JPH10308337A - ホトマスクの洗浄方法及びその洗浄用治具 - Google Patents
ホトマスクの洗浄方法及びその洗浄用治具Info
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- JPH10308337A JPH10308337A JP11327697A JP11327697A JPH10308337A JP H10308337 A JPH10308337 A JP H10308337A JP 11327697 A JP11327697 A JP 11327697A JP 11327697 A JP11327697 A JP 11327697A JP H10308337 A JPH10308337 A JP H10308337A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 マスクの表面（パターン面）に貼られている
ペリクルを剥がすことなく、しかも汚すことなくマスク
の裏面のみを洗浄し、汚れ（くもり等）を除去すること
ができるホトマスクの洗浄方法及びその洗浄用治具を提
供する。 【解決手段】 洗浄用治具２１は空洞Ａを有する四角形
状の枠体２２をなし、その内周部にペリクル付マスク１
０の保持部となる段部２３が形成されて、この段部２３
でペリクル１２を下方にしたペリクル付マスク１０を密
封状態に保持する。そこで、ノズル１５から洗浄液１６
をペリクル付マスク１０の裏面（ガラス部）に吹き付け
るとともに、スピナ洗浄装置２５を回転させて、洗浄を
行う。
ペリクルを剥がすことなく、しかも汚すことなくマスク
の裏面のみを洗浄し、汚れ（くもり等）を除去すること
ができるホトマスクの洗浄方法及びその洗浄用治具を提
供する。 【解決手段】 洗浄用治具２１は空洞Ａを有する四角形
状の枠体２２をなし、その内周部にペリクル付マスク１
０の保持部となる段部２３が形成されて、この段部２３
でペリクル１２を下方にしたペリクル付マスク１０を密
封状態に保持する。そこで、ノズル１５から洗浄液１６
をペリクル付マスク１０の裏面（ガラス部）に吹き付け
るとともに、スピナ洗浄装置２５を回転させて、洗浄を
行う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造用ホト
マスクの洗浄方法に関するものである。
マスクの洗浄方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、ペリクル付マスクの裏面（ガラス
部）が汚れた場合、ペリクルを剥して洗浄し、再度ペリ
クルを貼り付けて再検査することにより、汚れの除去を
行っていた。図７はかかる従来のペリクル付マスクの洗
浄工程図である。
部）が汚れた場合、ペリクルを剥して洗浄し、再度ペリ
クルを貼り付けて再検査することにより、汚れの除去を
行っていた。図７はかかる従来のペリクル付マスクの洗
浄工程図である。
【０００３】（１）図７（ａ）に示すように、マスク基
板１の表面にペリクル２が貼り付けられたペリクル付マ
スク３が用意されており、（２）図７（ｂ）に示すよう
に、そのペリクル付マスク３の裏面（ガラス部）Ａに汚
れ４が付着すると、（３）図７（ｃ）に示すように、ペ
リクル２を剥がし、ペリクル２が剥がされたマスク基板
１を、（４）図７（ｄ）に示すように、洗浄した後、
（５）図７（ｅ）に示すように、マスク基板１に新たな
ペリクル５を、再貼付した後、（６）図７（ｆ）に示す
ように、そのペリクル付マスク６を再検査する。
板１の表面にペリクル２が貼り付けられたペリクル付マ
スク３が用意されており、（２）図７（ｂ）に示すよう
に、そのペリクル付マスク３の裏面（ガラス部）Ａに汚
れ４が付着すると、（３）図７（ｃ）に示すように、ペ
リクル２を剥がし、ペリクル２が剥がされたマスク基板
１を、（４）図７（ｄ）に示すように、洗浄した後、
（５）図７（ｅ）に示すように、マスク基板１に新たな
ペリクル５を、再貼付した後、（６）図７（ｆ）に示す
ように、そのペリクル付マスク６を再検査する。
【０００４】このようなペリクル付マスクは、ウエハプ
ロセス処理でペリクル内のパターン部に異物が付着して
も、転写されないという効果があるため、一般的に普及
