JPH09241676A - 研磨剤除去用工業用洗浄剤 - Google Patents
研磨剤除去用工業用洗浄剤Info
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- JPH09241676A JPH09241676A JP7945696A JP7945696A JPH09241676A JP H09241676 A JPH09241676 A JP H09241676A JP 7945696 A JP7945696 A JP 7945696A JP 7945696 A JP7945696 A JP 7945696A JP H09241676 A JPH09241676 A JP H09241676A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ガラス、レンズ等に付着している酸化セリウ
ムを主体とする研磨剤の除去用の工業用洗浄剤を提供す
る。 【解決手段】 （Ａ）カチオン基を含有する界面活性
剤、（Ｂ）アルカリ剤および（Ｃ）水を含有してなる、
酸化セリウム系研磨剤除去用工業用洗浄剤。
ムを主体とする研磨剤の除去用の工業用洗浄剤を提供す
る。 【解決手段】 （Ａ）カチオン基を含有する界面活性
剤、（Ｂ）アルカリ剤および（Ｃ）水を含有してなる、
酸化セリウム系研磨剤除去用工業用洗浄剤。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、研磨用酸化セリウ
ム粉の付着した、ガラス、レンズ等を有効に洗浄除去す
ることのできる水希釈型の工業用洗浄剤に関する。
ム粉の付着した、ガラス、レンズ等を有効に洗浄除去す
ることのできる水希釈型の工業用洗浄剤に関する。
【０００２】
【従来の技術】ガラス、レンズ等の製造においては、そ
の加工工程において、付着研磨粉等の洗浄除去が必要で
ある。例えば、液晶板用ガラスを切削加工した際には、
これら部材の平滑性、加工作業性等を考慮して、研磨剤
が使用されるが、該研磨剤が最終製品に残存している
と、該製品に悪影響をおよぼすため、これらを防止する
ために、研磨後の工程において、付着している研磨剤等
が洗浄除去されている。
の加工工程において、付着研磨粉等の洗浄除去が必要で
ある。例えば、液晶板用ガラスを切削加工した際には、
これら部材の平滑性、加工作業性等を考慮して、研磨剤
が使用されるが、該研磨剤が最終製品に残存している
と、該製品に悪影響をおよぼすため、これらを防止する
ために、研磨後の工程において、付着している研磨剤等
が洗浄除去されている。
【０００３】従来より、一般的な研磨剤の洗浄除去に対
しては、アルカリ成分のみを含有してなる工業用洗浄剤
が使用されているが、特に精密な研磨を要するガラス、
レンズ等に関しては、研磨面の仕上がり度を良好にする
ために、酸化セリウムを主体とする研磨剤が、最近よく
使用されるようになっており、該酸化セリウムを主体す
る研磨剤に対しては、アルカリ成分のみの洗浄剤では、
洗浄性が不十分であった。
しては、アルカリ成分のみを含有してなる工業用洗浄剤
が使用されているが、特に精密な研磨を要するガラス、
レンズ等に関しては、研磨面の仕上がり度を良好にする
ために、酸化セリウムを主体とする研磨剤が、最近よく
使用されるようになっており、該酸化セリウムを主体す
る研磨剤に対しては、アルカリ成分のみの洗浄剤では、
洗浄性が不十分であった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、ガラス、レ
ンズ等に付着している酸化セリウムを主体とする研磨剤
の除去用の工業用洗浄剤を提供することを目的とする。
ンズ等に付着している酸化セリウムを主体とする研磨剤
の除去用の工業用洗浄剤を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは前記課題を
解決すべく鋭意検討を重ねた結果、特定組成の界面活性
剤を主体とする水希釈型アルカリ系洗浄剤により、ガラ
ス、レンズ等から酸化セリウムを主体とする研磨剤を短
