JPH06177107A - 角型基板用回転式洗浄処理装置 - Google Patents
角型基板用回転式洗浄処理装置Info
- Publication number
- JPH06177107A JPH06177107A JP35209092A JP35209092A JPH06177107A JP H06177107 A JPH06177107 A JP H06177107A JP 35209092 A JP35209092 A JP 35209092A JP 35209092 A JP35209092 A JP 35209092A JP H06177107 A JPH06177107 A JP H06177107A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- rectangular substrate
- cleaning
- rectangular
- substrate holding
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 洗浄ならびに乾燥処理後の水滴の付着跡の発
生を回避する。 【構成】 角型基板１を保持する回転台２の基板保持面
を、角型基板１の対角線の長さよりも長い直径を有する
円盤状に形成し、その回転台２を鉛直方向の軸芯周りで
回転可能に設ける。
生を回避する。 【構成】 角型基板１を保持する回転台２の基板保持面
を、角型基板１の対角線の長さよりも長い直径を有する
円盤状に形成し、その回転台２を鉛直方向の軸芯周りで
回転可能に設ける。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示パネル用のガ
ラス基板や半導体製造装置用のマスク基板などの角型基
板を回転させながら、その表面に純水などの洗浄処理液
を供給して洗浄処理するとともにその遠心力を利用して
振り切り乾燥するために、角型基板を保持する基板保持
手段を鉛直方向の軸芯周りで回転可能に設けた角型基板
用回転式洗浄処理装置に関する。
ラス基板や半導体製造装置用のマスク基板などの角型基
板を回転させながら、その表面に純水などの洗浄処理液
を供給して洗浄処理するとともにその遠心力を利用して
振り切り乾燥するために、角型基板を保持する基板保持
手段を鉛直方向の軸芯周りで回転可能に設けた角型基板
用回転式洗浄処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】この種の従来の角型基板用回転式洗浄処
理装置では、その角型基板を保持する基板保持手段を軽
量化しようとする観点から、角型基板の形状に合う矩形
状の板部材に角型基板を載置支持する支持ピンを設ける
とともにその４隅に位置決めピンを設け、かつ、中央箇
所に比較的大きな開口を形成して構成するとか、あるい
は、中央部から、四方にアームを設け、そのアームに支
持ピンを設けるとともにアームそれぞれの先端に位置決
めピンを設けて構成している。
理装置では、その角型基板を保持する基板保持手段を軽
量化しようとする観点から、角型基板の形状に合う矩形
状の板部材に角型基板を載置支持する支持ピンを設ける
とともにその４隅に位置決めピンを設け、かつ、中央箇
所に比較的大きな開口を形成して構成するとか、あるい
は、中央部から、四方にアームを設け、そのアームに支
持ピンを設けるとともにアームそれぞれの先端に位置決
めピンを設けて構成している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、洗浄し
て乾燥処理した後の角型基板の裏面を測定器や検査器で
観察したところ、水滴の付着跡が縞状に残っている欠点
があり、この縞状の水滴の付着跡が生じる原因について
考察した結果、洗浄処理液を回転によって振り切り乾燥
するときに、軽量化のための構成である開口やアームの
端面の風切り作用に起因して負圧を生じ、角型基板の下
側に周囲の気体を巻き込むような渦状の気流を発生し、
その気流のために、振り切った洗浄処理液の一部が霧状
になって角型基板の裏面に戻されて付着してしまうこと
が確認された。
て乾燥処理した後の角型基板の裏面を測定器や検査器で
観察したところ、水滴の付着跡が縞状に残っている欠点
があり、この縞状の水滴の付着跡が生じる原因について
考察した結果、洗浄処理液を回転によって振り切り乾燥
するときに、軽量化のための構成である開口やアームの
端面の風切り作用に起因して負圧を生じ、角型基板の下
側に周囲の気体を巻き込むような渦状の気流を発生し、
その気流のために、振り切った洗浄処理液の一部が霧状
になって角型基板の裏面に戻されて付着してしまうこと
が確認された。
【０００４】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、請求項１に係る発明の角型基板用回転
式洗浄処理装置は、合理的な改良により、洗浄ならびに
乾燥処理後の水滴の付着跡の発生を回避できるようにす
ることを目的とし、また、請求項２に係る発明の角型基
板用回転式洗浄処理装置は、回転によって角型基板の外
方に飛散した洗浄処理液がカバーの内周面から角型基板
側に跳ね返って汚染することを防止できるようにするこ
とを目的とする。
