JPH03155550A - 異物検査装置及び投影露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野１ 本発明は、フォトマスクに装着されたペリクル面上の異
物の検査、除去に関する。

［従来の技術］ 半導体装置製造などのフォト工程で使用されるフォトマ
スクには、前記フォトマスク上の異物が投影露光時に転
写され、バクーン不良を引き起こすことを防止するため
に、ペリクルが装着されている。第４図は、ペリクルが
装着されたフォトマスクを示す図であるが、ペリクル（
４３）は、ニトロセルロースに代表される透明薄膜から
なり、アルミ合金等からなるペリクル枠（４２）を介し
て、フォトマスク（４１）から一定の距離をおいて、前
記フォトマスク（４１）上のパターン部を層って固定さ
れる。前記ペリクル（４３）上には、空気中の異物が付
着するが、投影露光時の焦点位置はフォトマスク（４１
）面上にあるために、前記ペリクル（４３）上の異物は
焦点ズレとなり、数十ミクロン程度までの異物は転写し
ない仕組みとなっている。このように、ペリクルによっ
て、フォトマスク上への異物付着は防止されたものの、
依然、ペリクル上の異物検査は欠かすことができない。

第３図は、フォトマスクに装置されたへりタル面上の異
物を検査する従来の異物検査装置を示す図である。フォ
トマスク（３１）は、可動ステージ（３３）に保持され
る。そして、光源としてＨｅ−Ｎｅレーザーを用い、レ
ーザービーム（３４）は、ガルバノミラ−（３５）で反
射され、Ｆ−θレンズ（３６）で約１０ｕｍφに絞られ
、ベノクル（３２）に対して一定の角度を保って斜め方
向から入射する。この時、レーザービーム（３４）をガ
ルバノミラ−（３５）の回転によって、前記ペリクル（
３２）上をＸ軸方向に沿って走査し、更に、可動ステー
ジ（３３）をＹ軸方向に沿って移動させることにより、
前記ペリクル（３２）の全域を走査できるように構成さ
れている。

そして、前記ペリクル（３２）上に異物があれば散乱光
を発するため、集光レンズ（３７）により前記散乱光を
集光し、検出器（３８）で受光することによって、異物
の大きさ、位置を判定していた。ところが、従来の異物
検査装置は、ペリクル面上の異物を検査するのみで、検
出された異物を除去する機構を有していなかった。また
、従来の投影露光装置には、その中に、前述の異物検査
装置が組み込まれていた。

〔発明が解決しようとする課題１ しかし、前述の従来技術では、以下なる問題点を有する
。

従来の異物検査装置は、ペリクルｆ上の異物を検査する
のみで、検出された異物を除去する機構を有していない
ために、異物除去は前記装置外において、窒素ガスなど
の加圧された気体を前記異物に向けて吹き付けるなどの
方法により行なわれていた。そして、確認のために、再
度、ペリクル面上の異物検査を実施する必要があるわけ
だが、異物除去後に、再び、フォトマスクを異物検査装
置にセットするまでの間に、また、異物がペリクル面上
に付着してしまう場合が少なくなく、異物の除去効率が
悪かった。また、異物除去のたびに、フォトマスクを異
物検査装置外へ出す必要があるため、異物を検査し、そ
れを除去する時の作業効率が悪かった。また、この問題
は、投影露光装置内に、異物検査装置が組み込まれてい
る場合においても同様である。そこで、本発明は、この
ような問題を解決するもので、その目的とするところは
、フォトマスクに装着されたペリクル面上の異物を検査
し、それを除去する時の除去効率、及び１作業効率を高
めることができる異物検査装置を提供するところにある
。

［課題を解決するための手段］ （１）本発明の異物検査装置は、フォトマスクに装着さ
れたペリクル面上の異物を検査する装置において、加圧
された気体を吹き付けて、前記異物を除去する機構を有
することを特徴とする。

（２）本発明の異物検査装置は、前記第１項記載の異物
検査装置において、ペリクル面上の異物を検査した後に
、前記異物を除去し、確認のために、再度、異物検査を
するという動作を一貫して行なうことを特徴とする。