している。
ロセス処理でペリクル内のパターン部に異物が付着して
も、転写されないという効果があるため、一般的に普及
している。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た従来のペリクル付マスクの汚れの洗浄方法では、無駄
な時間と工数、及び高価なペリクル代が嵩むという問題
点があった。つまり、上記した工程（３）〔ペリクル剥
がし〕で略１時間、上記した工程（４）〔マスク基板洗
浄〕で略１時間、上記した工程（５）〔ペリクル再貼
付〕で略２時間、上記した工程（５）〔再検査〕で略
２．５時間、総計で略６．５時間を要し、更に、ペリク
ル代の損失があった。
た従来のペリクル付マスクの汚れの洗浄方法では、無駄
な時間と工数、及び高価なペリクル代が嵩むという問題
点があった。つまり、上記した工程（３）〔ペリクル剥
がし〕で略１時間、上記した工程（４）〔マスク基板洗
浄〕で略１時間、上記した工程（５）〔ペリクル再貼
付〕で略２時間、上記した工程（５）〔再検査〕で略
２．５時間、総計で略６．５時間を要し、更に、ペリク
ル代の損失があった。
【０００６】本発明は、上記問題点を除去し、マスクの
表面（パターン面）に貼られているペリクルを剥がすこ
となく、しかも汚すことなくマスクの裏面のみを洗浄
し、汚れ（くもり等）を除去することができるホトマス
クの洗浄方法及びその洗浄用治具を提供することを目的
とする。
表面（パターン面）に貼られているペリクルを剥がすこ
となく、しかも汚すことなくマスクの裏面のみを洗浄
し、汚れ（くもり等）を除去することができるホトマス
クの洗浄方法及びその洗浄用治具を提供することを目的
とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために、 〔１〕半導体製造用ホトマスク基板にペリクルを装着
し、このペリクル装着面と反対側の裏面の汚れを洗浄す
るホトマスクの洗浄方法において、前記ホトマスク基板
のペリクル装着面側の外周部に当接して密封可能な洗浄
用治具で前記ホトマスク基板の裏面を露出した状態で固
定し、前記ホトマスク基板の裏面に洗浄用溶液を作用さ
せ、前記ホトマスク基板の裏面の洗浄を行うようにした
ものである。
成するために、 〔１〕半導体製造用ホトマスク基板にペリクルを装着
し、このペリクル装着面と反対側の裏面の汚れを洗浄す
るホトマスクの洗浄方法において、前記ホトマスク基板
のペリクル装着面側の外周部に当接して密封可能な洗浄
用治具で前記ホトマスク基板の裏面を露出した状態で固
定し、前記ホトマスク基板の裏面に洗浄用溶液を作用さ
せ、前記ホトマスク基板の裏面の洗浄を行うようにした
ものである。
【０００８】〔２〕半導体製造用ホトマスク基板にペリ
クルを装着し、このペリクル装着面と反対側の裏面の汚
れを洗浄するホトマスクの洗浄用治具において、ホトマ
スク基板のペリクル装着面と反対側の裏面を露出させる
とともに、密封状態でホトマスク基板を固定する保持部
を有する枠体を設けるようにしたものである。 〔３〕上記〔２〕記載のホトマスクの洗浄用治具におい
て、前記枠体の保持部はホトマスク基板の側面を押さえ
る突片部と、この突片部に連設されるとともに、洗浄用
溶液の通り道になるように形成される側溝と、この側溝
の下部に突設されるとともに、ホトマスク基板を受ける
ホトマスク受け部とを設けるようにしたものである。
クルを装着し、このペリクル装着面と反対側の裏面の汚
れを洗浄するホトマスクの洗浄用治具において、ホトマ
スク基板のペリクル装着面と反対側の裏面を露出させる
とともに、密封状態でホトマスク基板を固定する保持部
を有する枠体を設けるようにしたものである。 〔３〕上記〔２〕記載のホトマスクの洗浄用治具におい
て、前記枠体の保持部はホトマスク基板の側面を押さえ
る突片部と、この突片部に連設されるとともに、洗浄用
溶液の通り道になるように形成される側溝と、この側溝
の下部に突設されるとともに、ホトマスク基板を受ける
ホトマスク受け部とを設けるようにしたものである。
【０００９】〔４〕上記〔３〕記載のホトマスクの洗浄
用治具において、前記側溝に連通し、外部に開口する洗
浄用溶液の排出口を設けるようにしたものである。 〔５〕上記〔４〕記載のホトマスクの洗浄用治具におい
