JPH0917764A - 薬液処理装置 - Google Patents
薬液処理装置Info
- Publication number
- JPH0917764A JPH0917764A JP18476895A JP18476895A JPH0917764A JP H0917764 A JPH0917764 A JP H0917764A JP 18476895 A JP18476895 A JP 18476895A JP 18476895 A JP18476895 A JP 18476895A JP H0917764 A JPH0917764 A JP H0917764A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- mask
- water
- chemical treatment
- rotary stage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Weting (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 回転ステージの周壁を常に清浄に維持し、ク
リーンで欠陥のない高品質基板を作成する薬液処理装置
を提供する。 【構成】 回転ステージを囲む吸水性周壁と前記吸水性
周壁に洗浄液を供給する手段とからなることを特徴とす
る。
リーンで欠陥のない高品質基板を作成する薬液処理装置
を提供する。 【構成】 回転ステージを囲む吸水性周壁と前記吸水性
周壁に洗浄液を供給する手段とからなることを特徴とす
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体ウエハ、マス
ク、液晶パネル、プリント板等の基板を薬液で処理する
チャンバの構成に関する。
ク、液晶パネル、プリント板等の基板を薬液で処理する
チャンバの構成に関する。
【０００２】
【従来の技術】薬液処理として、レジストの現像、金属
膜のエッチング、基板洗浄などがある。基板がマスク
で、エッチングされる金属膜がクロムの場合を例にとり
説明する。
膜のエッチング、基板洗浄などがある。基板がマスク
で、エッチングされる金属膜がクロムの場合を例にとり
説明する。
【０００３】クロムのエッチング液は、硝酸第二セリウ
ムアンモニウムの水溶液に過塩素酸を少量混合したもの
である。ガラス板上にクロムを約１０００Å成膜し、レ
ジストでパターン形成したマスクをチャンバ内の回転ス
テージに載置し、エッチング液をスプレしてエッチング
を行った後、前記回転ステージを回転して純水をスプレ
して洗浄を行い、次に、高速回転してスピン乾燥を行
う。
ムアンモニウムの水溶液に過塩素酸を少量混合したもの
である。ガラス板上にクロムを約１０００Å成膜し、レ
ジストでパターン形成したマスクをチャンバ内の回転ス
テージに載置し、エッチング液をスプレしてエッチング
を行った後、前記回転ステージを回転して純水をスプレ
して洗浄を行い、次に、高速回転してスピン乾燥を行
う。
【０００４】このエッチング、洗浄、乾燥工程におい
て、遠心力で飛散したエッチング液がステージを囲む周
壁に付着し、やがて乾燥して硝酸第二セリウムアンモニ
ウムが結晶化する。従来のエッチング装置では、この結
晶化した粉末や異物がステージ回転の空気流によって飛
散してマスク上に付着し、形成したパターンに欠陥が発
生するという欠点がある。
て、遠心力で飛散したエッチング液がステージを囲む周
壁に付着し、やがて乾燥して硝酸第二セリウムアンモニ
ウムが結晶化する。従来のエッチング装置では、この結
晶化した粉末や異物がステージ回転の空気流によって飛
散してマスク上に付着し、形成したパターンに欠陥が発
生するという欠点がある。
【０００５】特に、エッチング液の結晶化した粉末は高
濃度のエッチング液となるので、クロムパターンにピン
ホールを発生するという重大な欠点がある。
濃度のエッチング液となるので、クロムパターンにピン
ホールを発生するという重大な欠点がある。
【０００６】上記欠陥を除去するため、ノズルを用いて
ステージを囲む周壁に水を噴射して洗浄するという方法
の薬液処理装置もあるが、噴射した水が四方に飛散し汚
染範囲を拡大するという欠点がある。また、洗浄するた
めの時間がかかり生産性が低下するという欠点がある。
さらに、広角ノズルをもってしても周壁の全範囲を洗浄
できないという欠点がある。
ステージを囲む周壁に水を噴射して洗浄するという方法
の薬液処理装置もあるが、噴射した水が四方に飛散し汚
染範囲を拡大するという欠点がある。また、洗浄するた
めの時間がかかり生産性が低下するという欠点がある。
さらに、広角ノズルをもってしても周壁の全範囲を洗浄
できないという欠点がある。
【０００７】集積回路は、露光機を用いてマスクのパタ
ーンをウエハ上に転写して形成するので、マスク上の欠
陥は集積回路の歩留まりを著しく阻害することとなる。
ーンをウエハ上に転写して形成するので、マスク上の欠
陥は集積回路の歩留まりを著しく阻害することとなる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、回転
ステージを囲む周壁を常に清浄に維持し、クリーンで欠
陥のない高品質基板を作成する薬液処理装置を提供する
ことである。
ステージを囲む周壁を常に清浄に維持し、クリーンで欠
陥のない高品質基板を作成する薬液処理装置を提供する
ことである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、回転ステージ
を囲む吸水性周壁と前記吸水性周壁に洗浄液を供給する
