JPS58184725A - 半導体基板のレジスト塗布装置 - Google Patents

半導体基板のレジスト塗布装置

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Publication number
JPS58184725A
JPS58184725A JP6776782A JP6776782A JPS58184725A JP S58184725 A JPS58184725 A JP S58184725A JP 6776782 A JP6776782 A JP 6776782A JP 6776782 A JP6776782 A JP 6776782A JP S58184725 A JPS58184725 A JP S58184725A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resist
cup
nozzle
wafer
dissolving
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP6776782A
Other languages
English (en)
Inventor
Yukihisa Taguchi
田口　幸久
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Kyushu Ltd
Original Assignee
NEC Kyushu Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Kyushu Ltd filed Critical NEC Kyushu Ltd
Priority to JP6776782A priority Critical patent/JPS58184725A/ja
Publication of JPS58184725A publication Critical patent/JPS58184725A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
    • G03F7/162—Coating on a rotating support, e.g. using a whirler or a spinner

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は半導体基板のレジスト塗布装置ｋかかり、％に
レジスト塗布処理部を包囲する逆円鐘状カップ内壁の洗
浄方法に関するものである。
第１図に示すような処理部でカップ１０内壁ｌ暑を常に
平面に保つことは、ウェハース２０回転によシ外周に向
けて飛散し九レジスト液のハネ返ｐを防ぐ意味に於て重
要な要因である。
従来は仁の要因に対して、カップの形状を種々考慮した
シ、又カップを定期的に装置から取シ外し、洗浄して取
シ付けることによシ対処されていた。
しかしながらかかる従来技術では十分の対策とならなか
った９、又取外すことは作業性の悪いものとなる。
本発明の目的はかかる従来技術の欠点を除去した有効な
半導体基板のレジスト塗布装置を提供することである。
本発明の特徴は、例えば回転しているウェハースのほぼ
中心に向けて、単一ノズル形状部材よシレジスト溶解液
（例えば現像液）を適下し、ウェハースの回転により飛
散したレジスト溶解液が、カップ内壁に付着したレジス
トを溶解することにある。
以下、本発明を実施例によシ詳細に説明する。第１図は
本発明の１実施例である。
スピンチャック３によシ吸着され、回転しているウェハ
ース２の中心に向けて、ノズル４からレジスト溶解液５
を連続的に適下すればレジスト溶解液５は、ウェハース
２の回転遠心力によ〉外周（矢視Ａ）に向けて飛散し、
カップ１の内壁１ａに当圧シ下方（矢視Ｂ）に流れる。
この時、レジスト液及びレジスト溶解液を飛散させる手
段には同一機構を使用している為、互いの液の飛散軌跡
はほぼ同じと考えられ、従りてレジスト液のハネ返りに
影響する部分に付着したレジストは、この方法によシ溶
解され洗い流される。６は、レジスト液をウェハース２
上に適下する従来からのノズルである。
以上の説明から明らかなように１本発明によるカップ内
壁の洗浄方法によれば、従来のようにカップを取り外す
ことなく容易に洗浄可能となるので、任意のタイミング
（あるいは定期的に）で、ヵｙ７．＆＃；６’ゎえｈａ
ｃｍ讐、−ケア□。８オれは量産装置として非常に有効
な手段を提供することになる。上記実施例に於ては、ノ
ズルの形状を単一管に限定して説明したが、本発明の特
徴である回転しているウェハースにレジスト溶解液を適
下して飛散した液でカップ内壁に付着し光レジストを溶
解、洗浄する内容を有する限シ、ノズルの形状等に関係
なく本特許の請求範囲が及ぶことは云うまでもない。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の一実施例断面図である。 尚、図に於いて１・・・・・・カップ、２・・・・・・
ウエノ１−ス、３・・・…スピンチャック、４・・畢−
拳・レジスト溶解適下ノズル、５・・・・・・レジスト
溶解液、６・・・・・・レジスト液適下ノズル、７・・
・・・・排液口　である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. ウェハースの回転によシ、均一なレジスト膜厚を得るこ
    とを目的としている半導体基板のレジスト塗布装置に於
    てレジスト液適下ノズルとほぼ同一箇所にレジスト液を
    溶解する液を適下するノズルを具備することを特徴とす
    る半導体基板のレジスト塗布装置。
JP6776782A 1982-04-22 1982-04-22 半導体基板のレジスト塗布装置 Pending JPS58184725A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6223474A (ja) * 1985-07-19 1987-01-31 Matsushita Electric Ind Co Ltd 回転式振り切り装置のはねかえり防止装置
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JP2016207837A (ja) * 2015-04-22 2016-12-08 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理装置

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