時間に効率よく洗浄除去できることを見いだし本発明を
完成するに至った。
解決すべく鋭意検討を重ねた結果、特定組成の界面活性
剤を主体とする水希釈型アルカリ系洗浄剤により、ガラ
ス、レンズ等から酸化セリウムを主体とする研磨剤を短
時間に効率よく洗浄除去できることを見いだし本発明を
完成するに至った。
【０００６】すなわち、本発明は、（Ａ）カチオン基を
含有する界面活性剤、（Ｂ）アルカリ剤および（Ｃ）水
を含有してなる、酸化セリウム系研磨剤除去用工業用洗
浄剤に関する。
含有する界面活性剤、（Ｂ）アルカリ剤および（Ｃ）水
を含有してなる、酸化セリウム系研磨剤除去用工業用洗
浄剤に関する。
【０００７】
【発明の実施の形態】本発明を構成する（Ａ）カチオン
基を含有する界面活性剤としては、アルキルアンモニウ
ム塩型、４級アンモニウム塩型等のカチオン性界面活性
剤や、アミノ酸型、ベタイン型等の両性界面活性剤等を
あげることができる。アルキルアンモニウム塩型、４級
アンモニウム塩型等のカチオン性界面活性剤としては、
アミノ酸オクチルトリメチルアンモニウムクロライド、
セチルトリメチルアンモニウムクロライド、ラウリルト
リメチルアンモニウムクロライド、ラウリルジメチルベ
ンジルアンモニウムクロライド、ステアリルトリメチル
アンモニウムクロライド等があげられ、アミノ酸型の両
性界面活性剤としては、ラウリルアミノプロピオン酸ナ
トリウム等があげられ、ベタイン型の両性界面活性剤と
しては、ラウリルジメチルベタイン、ステアリルジメチ
ルベタイン等、またはこれらのナトリウム塩等の塩化物
等があげられる。
基を含有する界面活性剤としては、アルキルアンモニウ
ム塩型、４級アンモニウム塩型等のカチオン性界面活性
剤や、アミノ酸型、ベタイン型等の両性界面活性剤等を
あげることができる。アルキルアンモニウム塩型、４級
アンモニウム塩型等のカチオン性界面活性剤としては、
アミノ酸オクチルトリメチルアンモニウムクロライド、
セチルトリメチルアンモニウムクロライド、ラウリルト
リメチルアンモニウムクロライド、ラウリルジメチルベ
ンジルアンモニウムクロライド、ステアリルトリメチル
アンモニウムクロライド等があげられ、アミノ酸型の両
性界面活性剤としては、ラウリルアミノプロピオン酸ナ
トリウム等があげられ、ベタイン型の両性界面活性剤と
しては、ラウリルジメチルベタイン、ステアリルジメチ
ルベタイン等、またはこれらのナトリウム塩等の塩化物
等があげられる。
【０００８】上記のカチオン基を含有する界面活性剤
は、単独でまたは２種以上を組み合わせて使用すること
ができる。また、研磨剤に対する洗浄性から、両性界面
活性剤を使用するのが好ましい。上記のカチオン基を含
有する界面活性剤の使用量は特に限定されるものではな
いが、好ましくは本発明における工業用洗浄剤中の０．
０１〜３０重量％、より好ましくは０．１〜２０重量％
である。０．０１重量％に満たない場合や３０重量％を
超える場合は洗浄性不良となり好ましくない。
は、単独でまたは２種以上を組み合わせて使用すること
ができる。また、研磨剤に対する洗浄性から、両性界面
活性剤を使用するのが好ましい。上記のカチオン基を含
有する界面活性剤の使用量は特に限定されるものではな
いが、好ましくは本発明における工業用洗浄剤中の０．
０１〜３０重量％、より好ましくは０．１〜２０重量％
である。０．０１重量％に満たない場合や３０重量％を
超える場合は洗浄性不良となり好ましくない。
【０００９】（Ｂ）アルカリ剤としては、特に限定され
るものではなく、一般的なアルカリ剤である、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、アンモニア類等が使用でき
る。これらの使用量は特に限定されるものではないが、
アルカリ性が強いほど、酸化セリウム系研磨剤の洗浄性
が良好となるため、好ましくは本発明における工業用洗
浄剤中の０．１〜３０重量％、より好ましくは０．１〜
２０重量％である。
るものではなく、一般的なアルカリ剤である、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、アンモニア類等が使用でき