たものであって、請求項１に係る発明の角型基板用回転
式洗浄処理装置は、合理的な改良により、洗浄ならびに
乾燥処理後の水滴の付着跡の発生を回避できるようにす
ることを目的とし、また、請求項２に係る発明の角型基
板用回転式洗浄処理装置は、回転によって角型基板の外
方に飛散した洗浄処理液がカバーの内周面から角型基板
側に跳ね返って汚染することを防止できるようにするこ
とを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】請求項１に係る発明の角
型基板用回転式洗浄処理装置は、上述のような目的を達
成するために、角型基板を保持する基板保持手段を鉛直
方向の軸芯周りで回転可能に設けた角型基板用回転式洗
浄処理装置において、基板保持手段の基板保持面を、角
型基板の対角線の長さよりも長い直径を有する円盤状に
形成する。
型基板用回転式洗浄処理装置は、上述のような目的を達
成するために、角型基板を保持する基板保持手段を鉛直
方向の軸芯周りで回転可能に設けた角型基板用回転式洗
浄処理装置において、基板保持手段の基板保持面を、角
型基板の対角線の長さよりも長い直径を有する円盤状に
形成する。
【０００６】また、請求項２に係る発明の角型基板用回
転式洗浄処理装置は、上述のような目的を達成するため
に、請求項１の基板保持面の径方向外周を覆うカバーを
設けるとともに、そのカバーの内周面と基板保持面の外
周面との距離が周方向全周にわたって等距離になるよう
に構成する。
転式洗浄処理装置は、上述のような目的を達成するため
に、請求項１の基板保持面の径方向外周を覆うカバーを
設けるとともに、そのカバーの内周面と基板保持面の外
周面との距離が周方向全周にわたって等距離になるよう
に構成する。
【０００７】
【作用】請求項１に係る発明の角型基板用回転式洗浄処
理装置の構成によれば、基板保持手段の基板保持面を角
型基板の対角線の長さよりも長い直径を有する円盤状に
形成し、そこに開口を形成せずに、回転に伴って風切り
現象が生じることを回避できる。
理装置の構成によれば、基板保持手段の基板保持面を角
型基板の対角線の長さよりも長い直径を有する円盤状に
形成し、そこに開口を形成せずに、回転に伴って風切り
現象が生じることを回避できる。
【０００８】また、請求項２に係る発明の角型基板用回
転式洗浄処理装置の構成によれば、回転に伴い、基板保
持面の外周面からカバーの内周面に向け、その周方向全
周にわたって均一な条件下で洗浄処理液を遠心力により
飛ばすことができる。
転式洗浄処理装置の構成によれば、回転に伴い、基板保
持面の外周面からカバーの内周面に向け、その周方向全
周にわたって均一な条件下で洗浄処理液を遠心力により
飛ばすことができる。
【０００９】
【実施例】次に、本発明の実施例を図面を用いて詳細に
説明する。
説明する。
【００１０】図１は本発明に係る角型基板用回転式洗浄
処理装置の実施例を示す全体概略縦断面図、図２は要部
の平面図であり、角型基板１を載置保持する基板保持手
段としての回転台２が鉛直方向の軸心Ｐ周りに水平回転
可能に設けられ、その回転台２の径方向外周がカバー３
で覆われるとともに、そのカバー３の外方が化粧カバー
４で覆われ、かつ、下方に廃液回収ケース５が設けられ
ている。
処理装置の実施例を示す全体概略縦断面図、図２は要部
の平面図であり、角型基板１を載置保持する基板保持手
段としての回転台２が鉛直方向の軸心Ｐ周りに水平回転
可能に設けられ、その回転台２の径方向外周がカバー３
で覆われるとともに、そのカバー３の外方が化粧カバー
４で覆われ、かつ、下方に廃液回収ケース５が設けられ
ている。
【００１１】回転台２は、その基板保持面が角型基板１
の対角線の長さよりも長い直径を有する円盤状に形成さ
れ、その上面の所定箇所に分散して支持ピン６…が設け
られるとともに、角型基板１の四隅それぞれに一対づつ
の位置決めピン７，７…が設けられ、かつ、回転台２
に、出力軸８を介して電動モータ９が連結され、位置決
めピン７，７…によって角型基板１が回転台２と一体的
に水平回転されるようになっている。
の対角線の長さよりも長い直径を有する円盤状に形成さ
れ、その上面の所定箇所に分散して支持ピン６…が設け
られるとともに、角型基板１の四隅それぞれに一対づつ
の位置決めピン７，７…が設けられ、かつ、回転台２
に、出力軸８を介して電動モータ９が連結され、位置決
めピン７，７…によって角型基板１が回転台２と一体的
に水平回転されるようになっている。
【００１２】化粧カバー４の内部の所定箇所に、回転台
２の回転軸芯Ｐに向けて純水などの洗浄処理液を噴出供
給する洗浄ノズル１０…が並設されている。また、鉛直
方向の軸芯Ｐ１周りで回転可能にアングル形状の支持ア
ーム１１が設けられるとともに、その支持アーム１１の
先端に、洗浄処理液を供給する超音波洗浄ノズル１２が
設けられている。この構成により、角型基板１を回転し
ながら、その角型基板１の表面に洗浄ノズル１０…また
は超音波洗浄ノズル１２から洗浄処理液を供給して角型
基板１の表面を洗浄処理するとともに、洗浄処理液の供
給を停止した状態で角型基板１の回転を継続し、洗浄処
理液を遠心力により振り切って乾燥処理できるようにな
っている。
２の回転軸芯Ｐに向けて純水などの洗浄処理液を噴出供