（３）本発明の異物検査装置は、前記第１項Ｈ己載の異
物検査装置において、前記第２項記載の一連の動作を、
設定された基準値を満足するまで、繰り返し実施するこ
とを特徴とする。

（４）本発明の投影露光装置は、ペリクルを装着したフ
ォトマスクを用いて投影露光を行なう装置において、前
記露光装置の中に、前記第１項、または第２項、または
第３項記載の異物検査装置を有することを特徴とする。

［実　施　例］ 第１図は、本発明の異物検査装置を示す図であるが、従
来と同様に、フォトマスク（１１）は、可動ステージ（
１３）に保持され、光源としてＨｅ−Ｎｅレーザーを用
い、レーザービーム（１４）は、ガルバノミラ−（１５
）で反射され、Ｆ−θレンズ（１６）で約１０μｍφに
絞られ、ペリクル（１２）に対して一定の角度を保って
斜め方向から入射する。この時、レーザービーム（１４
）をガルバノミラ−（１５）の回転によって、前記ペリ
クル（１２）上をＸ軸方向に沿って走査し、更に、可動
ステージ（１３）をＹ軸方向に沿って移動させることに
より、前記ペリクル（１２）の全域を走査できるように
構成されている。そして、前記ペリクル（１２）上に異
物があれば散乱光を発するため、集光レンズ（１７）に
より前記散乱光を集光し、検出器（３８）で受光するこ
とによって、異物の大きさ、位置を判定する。更に、本
発明の異物検査装置には、フィルターによって清浄化さ
れ、２ｋｇ／ｃｍ”に加圧された窒素ガスを、前記検出
された異物に向けて吹き付けるためのノズル（１９）が
設けられている。そして、第２図は、本発明の装置を用
いて異物検査によって検出されたペリクル面上の異物を
除去する方法を説明する図であるが、異物検査によって
検出したペリクル（２２）上の異物（２３）の位置座標
に従って、ペリクル（２２）を装着したフォトマスク（
２１）が保持されている可動ステージ（２４）を、Ｘ、
Ｙ方向に動かして、前記異物（２３）を、ノズル（２５
）の直下に移動させ、前記ノズル（２５）から、フィル
ターによって清浄化され、また、２ｋｇ／ｃｍ”に加圧
された窒素ガス（２６）を、前記異物（２３）に向けて
吹き付けることによって除去するものである。これによ
って、検出された異物を除去するために、フォトマスク
を前記装置外へ出す必要がな（なり、従来の問題点であ
った、異物除去後に、確認のために、再度、フォトマス
クを異物検査装置にセットするまでの間に生じる、ペリ
クル面上への異物の再付着を防止することができ、異物
の除去効率は著しく向上した。

更に、本発明の異物検査装置においては、ペリクル面上
の異物を検査した後に、検出された異物を除去し、確認
のために、再度、異物検査をするという動作を一貫して
行なえるようにした。これによって、検査−除去−確認
という一連の作業を、１つの装置内で全て行なうことが
可能となり、従来に比べ、作業効率も著しく向上した。

また、本発明においては、前述の一連の動作を、例えば
、２０μｍ以上の大きさの異物を０個にするといった、
設定された基準値を満足するまで、繰り返し実施するこ
とを可能にした。これによって、検査−除去−確認とい
う一連の作業を、設定された基準値を満足するまで、人
間の手を介さず、自動で実施することができ、作業効率
は、更に向上した。

次に、以上述べた本発明の異物検査装置を、縮小投影露
光装置の中に組み込み、露光前に、ペリクル面上の異物
を、検査→除去−確認する動作を一貫してできるように
した。従来においては、異物が発見されれば、それを除
去するために、゛）オドマスクを、わざわざ露光装置外
へ出していたので、異物管理に加えて、露光作業に対し
ても、その作業効率を落していた。しかし、本発明によ
って、この問題は解消され、作業効率は、露光作業を含
めて改善された。