る。これらの使用量は特に限定されるものではないが、
アルカリ性が強いほど、酸化セリウム系研磨剤の洗浄性
が良好となるため、好ましくは本発明における工業用洗
浄剤中の０．１〜３０重量％、より好ましくは０．１〜
２０重量％である。
【００１０】また、（Ｃ）水の使用量も、同様に限定さ
れるものではないが、洗浄剤の粘度が高すぎると洗浄性
不良となるので、好ましくは本発明における工業用洗浄
剤中の４０〜９９．８９重量％、より好ましくは６０〜
９９．８重量％が使用される。
れるものではないが、洗浄剤の粘度が高すぎると洗浄性
不良となるので、好ましくは本発明における工業用洗浄
剤中の４０〜９９．８９重量％、より好ましくは６０〜
９９．８重量％が使用される。
【００１１】さらに、本発明における工業用洗浄剤は、
洗浄工程およびすすぎ処理工程における洗浄剤の安定性
や、いわゆる「泡立ち」の抑制性を向上させるために、
無機ビルダーや消泡剤等を有効成分として含有すること
ができる。
洗浄工程およびすすぎ処理工程における洗浄剤の安定性
や、いわゆる「泡立ち」の抑制性を向上させるために、
無機ビルダーや消泡剤等を有効成分として含有すること
ができる。
【００１２】本発明における工業用洗浄剤を、ガラス、
レンズ等の被洗浄物に接触させる手段は特に限定され
ず、各種公知の手段を採用できる。例えば、該工業用洗
浄剤に被洗浄物を直接浸漬して洗浄する方法、該洗浄剤
をスプレー装置を使用してフラッシュする方法、機械的
手段によるブラッシングをガラス、レンズ等を傷つけな
い程度に行う方法、超音波洗浄方法、液中ジェット洗浄
方法、揺動方法、渦流方法、オーバーフロー方法、直通
式洗浄法（たとえば、直通式洗浄装置「ダイレクトパ
ス」、荒川化学工業（株）製を用いる方法）などの各種
洗浄方法を適宜に選択して採用することができる。これ
らの中でも、特に超音波により洗浄する方法が、より短
時間で洗浄を終了することができる。
レンズ等の被洗浄物に接触させる手段は特に限定され
ず、各種公知の手段を採用できる。例えば、該工業用洗
浄剤に被洗浄物を直接浸漬して洗浄する方法、該洗浄剤
をスプレー装置を使用してフラッシュする方法、機械的
手段によるブラッシングをガラス、レンズ等を傷つけな
い程度に行う方法、超音波洗浄方法、液中ジェット洗浄
方法、揺動方法、渦流方法、オーバーフロー方法、直通
式洗浄法（たとえば、直通式洗浄装置「ダイレクトパ
ス」、荒川化学工業（株）製を用いる方法）などの各種
洗浄方法を適宜に選択して採用することができる。これ
らの中でも、特に超音波により洗浄する方法が、より短
時間で洗浄を終了することができる。
【００１３】本発明では、洗浄温度は特に限定されるこ
とはなく、通常、１５〜９５℃で使用される。一般的
に、９５℃を越える場合には水が沸騰するおそれがあ
り、洗浄操作上不便であり、好ましくない。
とはなく、通常、１５〜９５℃で使用される。一般的
に、９５℃を越える場合には水が沸騰するおそれがあ
り、洗浄操作上不便であり、好ましくない。
【００１４】上述のように研磨剤を洗浄除去されたガラ
ス、レンズは、通常、すすぎ処理された後に乾燥され
る。すすぎ処理剤としては、水または石油系溶剤、グリ
コールエーテル類、アルコール等が挙げられる。
ス、レンズは、通常、すすぎ処理された後に乾燥され
る。すすぎ処理剤としては、水または石油系溶剤、グリ
コールエーテル類、アルコール等が挙げられる。
【００１５】
【発明の効果】本発明における工業用洗浄剤によれば、
酸化セリウムを主体とする研磨剤を洗浄除去する際に強
力な機械的除去手段を必要としないので、ガラス、レン
ズ等を傷つけることなく、該研磨剤を短時間で洗浄除去
することができる。
酸化セリウムを主体とする研磨剤を洗浄除去する際に強
力な機械的除去手段を必要としないので、ガラス、レン
ズ等を傷つけることなく、該研磨剤を短時間で洗浄除去
することができる。
【００１６】
【実施例】以下、実施例をあげて、本発明をさらに詳し
く説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定される