給する洗浄ノズル１０…が並設されている。また、鉛直
方向の軸芯Ｐ１周りで回転可能にアングル形状の支持ア
ーム１１が設けられるとともに、その支持アーム１１の
先端に、洗浄処理液を供給する超音波洗浄ノズル１２が
設けられている。この構成により、角型基板１を回転し
ながら、その角型基板１の表面に洗浄ノズル１０…また
は超音波洗浄ノズル１２から洗浄処理液を供給して角型
基板１の表面を洗浄処理するとともに、洗浄処理液の供
給を停止した状態で角型基板１の回転を継続し、洗浄処
理液を遠心力により振り切って乾燥処理できるようにな
っている。
【００１３】カバー３の内周面と回転台２の基板保持面
の外周面との距離が周方向全周にわたって等距離になる
ように構成されるとともに、カバー３の基板保持面と同
一高さの内周面が下側程回転軸芯Ｐから遠ざかる傾斜面
Ｆに形成され、基板保持面の外周面から飛ばされた洗浄
処理液を角型基板１側に跳ね返らせずに廃液回収ケース
５に案内流下するように構成されている。
の外周面との距離が周方向全周にわたって等距離になる
ように構成されるとともに、カバー３の基板保持面と同
一高さの内周面が下側程回転軸芯Ｐから遠ざかる傾斜面
Ｆに形成され、基板保持面の外周面から飛ばされた洗浄
処理液を角型基板１側に跳ね返らせずに廃液回収ケース
５に案内流下するように構成されている。
【００１４】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１に係る発明の角型基板用回転式洗浄処理装置によれ
ば、縞状の水滴の付着跡が生じる原因についての考察結
果に基づき、基板保持手段の基板保持面に開口を形成し
ないようにするから、回転に伴う風切り現象の発生を回
避でき、洗浄ならびに乾燥処理後の水滴の付着跡の発生
を回避して処理品質を向上できるようになった。
１に係る発明の角型基板用回転式洗浄処理装置によれ
ば、縞状の水滴の付着跡が生じる原因についての考察結
果に基づき、基板保持手段の基板保持面に開口を形成し
ないようにするから、回転に伴う風切り現象の発生を回
避でき、洗浄ならびに乾燥処理後の水滴の付着跡の発生
を回避して処理品質を向上できるようになった。
【００１５】また、請求項２に係る発明の角型基板用回
転式洗浄処理装置によれば、基板保持面の径方向外周を
覆うカバーの内周面と基板保持面の外周面との距離を周
方向全周にわたって等距離にするから、角型基板に供給
された洗浄液を遠心力により基板保持面上に移動させ、
その洗浄処理液を基板保持面の外周面からカバーの内周
面に、周方向全周にわたって均一な条件下で飛ばすこと
ができるから、角型基板の表面から直接カバーの内周面
に飛ばす従来例の場合のように角型基板の角部から集中
的に洗浄処理液が飛ばされ、カバーの内周面から角型基
板側に跳ね返るといったことを効果的に防止でき、洗浄
処理液の跳ね返りに起因する汚染をも良好に防止できる
ようになった。
転式洗浄処理装置によれば、基板保持面の径方向外周を
覆うカバーの内周面と基板保持面の外周面との距離を周
方向全周にわたって等距離にするから、角型基板に供給
された洗浄液を遠心力により基板保持面上に移動させ、
その洗浄処理液を基板保持面の外周面からカバーの内周
面に、周方向全周にわたって均一な条件下で飛ばすこと
ができるから、角型基板の表面から直接カバーの内周面
に飛ばす従来例の場合のように角型基板の角部から集中
的に洗浄処理液が飛ばされ、カバーの内周面から角型基
板側に跳ね返るといったことを効果的に防止でき、洗浄
処理液の跳ね返りに起因する汚染をも良好に防止できる
ようになった。
【図１】本発明に係る角型基板用回転式洗浄処理装置の
実施例を示す全体概略縦断面図である。
実施例を示す全体概略縦断面図である。
【図２】要部の平面図である。
１…角型基板 ２…基板保持手段としての回転台 ３…カバー Ｐ…鉛直方向の軸芯
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 吉野 裕文 京都府京都市上京区堀川通寺之内上る４丁 目天神北町１番地の１ 大日本スクリーン 製造株式会社内
Claims (2)
- 【請求項１】 角型基板を保持する基板保持手段を鉛直
方向の軸芯周りで回転可能に設けた角型基板用回転式洗
浄処理装置において、 前記基板保持手段の基板保持面を、前記角型基板の対角
線の長さよりも長い直径を有する円盤状に形成したこと
を特徴とする角型基板用回転式洗浄処理装置。 - 【請求項２】 請求項１に記載の基板保持面の径方向外
周を覆うカバーを設けるとともに、そのカバーの内周面
と前記基板保持面の外周面との距離が周方向全周にわた
って等距離になるように構成してある角型基板用回転式
洗浄処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35209092A JPH06177107A (ja) | 1992-12-08 | 1992-12-08 | 角型基板用回転式洗浄処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35209092A JPH06177107A (ja) | 1992-12-08 | 1992-12-08 | 角型基板用回転式洗浄処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06177107A true JPH06177107A (ja) | 1994-06-24 |