て、前記排出口を四角形状の洗浄用治具のコーナー部に
配置するようにしたものである。
用治具において、前記側溝に連通し、外部に開口する洗
浄用溶液の排出口を設けるようにしたものである。 〔５〕上記〔４〕記載のホトマスクの洗浄用治具におい
て、前記排出口を四角形状の洗浄用治具のコーナー部に
配置するようにしたものである。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照しながら詳細に説明する。図１は本発明の
第１実施例を示すホトマスクの洗浄方法の説明図、図２
はそれに用いるホトマスクとその洗浄用治具の斜視図で
ある。これらの図において、１０はペリクル付マスク、
１１はマスク基板、１２はペリクル、１３は汚れ、２１
は洗浄用治具である。なお、ペリクル付マスク１０は、
マスク基板１１の外周部を若干残した部分にペリクル１
２が設けられるようになっている。
て図面を参照しながら詳細に説明する。図１は本発明の
第１実施例を示すホトマスクの洗浄方法の説明図、図２
はそれに用いるホトマスクとその洗浄用治具の斜視図で
ある。これらの図において、１０はペリクル付マスク、
１１はマスク基板、１２はペリクル、１３は汚れ、２１
は洗浄用治具である。なお、ペリクル付マスク１０は、
マスク基板１１の外周部を若干残した部分にペリクル１
２が設けられるようになっている。
【００１１】この洗浄用治具２１は、図２に示すよう
に、３辺をなすコ字形状の側板２２Ａと、１辺をなす側
板２２Ｂとからなる四角形状の枠体２２から構成されて
おり、その内周部にペリクル付マスク１０の保持部とな
る段部２３が形成されている。この段部２３でペリクル
１２を下方にしたペリクル付マスク１０を密封状態に保
持するようにしている。
に、３辺をなすコ字形状の側板２２Ａと、１辺をなす側
板２２Ｂとからなる四角形状の枠体２２から構成されて
おり、その内周部にペリクル付マスク１０の保持部とな
る段部２３が形成されている。この段部２３でペリクル
１２を下方にしたペリクル付マスク１０を密封状態に保
持するようにしている。
【００１２】また、洗浄用治具の下部には底板を有して
おり、コ字形状の側板２２Ａの段部２３に、ペリクル付
マスク１０を載置した後、１辺をなす側板２２Ｂをその
ペリクル付マスク１０の一辺に位置決めして、螺子２４
で締め上げて、ペリクル付マスク１０を洗浄用治具２１
に密封状態となるようにセットする。四角形状の枠体２
２の内部には空洞Ａが形成される。１５はノズル、１６
は洗浄液〔例えば、硫酸＋過酸化水素水／純水〕であ
り、その洗浄方法としては、（１）まず、硫酸＋過酸化
水素水（Ｈ2 ＳＯ4 ＋Ｈ2 Ｏ2 ）で洗浄し、（２）次い
で、高圧力の純水（Ｈ2 ０）でリンスする。２５は洗浄
用治具２１を載置するとともに、スピンをかけるスピナ
洗浄装置である。
おり、コ字形状の側板２２Ａの段部２３に、ペリクル付
マスク１０を載置した後、１辺をなす側板２２Ｂをその
ペリクル付マスク１０の一辺に位置決めして、螺子２４
で締め上げて、ペリクル付マスク１０を洗浄用治具２１
に密封状態となるようにセットする。四角形状の枠体２
２の内部には空洞Ａが形成される。１５はノズル、１６
は洗浄液〔例えば、硫酸＋過酸化水素水／純水〕であ
り、その洗浄方法としては、（１）まず、硫酸＋過酸化
水素水（Ｈ2 ＳＯ4 ＋Ｈ2 Ｏ2 ）で洗浄し、（２）次い
で、高圧力の純水（Ｈ2 ０）でリンスする。２５は洗浄
用治具２１を載置するとともに、スピンをかけるスピナ
洗浄装置である。
【００１３】そこで、ノズル１５から洗浄液１６（例え
ば、硫酸＋過酸化水素水／純水）を、ペリクル付マスク
１０の裏面（ガラス部）に吹き付けるとともに、スピナ
洗浄装置２５を、例えば、１００ｒｐｍ以上回転させ
て、洗浄を行う。このように、この実施例では、ペリク
ル付マスク１０を密封状態で、洗浄用治具２１にセット
して、スピン方式でペリクル付マスク１０の裏面（ガラ
ス部）の洗浄を実施したものである。
ば、硫酸＋過酸化水素水／純水）を、ペリクル付マスク
１０の裏面（ガラス部）に吹き付けるとともに、スピナ
洗浄装置２５を、例えば、１００ｒｐｍ以上回転させ
て、洗浄を行う。このように、この実施例では、ペリク