ものではない。
く説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定される
ものではない。
【００１７】実施例１ （Ａ）成分としてトリメチルラウリルアンモニウムクロ
ライド１０重量％、（Ｂ）成分として水酸化ナトリウム
１０重量％、（Ｃ）成分として水８０重量％からなる工
業用洗浄剤を調製した。
ライド１０重量％、（Ｂ）成分として水酸化ナトリウム
１０重量％、（Ｃ）成分として水８０重量％からなる工
業用洗浄剤を調製した。
【００１８】実施例２ （Ａ）成分としてステアリルジメチルベタインナトリウ
ム塩化物１０重量％、（Ｂ）成分として水酸化カリウム
１０重量％、（Ｃ）成分として水８０重量％からなる工
業用洗浄剤を調製した。
ム塩化物１０重量％、（Ｂ）成分として水酸化カリウム
１０重量％、（Ｃ）成分として水８０重量％からなる工
業用洗浄剤を調製した。
【００１９】実施例３ （Ａ）成分としてステアリルジメチルベタインナトリウ
ム塩化物１重量％、（Ｂ）成分として水酸化カリウム１
０重量％、（Ｃ）成分として水８９重量％からなる工業
用洗浄剤を調製した。
ム塩化物１重量％、（Ｂ）成分として水酸化カリウム１
０重量％、（Ｃ）成分として水８９重量％からなる工業
用洗浄剤を調製した。
【００２０】比較例１ β−ナフタレンスルフォン酸ソーダホルマリン縮合物１
０重量％、水酸化ナトリウム１０重量％および水８０重
量％からなる工業用洗浄剤を調製した。
０重量％、水酸化ナトリウム１０重量％および水８０重
量％からなる工業用洗浄剤を調製した。
【００２１】比較例２ ポリオキシエチレン（付加モル数９）ノニルエーテル１
０重量％、水酸化カリウム１０重量％および水８０重量
％からなる工業用洗浄剤を調製した。
０重量％、水酸化カリウム１０重量％および水８０重量
％からなる工業用洗浄剤を調製した。
【００２２】比較例３ 水酸化カリウム１０重量％および水９０重量％からなる
工業用洗浄剤を調製した。
工業用洗浄剤を調製した。
【００２３】洗浄テスト１ 被洗浄物として酸化セリウム研磨剤がごく少量かつ表面
に点在して付着した液晶用ガラス板（３０ｃｍ×５０ｃ
ｍ×厚さ０．５ｍｍ）を洗浄用キャリアーに縦置きに５
枚並べた後、該被洗浄物を並べたキャリアーを液中ジェ
ット式洗浄装置（ジェット圧：５ｋｇ／ｃｍ2 ）に設置
し、実施例１〜３及び比較例１〜３で調製した工業用洗
浄剤により、６０℃で５分間洗浄した後、水により５分
間すすぎ処理を行い、さらに８０℃で１０分間熱風乾燥
した。
に点在して付着した液晶用ガラス板（３０ｃｍ×５０ｃ
ｍ×厚さ０．５ｍｍ）を洗浄用キャリアーに縦置きに５
枚並べた後、該被洗浄物を並べたキャリアーを液中ジェ
ット式洗浄装置（ジェット圧：５ｋｇ／ｃｍ2 ）に設置
し、実施例１〜３及び比較例１〜３で調製した工業用洗
浄剤により、６０℃で５分間洗浄した後、水により５分
間すすぎ処理を行い、さらに８０℃で１０分間熱風乾燥
した。
【００２４】洗浄テスト２ 被洗浄物として酸化セリウム研磨剤が多量かつ全面に付
着した水晶板（５ｃｍ×５ｃｍ×厚さ０．５ｍｍ）を洗
浄用キャリア−に縦置きに１０枚並べた後、該被洗浄物
を並べたキャリアーを超音波洗浄装置（２８ｋＨｚ、６
００Ｗ）に設置し、実施例１〜３及び比較例１〜３で調
製した工業用洗浄剤により、６０℃で３分間洗浄した
後、水により３分間すすぎ処理を行い、さらに８０℃で
１０分間熱風乾燥した。
着した水晶板（５ｃｍ×５ｃｍ×厚さ０．５ｍｍ）を洗
浄用キャリア−に縦置きに１０枚並べた後、該被洗浄物
を並べたキャリアーを超音波洗浄装置（２８ｋＨｚ、６
００Ｗ）に設置し、実施例１〜３及び比較例１〜３で調
製した工業用洗浄剤により、６０℃で３分間洗浄した
後、水により３分間すすぎ処理を行い、さらに８０℃で
１０分間熱風乾燥した。
【００２５】洗浄テスト１、２において洗浄処理された
被洗浄物（液晶用ガラス板、水晶板）に付着していた付
着物の除去の度合いから以下の基準に基づき目視により
洗浄性を判定した。評価結果を表１に示す。 ○−−被洗浄物に付着物が全く残っていない。 △−−被洗浄物に付着物がわずかに残っている。 ×−−被洗浄物に付着物が残っている。
