限度メモリ回路、 12は比較回路、    13は判別回路、をそれぞれ
示している。 第1図 マズ7グ′7肩、−−7骨ぺ゛ce孝7す面図第 2 
図 もUシl涛よ丁反&i白の畳革勿茅文イ11交7Lシフ
゛ロー、7w第 3図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 基板(1)の表面に付着している異物(2)の数量や大
    きさを検知し、その検知結果を所定の基準値と比較して
    異物の許容限度を検査する表面異物検査装置において、 該基板表面を予め指定された領域に区分して、それぞれ
    の該領域について、それぞれ異なるの異物の数量と大き
    さの限度の異物判定基準を許容限度メモリ回路(11)
    に設定しておき、 該表面異物検査装置で検知した基板表面の異物の数量や
    大きさを上記それぞれの領域について、上記領域毎の異
    物判定基準と比較して判別するようにしたことを特徴と
    する表面異物検査装置。
JP18820085A 1985-08-26 1985-08-26 表面異物検査装置 Expired - Fee Related JPH0743323B2 (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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JP2012520570A (ja) * 2009-03-13 2012-09-06 ケーエルエー−テンカー・コーポレーション ウェーハ用検査工程を生成するための方法及びシステム

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