Family
ID=18421716
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35209092A Pending JPH06177107A (ja) | 1992-12-08 | 1992-12-08 | 角型基板用回転式洗浄処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06177107A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5849104A (en) * | 1996-09-19 | 1998-12-15 | Yieldup International | Method and apparatus for cleaning wafers using multiple tanks |
| US5868150A (en) * | 1994-11-14 | 1999-02-09 | Yieldup International | Ultra-low particle semiconductor cleaner |
| US5958146A (en) * | 1994-11-14 | 1999-09-28 | Yieldup International | Ultra-low particle semiconductor cleaner using heated fluids |
| US6047717A (en) * | 1998-04-29 | 2000-04-11 | Scd Mountain View, Inc. | Mandrel device and method for hard disks |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5498574A (en) * | 1978-01-20 | 1979-08-03 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Rotary coating unit of viscous material |
| JPH01140628A (ja) * | 1987-11-26 | 1989-06-01 | Nec Corp | レジスト塗布装置 |
| JPH02309628A (ja) * | 1989-05-25 | 1990-12-25 | Hoya Corp | スピンチヤツク |
| JPH0344917A (ja) * | 1989-07-12 | 1991-02-26 | Sharp Corp | レジスト塗布用スピンナー |
| JPH03183119A (ja) * | 1989-07-25 | 1991-08-09 | Manhatsutan R & D Kk | 基板チャック装置 |
| JPH04100561A (ja) * | 1990-08-17 | 1992-04-02 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 回転式処理装置 |
| JPH04122470A (ja) * | 1990-09-13 | 1992-04-22 | Ricoh Co Ltd | 回転塗布装置 |
| JPH04245415A (ja) * | 1991-01-30 | 1992-09-02 | Nec Corp | 半導体製造治具 |
-
1992
- 1992-12-08 JP JP35209092A patent/JPH06177107A/ja active Pending
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5498574A (en) * | 1978-01-20 | 1979-08-03 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Rotary coating unit of viscous material |
| JPH01140628A (ja) * | 1987-11-26 | 1989-06-01 | Nec Corp | レジスト塗布装置 |
| JPH02309628A (ja) * | 1989-05-25 | 1990-12-25 | Hoya Corp | スピンチヤツク |
| JPH0344917A (ja) * | 1989-07-12 | 1991-02-26 | Sharp Corp | レジスト塗布用スピンナー |
| JPH03183119A (ja) * | 1989-07-25 | 1991-08-09 | Manhatsutan R & D Kk | 基板チャック装置 |
| JPH04100561A (ja) * | 1990-08-17 | 1992-04-02 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 回転式処理装置 |