ル付マスク１０を密封状態で、洗浄用治具２１にセット
して、スピン方式でペリクル付マスク１０の裏面（ガラ
ス部）の洗浄を実施したものである。
【００１４】従来のペリクル付マスクの洗浄において
は、ペリクル剥がし−洗浄−ペリクル再貼付−ペリクル
付マスクの欠陥検査迄の所要時間に略６．５時間を要し
ていたが、この実施例によれば、０．５時間ですみ、略
６時間／枚も短縮することができ、また、取り替えに伴
うペリクル代が不要となり、低コスト化を図ることがで
きる。更に、ウエハプロセスでのマスク待ちの短縮化を
図ることができる。
は、ペリクル剥がし−洗浄−ペリクル再貼付−ペリクル
付マスクの欠陥検査迄の所要時間に略６．５時間を要し
ていたが、この実施例によれば、０．５時間ですみ、略
６時間／枚も短縮することができ、また、取り替えに伴
うペリクル代が不要となり、低コスト化を図ることがで
きる。更に、ウエハプロセスでのマスク待ちの短縮化を
図ることができる。
【００１５】また、的確なペリクル付マスクの裏面洗浄
をサポートするホトマスクの洗浄用治具を得ることがで
きる。次に、本発明の第２実施例について説明する。図
３は本発明の第２実施例を示すホトマスクの洗浄方法の
説明図、図４はそれに用いるホトマスクとその洗浄用治
具の斜視図、図５はその洗浄用治具の側板の拡大斜視
図、図６はその洗浄用治具の底板の斜視図である。
をサポートするホトマスクの洗浄用治具を得ることがで
きる。次に、本発明の第２実施例について説明する。図
３は本発明の第２実施例を示すホトマスクの洗浄方法の
説明図、図４はそれに用いるホトマスクとその洗浄用治
具の斜視図、図５はその洗浄用治具の側板の拡大斜視
図、図６はその洗浄用治具の底板の斜視図である。
【００１６】これらの図において、３０はペリクル付マ
スク、３１はマスク基板、３２はペリクル、４０は洗浄
用治具である。図４に示すように、洗浄用治具４０は、
底板４９の外周の３辺上に３個の側板４２Ａを溶接によ
り固定する。なお、５０はその溶接部（図３参照）であ
る。このように構成された３個の側板４２Ａに、ペリク
ル付マスク３０を嵌めて、最後に１辺の側板４２Ｂを位
置決めし、螺子４７で側板４２Ａに締め付けることによ
り、ペリクル付マスク３０を密封状態に、空洞Ａを有す
る四角形状の枠体４３からなる洗浄用治具４０にセット
することができる。
スク、３１はマスク基板、３２はペリクル、４０は洗浄
用治具である。図４に示すように、洗浄用治具４０は、
底板４９の外周の３辺上に３個の側板４２Ａを溶接によ
り固定する。なお、５０はその溶接部（図３参照）であ
る。このように構成された３個の側板４２Ａに、ペリク
ル付マスク３０を嵌めて、最後に１辺の側板４２Ｂを位
置決めし、螺子４７で側板４２Ａに締め付けることによ
り、ペリクル付マスク３０を密封状態に、空洞Ａを有す
る四角形状の枠体４３からなる洗浄用治具４０にセット
することができる。
【００１７】更に、枠体４３の形状を具体的に述べる
と、側板４２Ａ，４２Ｂのそれぞれには、ペリクル付マ
スク３０の側面を押さえる突片部４４と、この突片部４
４に連設されるとともに、洗浄用溶液の通り道になるよ
うに形成される側溝４５と、この側溝４５の下部に突設
されるとともに、ペリクル付マスク３０を受けるホトマ
スク受け部４６とが設けられており、更に、側溝４５に
連通する排水口４８が設けられている。
と、側板４２Ａ，４２Ｂのそれぞれには、ペリクル付マ
スク３０の側面を押さえる突片部４４と、この突片部４
４に連設されるとともに、洗浄用溶液の通り道になるよ
うに形成される側溝４５と、この側溝４５の下部に突設
されるとともに、ペリクル付マスク３０を受けるホトマ
スク受け部４６とが設けられており、更に、側溝４５に
連通する排水口４８が設けられている。
【００１８】そこで、ペリクル付マスク３０をペリクル
３２が下になるように、突片部４４でマスク基板３１の
側面に接し、ホトマスク受け部４６で受けるように、ペ
リクル付マスク３０を嵌め、１辺の側板４２Ｂを側板４
２Ａに螺子４７により締め付けて、密封状態にペリクル
付マスク３０をセットする。そのとき、ペリクル付マス
ク３０のマスク基板３１のガラス部である裏面Ｂは、洗
浄用治具４０より僅かに上方に位置させ、露出させる。