手段とからなることを特徴とする。
を囲む吸水性周壁と前記吸水性周壁に洗浄液を供給する
手段とからなることを特徴とする。
【００１０】
【実施例】本発明を図面を参照して説明する。図１は本
発明の薬液処理装置の縦断面図、図２はその平面図であ
る。
発明の薬液処理装置の縦断面図、図２はその平面図であ
る。
【００１１】ステージ１にレジストパターンが形成され
たマスク２を載置し、モータ３でステージ１を低速回転
しながら、ノズル４でエッチング液をマスク２上にスプ
レして、マスクのクロム膜を選択的にエッチングする。
エッチングが完了すると、洗浄液である純水をノズル５
からスプレしてマスク２を十分に洗浄した後、ステージ
１を高速回転して乾燥する。マスクは８本のピン６で位
置決めされている。
たマスク２を載置し、モータ３でステージ１を低速回転
しながら、ノズル４でエッチング液をマスク２上にスプ
レして、マスクのクロム膜を選択的にエッチングする。
エッチングが完了すると、洗浄液である純水をノズル５
からスプレしてマスク２を十分に洗浄した後、ステージ
１を高速回転して乾燥する。マスクは８本のピン６で位
置決めされている。
【００１２】ステージ１を囲むように配設したカバー７
の上部に細孔を備えたリング状の給水チューブ８を配設
し、導入口９より純水を供給する。カバー７はチャンバ
１０の底面に支柱１１により固定されている。
の上部に細孔を備えたリング状の給水チューブ８を配設
し、導入口９より純水を供給する。カバー７はチャンバ
１０の底面に支柱１１により固定されている。
【００１３】図３は本発明の第１の実施例の周壁７の断
面の斜視図である。塩化ビニールの薄板を円形に成形し
たカバー７の内側に吸水性シート１３を被覆し、給水チ
ューブ８の細孔１４から純水を吐出する。細孔１４は直
径１ｍｍ、ピッチ２０ｍｍである。吸水シート１３は吸
水性が高いから純水は吸水シート１３の全面を濡らし全
面に行き渡る。
面の斜視図である。塩化ビニールの薄板を円形に成形し
たカバー７の内側に吸水性シート１３を被覆し、給水チ
ューブ８の細孔１４から純水を吐出する。細孔１４は直
径１ｍｍ、ピッチ２０ｍｍである。吸水シート１３は吸
水性が高いから純水は吸水シート１３の全面を濡らし全
面に行き渡る。
【００１４】従って、ステージ１を回転した時飛散して
カバー７に付着した薬液は純水によって直ちに希釈さ
れ、また、異物は流されて排水口１５から流出するので
マスクに再付着する危険がなくなる。吸水シート１３は
耐薬品性が高く、自ら発塵性のない材質で、かつ、吸水
性が高いポリプロピレン製不織布、または、ポリビニー
ルアルコール製が効果的である。不織布、およびスポン
ジは、キムタオル（十条キンバリ製）、ベルクリン（カ
ネボウ製）の商品名で販売されている。
カバー７に付着した薬液は純水によって直ちに希釈さ
れ、また、異物は流されて排水口１５から流出するので
マスクに再付着する危険がなくなる。吸水シート１３は
耐薬品性が高く、自ら発塵性のない材質で、かつ、吸水
性が高いポリプロピレン製不織布、または、ポリビニー
ルアルコール製が効果的である。不織布、およびスポン
ジは、キムタオル（十条キンバリ製）、ベルクリン（カ
ネボウ製）の商品名で販売されている。
【００１５】カバー７に孔の大きさ３〜１０ｍｍ程度の
樹脂または金属製網を使用して吸水シート１３で被覆す
れば、カバー７の表裏が洗浄できるので効果は一層高く
なる。また、網状のカバーを用いた場合吸水シート１３
はカバー７の外側にのみ被覆しても、また、内側と外側
の両方に被覆してもよいことは言うまでもない。
樹脂または金属製網を使用して吸水シート１３で被覆す
れば、カバー７の表裏が洗浄できるので効果は一層高く
なる。また、網状のカバーを用いた場合吸水シート１３
はカバー７の外側にのみ被覆しても、また、内側と外側
の両方に被覆してもよいことは言うまでもない。
【００１６】また、成形された多孔質周壁例えば発泡ポ
リプロピレンを用いれば吸水性シートを被覆することな
く本発明を実現できる。
リプロピレンを用いれば吸水性シートを被覆することな
く本発明を実現できる。
【００１７】図４は本発明の第２の実施例の断面図であ
る。吸水シート１３で給水チューブ８とカバー７を被覆
することにより給水チューブ８に付着した異物も含めて
洗浄することができる。
る。吸水シート１３で給水チューブ８とカバー７を被覆
することにより給水チューブ８に付着した異物も含めて
洗浄することができる。
【００１８】上記説明では、マスクのクロム膜のエッチ
ングについて述べたが、本発明はこれに限定されるもの
ではなく、レジストの現像処理でも、基板の洗浄処理で
も、全く同様に本発明を実現できることは明らかであ
る。
ングについて述べたが、本発明はこれに限定されるもの
ではなく、レジストの現像処理でも、基板の洗浄処理で
も、全く同様に本発明を実現できることは明らかであ
る。
【００１９】上記説明では、マスクを例にとり述べた
が、本発明はこれに限定されるものではなく、半導体ウ
エハ、液晶パネルプリント板の薬液処理についても全く
同様に本発明を実現できることは明らかである。
が、本発明はこれに限定されるものではなく、半導体ウ
エハ、液晶パネルプリント板の薬液処理についても全く
同様に本発明を実現できることは明らかである。
【００２０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は次のよう
な効果を奏するものである。回転ステージや基板から飛
散して周壁に付着した薬液や異物を直ちに洗い流すの
で、欠陥のない高品質の薬液処理が可能となる。