以上、本発明の一実施例を述べたが、これ以外に、 ・本実施例の異物検出原理に基づ（装置に限らず、他の
検出原理による異物検査装置に、本発明を適用する。

・ノズル方式に限らず、別な方式によって、加圧された
気体を異物に向けて吹き付ける。

・フォトマスクが保持されている可動ステージを動かし
て、異物をノズル直下に移動する以外に、ノズル側のみ
を動かしたり、または、ノズルと、可動ステージが連動
して移動する。

・窒素ガス以外の清浄化された気体を用いる。

・２ｋｇ／ｃｍ’以外の圧力に気体を加圧する。

・本発明の異物検査装置を、縮小投影露光装置以外の、
１：１投影露光装置などに組み込む。

などの場合においても、前述の実施例と同様な利点が得
られることは言うまでもない。

［発明の効果］ 以上述べたように、本発明によれば、 （１）フォトマスクに装着されたペリクル面上の異物を
検査する装置において、加圧された気体を吹き付けて、
前記異物を除去する機構を有する。

（２）前記第１項記載の異物検査装置において、ペリク
ル面上の異物を検査した後に、前記異物を除去し、確認
のために、再度、異物検査をするという動作を一貫して
行なう （３）前記第１項記載の異物検査装置において、前記第
２項記載の一連の動作を、設定された基準値を満足する
まで、繰り返し実施する。

（４）ペリクルを装着したフォトマスクを用いて投影露
光を行なう装置において、前記露光装置の中に、前記第
１項、または、第２項、または第３項記載の異物検査装
置を有する。

こと（こより、フォトマスク（こ装着されたペリクル面
上の異物を検査し、除去する時の除去効率を高め、また
、前記異物に対する検査−除去−確認という一貫した作
業の効率を高めることができる。

更に、本発明の異物検査装置を、投影露光装置内に組み
込むことにより、前述の一連の異物管理に加えて、５光
作業についても、その作業効率を高めることができると
いう効果を有するものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の異物検査装置の一実施例を示す図で
ある。 第２図は、本発明の異物検査装置を用いて、ペリクル面
上の異物を除去する方法を説明する図である。 第３図は、従来の異物検査装置を示す図である。 第４図は、ペリクルを装置したフォトマスクを示す図で
ある。 １１　・ １２　・ １３　・ ｌ　４　・ 　５ １６　・ １７　・ １８　・ ・フォトマスク ・ペリクル 可動ステージ ・レーザービーム ・ガルバノミラ− ・Ｆ−θレンズ ・集光レンズ ・検出器 １９　・　・ ２１　　　・ ２２　・　・ ２３　・ ２４　・ ２５　・ ２６　・ ３１　・ ３２　・ ３３　・ ３４　・ ３５　・ ３６　・ ３７　・ ３８　・ ４１　・ ４２　・ ４３　・ ・ノズル ・フォトマスク ・ペリクル ・異物 ・可動ステージ ・ノズル ・窒素ガス ・フォトマスク ・ペリクル 可動ステージ ・レーザービーム ・ガルバノミラ− ・Ｆ−θレンズ ・集光レンズ ・検出器 ・フォトマスク ・ペリクル枠 ・ペリクル ′第１回 ２Ｉ：１ 以 上 １２回

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）フォトマスクに装着されたペリクル面上の異物を
   検査する装置において、加圧された気体を吹き付けて、
   前記異物を除去する機構を有することを特徴とする異物
   検査装置。
2. （２）ペリクル面上の異物を検査した後に、前記異物を
   除去し、確認のために、再度、異物検査をするという動
   作を一貫して行なうことを特徴とする請求項１記載の異
   物検査装置。
3. （３）請求項２記載の一連の動作を、設定された基準値
   を満足するまで、繰り返し実施することを特徴とする請
   求項１記載の異物検査装置。
4. （４）ペリクルを装着したフォトマスクを用いて投影露
   光を行なう装置において、前記露光装置の中に、請求項
   １、２、または３記載の異物検査装置を有することを特
   徴とする投影露光装置。