なお、ガラス部である裏面Ｂが洗浄用治具４０の上面よ
り、１ｍｍ上方に位置するのが好適である。
３２が下になるように、突片部４４でマスク基板３１の
側面に接し、ホトマスク受け部４６で受けるように、ペ
リクル付マスク３０を嵌め、１辺の側板４２Ｂを側板４
２Ａに螺子４７により締め付けて、密封状態にペリクル
付マスク３０をセットする。そのとき、ペリクル付マス
ク３０のマスク基板３１のガラス部である裏面Ｂは、洗
浄用治具４０より僅かに上方に位置させ、露出させる。
なお、ガラス部である裏面Ｂが洗浄用治具４０の上面よ
り、１ｍｍ上方に位置するのが好適である。
【００１９】３３はノズル、３４は洗浄液（例えば、硫
酸＋過酸化水素水：純水）、６０は洗浄用治具４０を載
置するとともに、スピンをかけるスピナ洗浄装置であ
る。このように、ペリクル付マスク３０がセットされた
洗浄用治具４０は、スピナ洗浄装置６０に載置され、ペ
リクル付マスク３０のガラス部である裏面Ｂに付着した
汚れが洗浄される。つまり、ノズル３３から洗浄液３４
を噴射させるとともに、洗浄用治具４０はスピナ洗浄装
置５０によって、回転させて洗浄を行う。
酸＋過酸化水素水：純水）、６０は洗浄用治具４０を載
置するとともに、スピンをかけるスピナ洗浄装置であ
る。このように、ペリクル付マスク３０がセットされた
洗浄用治具４０は、スピナ洗浄装置６０に載置され、ペ
リクル付マスク３０のガラス部である裏面Ｂに付着した
汚れが洗浄される。つまり、ノズル３３から洗浄液３４
を噴射させるとともに、洗浄用治具４０はスピナ洗浄装
置５０によって、回転させて洗浄を行う。
【００２０】すると、ペリクル付マスク３０は密封され
ていても、洗浄液３４はペリクル付マスク３０と突片部
４４との間隙から浸入して、側溝４５から排出口４８へ
と導かれる。なお、図３に示すように、側溝４５の底部
４５Ａはマスク基板３１の表面３１−１より少し低くな
るように形成すると、排水すべき水を円滑に導くことが
できる。
ていても、洗浄液３４はペリクル付マスク３０と突片部
４４との間隙から浸入して、側溝４５から排出口４８へ
と導かれる。なお、図３に示すように、側溝４５の底部
４５Ａはマスク基板３１の表面３１−１より少し低くな
るように形成すると、排水すべき水を円滑に導くことが
できる。
【００２１】このように、この実施例では、ペリクル付
マスク３０を密封状態にするとともに、四角形状の枠体
４３に沿って形成された側溝４５によって、スピナ洗浄
装置６０のスピン方式の遠心力で生じた水を、その側溝
４５へ逃がし、洗浄することができる。更に、その側溝
４５に逃がされた水は、排水口４８から洗浄用治具４０
の外部へ排出される。
マスク３０を密封状態にするとともに、四角形状の枠体
４３に沿って形成された側溝４５によって、スピナ洗浄
装置６０のスピン方式の遠心力で生じた水を、その側溝
４５へ逃がし、洗浄することができる。更に、その側溝
４５に逃がされた水は、排水口４８から洗浄用治具４０
の外部へ排出される。
【００２２】このように、第２実施例によれば、第１実
施例における効果に加えて、洗浄された洗浄水を円滑に
導き、確実な排水を行うことができる。また、上記実施
例では、四角形状の洗浄用治具について述べたが、円形
の洗浄用治具についても適用することができる。その場
合は、図示しないが、円形の枠体を２分割して、嵌め合
わせて、円形のペリクル付マスクを密封状態にセットす
るようにするとよい。
施例における効果に加えて、洗浄された洗浄水を円滑に
導き、確実な排水を行うことができる。また、上記実施
例では、四角形状の洗浄用治具について述べたが、円形
の洗浄用治具についても適用することができる。その場
合は、図示しないが、円形の枠体を２分割して、嵌め合
わせて、円形のペリクル付マスクを密封状態にセットす
るようにするとよい。
【００２３】なお、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、本発明の趣旨に基づいて種々の変形が可能
であり、これらを本発明の範囲から排除するものではな
い。
のではなく、本発明の趣旨に基づいて種々の変形が可能
であり、これらを本発明の範囲から排除するものではな
い。
【００２４】