| JPH04122470A (ja) * | 1990-09-13 | 1992-04-22 | Ricoh Co Ltd | 回転塗布装置 |
| JPH04245415A (ja) * | 1991-01-30 | 1992-09-02 | Nec Corp | 半導体製造治具 |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5868150A (en) * | 1994-11-14 | 1999-02-09 | Yieldup International | Ultra-low particle semiconductor cleaner |
| US5873947A (en) * | 1994-11-14 | 1999-02-23 | Yieldup International | Ultra-low particle disk cleaner |
| US5878760A (en) * | 1994-11-14 | 1999-03-09 | Yieldup International | Ultra-low particle semiconductor cleaner |
| US5891256A (en) * | 1994-11-14 | 1999-04-06 | Yieldup International | Ultra-low particle semiconductor cleaner |
| US5932027A (en) * | 1994-11-14 | 1999-08-03 | Yieldup International | Cleaning and drying photoresist coated wafers |
| US5958146A (en) * | 1994-11-14 | 1999-09-28 | Yieldup International | Ultra-low particle semiconductor cleaner using heated fluids |
| US6352082B1 (en) | 1994-11-14 | 2002-03-05 | Scd Mountain View | Ultra-low particle semiconductor cleaner |
| US6491043B2 (en) | 1994-11-14 | 2002-12-10 | Scd Mountain View, Inc. | Ultra-low particle semiconductor cleaner |
| US5849104A (en) * | 1996-09-19 | 1998-12-15 | Yieldup International | Method and apparatus for cleaning wafers using multiple tanks |
| US6047717A (en) * | 1998-04-29 | 2000-04-11 | Scd Mountain View, Inc. | Mandrel device and method for hard disks |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH04300673A (ja) | 回転式塗布装置及び回転式塗布方法 | |
| JPH08316190A (ja) | 基板処理装置 | |
| JPH09232276A (ja) | 基板処理装置および方法 | |
| JPS6064436A (ja) | スピンドライヤ | |
| JPS62188322A (ja) | 洗浄装置 | |
| JPH06177107A (ja) | 角型基板用回転式洗浄処理装置 | |
| JPH09220505A (ja) | 基板表面に形成されたシリカ系被膜の膜溶解方法 | |
| JP2002143749A (ja) | 回転塗布装置 | |
| JPH10199852A (ja) | 回転式基板処理装置 | |
| JP3549722B2 (ja) | 基板処理装置 | |
| JP2002016031A (ja) | 基板処理方法 | |
| JP2957383B2 (ja) | 回転式塗布装置 | |
| JP4005335B2 (ja) | 基板処理装置 | |
| JP3168642B2 (ja) | 被膜除去方法およびその装置 | |
| JP2906783B2 (ja) | 処理装置 | |
| JP2908224B2 (ja) | 回転式塗布装置 | |
| JPH10309509A (ja) | 回転式基板処理装置および基板処理方法 | |
| JP2003126756A (ja) | スピン処理装置 | |
| JP3338544B2 (ja) | 乾燥方法及び乾燥装置 | |
| JP2002011420A (ja) | 基板処理装置 | |
| JPH09122560A (ja) | 回転式塗布装置 | |
| JP2533401B2 (ja) | 回転式塗布装置 | |
| JPH07153731A (ja) | 回転式基板表面洗浄装置 | |
| JP2849863B2 (ja) | 塗布装置 | |
| JPH06275506A (ja) | 回転塗布装置及びその方法 |