被洗浄物（液晶用ガラス板、水晶板）に付着していた付
着物の除去の度合いから以下の基準に基づき目視により
洗浄性を判定した。評価結果を表１に示す。 ○−−被洗浄物に付着物が全く残っていない。 △−−被洗浄物に付着物がわずかに残っている。 ×−−被洗浄物に付着物が残っている。
【００２６】
【表１】
Claims (3)
- 【請求項１】 （Ａ）カチオン基を含有する界面活性
剤、（Ｂ）アルカリ剤および（Ｃ）水を含有してなる酸
化セリウム系研磨剤除去用工業用洗浄剤。 - 【請求項２】 （Ａ）成分を０．０１〜３０重量％、
（Ｂ）成分を０．１〜３０重量％および（Ｃ）成分を４
０〜９９．８９重量％含有してなる請求項１記載の酸化
セリウム系研磨剤除去用工業用洗浄剤。 - 【請求項３】 （Ａ）成分が両性界面活性剤である請求
項１または２記載の酸化セリウム系研磨剤除去用工業用
洗浄剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7945696A JPH09241676A (ja) | 1996-03-06 | 1996-03-06 | 研磨剤除去用工業用洗浄剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7945696A JPH09241676A (ja) | 1996-03-06 | 1996-03-06 | 研磨剤除去用工業用洗浄剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09241676A true JPH09241676A (ja) | 1997-09-16 |
Family
ID=13690391
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7945696A Pending JPH09241676A (ja) | 1996-03-06 | 1996-03-06 | 研磨剤除去用工業用洗浄剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09241676A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102007057026A1 (de) | 2007-01-27 | 2008-07-31 | Carl Zeiss Smt Ag | Verfahren und Anordnung zur Entfernung einer Kontaminationsschicht |
| EP2434004A4 (en) * | 2009-05-21 | 2012-11-28 | Stella Chemifa Corp | CLEANING LIQUID AND CLEANING PROCEDURE |
-
1996
- 1996-03-06 JP JP7945696A patent/JPH09241676A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102007057026A1 (de) | 2007-01-27 | 2008-07-31 | Carl Zeiss Smt Ag | Verfahren und Anordnung zur Entfernung einer Kontaminationsschicht |
| EP2434004A4 (en) * | 2009-05-21 | 2012-11-28 | Stella Chemifa Corp | CLEANING LIQUID AND CLEANING PROCEDURE |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040903 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20040930 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050726 |