【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
よれば、次のような効果を奏することができる。 〔Ａ〕請求項１記載の発明によれば、ペリクル付マスク
の洗浄に要する所要時間を大幅に短縮し、また取り替え
に伴うペリクル代を不要にして、低コスト化を図ること
ができる。更に、ウエハプロセスでのマスク待ちの短縮
化を図ることができる。
よれば、次のような効果を奏することができる。 〔Ａ〕請求項１記載の発明によれば、ペリクル付マスク
の洗浄に要する所要時間を大幅に短縮し、また取り替え
に伴うペリクル代を不要にして、低コスト化を図ること
ができる。更に、ウエハプロセスでのマスク待ちの短縮
化を図ることができる。
【００２５】〔Ｂ〕請求項２記載の発明によれば、的確
なペリクル付マスクの裏面洗浄をサポートするホトマス
クの洗浄用治具を提供することができる。 〔Ｃ〕請求項３乃至５記載の発明によれば、上記〔２〕
の効果に加えて、洗浄された洗浄水を円滑に導き、確実
な排水を行うことができる。
なペリクル付マスクの裏面洗浄をサポートするホトマス
クの洗浄用治具を提供することができる。 〔Ｃ〕請求項３乃至５記載の発明によれば、上記〔２〕
の効果に加えて、洗浄された洗浄水を円滑に導き、確実
な排水を行うことができる。
【図１】本発明の第１実施例を示すホトマスクの洗浄方
法の説明図である。
法の説明図である。
【図２】本発明の第１実施例を示すホトマスクとその洗
浄用治具の斜視図である。
浄用治具の斜視図である。
【図３】本発明の第２実施例を示すホトマスクの洗浄方
法の説明図である。
法の説明図である。
【図４】本発明の第２実施例を示すホトマスクとその洗
浄用治具の斜視図である。
浄用治具の斜視図である。
【図５】本発明の第２実施例を示す洗浄用治具の側板の
拡大斜視図である。
拡大斜視図である。
【図６】本発明の第２実施例を示す洗浄用治具の底板の
斜視図である。
斜視図である。
【図７】従来のペリクル付マスクの洗浄工程図である。
１０，３０ ペリクル付マスク １１，３１ マスク基板 １２，３２ ペリクル １３ 汚れ １５，３３ ノズル １６，３４ 洗浄液 ２１，４０ 洗浄用治具 ２２，４３ 四角形状の枠体 ２３ 段部 ２５，６０ スピナ洗浄装置 ４２Ａ，４２Ｂ 側板 ４４ 突片部 ４５ 側溝 ４６ ホトマスク受け部 ４７ 螺子 ４８ 排水口 ４９ 底板 ５０ 溶接部 Ａ 空洞 Ｂ 裏面（ガラス部）
Claims (5)
- 【請求項１】 半導体製造用ホトマスク基板にペリクル
を装着し、該ペリクル装着面と反対側の裏面の汚れを洗
浄するホトマスクの洗浄方法において、（ａ）前記ホト
マスク基板のペリクル装着面側の外周部に当接して密封
可能な洗浄用治具で前記ホトマスク基板の裏面を露出し
た状態で固定し、（ｂ）前記ホトマスク基板の裏面に洗
浄用溶液を作用させ、前記ホトマスク基板の裏面の洗浄
を行うようにしたことを特徴とするホトマスクの洗浄方
法。 - 【請求項２】 半導体製造用ホトマスク基板にペリクル
を装着し、該ペリクル装着面と反対側の裏面の汚れを洗
浄するホトマスクの洗浄用治具において、 ホトマスク基板のペリクル装着面と反対側の裏面を露出
させるとともに、密封状態でホトマスク基板を固定する
保持部を有する枠体を具備するホトマスクの洗浄用治
具。 - 【請求項３】 請求項２記載のホトマスクの洗浄用治具
において、前記枠体の保持部はホトマスク基板の側面を
押さえる突片部と、該突片部に連設されるとともに、洗
浄用溶液の通り道になるように形成される側溝と、該側
溝の下部に突設されるとともに、ホトマスク基板を受け
るホトマスク受け部とを具備するホトマスクの洗浄用治
具。 - 【請求項４】 請求項３記載のホトマスクの洗浄用治具
において、前記側溝に連通し、外部に開口する洗浄用溶
液の排出口を具備することを特徴とするホトマスクの洗
浄用治具。 - 【請求項５】 請求項４記載のホトマスクの洗浄用治具
において、前記排出口を四角形状の洗浄用治具のコーナ
ー部に配置するようにしたことを特徴とするホトマスク