な効果を奏するものである。回転ステージや基板から飛
散して周壁に付着した薬液や異物を直ちに洗い流すの
で、欠陥のない高品質の薬液処理が可能となる。
【図１】本発明の薬液処理装置の縦断面図である。
【図２】本発明の薬液処理装置の平面図である。
【図３】本発明の第１の実施例の周壁の断面の斜視図で
ある。
ある。
【図４】本発明の第２の実施例の周壁の断面図である。
１…ステージ、２…マスク、３…モータ、４…ノズル、
５…ノズル、６…ピン、７…周壁、８…給水チューブ、
９…導入口、１０…チャンバ、１１…支柱、１３…吸水
シート、１４…細孔、１５…排水口。
５…ノズル、６…ピン、７…周壁、８…給水チューブ、
９…導入口、１０…チャンバ、１１…支柱、１３…吸水
シート、１４…細孔、１５…排水口。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/306 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５６９Ｃ Ｈ０５Ｋ 3/26 21/306 Ｊ
Claims (7)
- 【請求項１】 回転ステージに基板を水平に載置して薬
液処理する装置において、前記回転ステージを囲む吸水
性周壁と洗浄液供給手段とからなることを特徴とした薬
液処理装置。 - 【請求項２】 前記吸水性周壁が成形カバーと吸水シー
トであることを特徴とした前記請求項１記載の薬液処理
装置。 - 【請求項３】 前記吸水性周壁が多孔質樹脂であること
を特徴とした前記請求項１記載の薬液処理装置。 - 【請求項４】 前記吸水シートが不織布、または、スポ
ンジであることを特徴とした前記請求項２記載の薬液処
理装置。 - 【請求項５】 前記吸水シートがポリプロピレン不織布
であることを特徴とした前記請求項２記載の薬液処理装
置。 - 【請求項６】 前記成形カバーが網状であることを特徴
とした前記請求項２記載の薬液処理装置。 - 【請求項７】 前記洗浄液供給手段を吸水シートで被覆
したことを特徴とした前記請求項２記載の薬液処理装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18476895A JPH0917764A (ja) | 1995-06-28 | 1995-06-28 | 薬液処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18476895A JPH0917764A (ja) | 1995-06-28 | 1995-06-28 | 薬液処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0917764A true JPH0917764A (ja) | 1997-01-17 |
Family
ID=16158989
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18476895A Pending JPH0917764A (ja) | 1995-06-28 | 1995-06-28 | 薬液処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0917764A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20000025271A (ko) * | 1998-10-09 | 2000-05-06 | 윤종용 | 반도체 건식 식각설비 |
| JP2004510348A (ja) * | 2000-09-27 | 2004-04-02 | ラム リサーチ コーポレーション | 流体送出リングおよびその製造方法ならびに提供方法 |
| US7380990B2 (en) | 2004-12-03 | 2008-06-03 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Bearing, bearing mechanism, and plunger pump |
| JP2014027201A (ja) * | 2012-07-30 | 2014-02-06 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
-
1995
- 1995-06-28 JP JP18476895A patent/JPH0917764A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20000025271A (ko) * | 1998-10-09 | 2000-05-06 | 윤종용 | 반도체 건식 식각설비 |
| JP2004510348A (ja) * | 2000-09-27 | 2004-04-02 | ラム リサーチ コーポレーション | 流体送出リングおよびその製造方法ならびに提供方法 |
| US7380990B2 (en) | 2004-12-03 | 2008-06-03 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Bearing, bearing mechanism, and plunger pump |
| JP2014027201A (ja) * | 2012-07-30 | 2014-02-06 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
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