の洗浄用治具。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11327697A JPH10308337A (ja) | 1997-05-01 | 1997-05-01 | ホトマスクの洗浄方法及びその洗浄用治具 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11327697A JPH10308337A (ja) | 1997-05-01 | 1997-05-01 | ホトマスクの洗浄方法及びその洗浄用治具 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10308337A true JPH10308337A (ja) | 1998-11-17 |
Family
ID=14608080
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11327697A Withdrawn JPH10308337A (ja) | 1997-05-01 | 1997-05-01 | ホトマスクの洗浄方法及びその洗浄用治具 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10308337A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003007352A1 (en) * | 2001-07-11 | 2003-01-23 | Sang-Duck Kim | Apparatus for pellicle remove |
| EP1439421A2 (en) * | 2003-01-15 | 2004-07-21 | ASML Netherlands B.V. | Perfluoropolyether liquid pellicle and methods of cleaning masks using perfluoropolyether liquid |
| US7008487B1 (en) * | 2002-03-04 | 2006-03-07 | Micron Technology, Inc. | Method and system for removal of contaminates from phaseshift photomasks |
| EP3377941A4 (en) * | 2015-11-18 | 2019-08-14 | Applied Materials, Inc. | DEVICE AND METHOD FOR PHOTOMASK BACK CLEANING |
| CN117148666A (zh) * | 2023-10-31 | 2023-12-01 | 睿晶半导体(宁波)有限公司 | 光罩清洗装置及光罩清洗方法 |
-
1997
- 1997-05-01 JP JP11327697A patent/JPH10308337A/ja not_active Withdrawn
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| EP1439421A3 (en) * | 2003-01-15 | 2004-12-29 | ASML Netherlands B.V. | Perfluoropolyether liquid pellicle and methods of cleaning masks using perfluoropolyether liquid |
| US7022437B2 (en) | 2003-01-15 | 2006-04-04 | Asml Netherlands B.V. | Perfluoropolyether liquid pellicle and methods of cleaning masks using perfluoropolyether liquid |
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| CN117148666B (zh) * | 2023-10-31 | 2024-02-09 | 睿晶半导体(宁波)有限公司 | 光罩清洗装置及光罩清洗方法 |
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