JPS6180635A - 情報記録担体の製造方法及びそれに用いる洗浄・乾燥装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の技術分野］ 本発明は情報記録担体の製造方法及びその製造工程のう
ち洗浄・乾燥工程に用いて有効な装置に関し、更に詳し
くは、Ｃ／Ｎ比が大きく、ドロップアウトノイズも解消
した光情報記録担体の製造方法とそれを可能にする洗浄
・乾燥装置に関するつ ［発明の技術的背景とその問題点］ デジタルオーディオディスク、ビデオディスク、ドキュ
メントファイルディスクなど、光学的に情報を記録若し
くは再生す歪情報記録担体、とりわけ原盤は、その表面
に多数の凹凸の信号ピット、信号グループが刻設された
ディスクである。

これらの情報記録担体は、一般に１次のような工程を経
て製造されている。すなわち、まず表面が平滑なガラス
基板のＬに所定のレジスト層を、没けたのち、このレジ
スト層をベーキングして基板に（，１１着させ、ついで
、ガラス基板全体を回転させながらレジスト層にレーザ
ー光線を照射して記録潜像を形成する。その後、レジス
ト層を所定の現像液で現像する。かくして、レジスト層
の記録潜像が顕像化して凹凸パターンが形成される。

この現像工程において、通常、現像液にはＤＥ３　（東
京応化製）のようなアルカリ水溶液をはじめとした親水
性の薬剤が用いられている。

したがって、現像工程終了後は、レジスト層等に付着し
ている上記現像液を除去することが必要である。

このために従来は、現像処理後の担体前駆体を充分に水
洗し、その後、レジスト層の面に加圧した乾燥空気又は
窒素を吹きつけるという洗浄・乾燥処理が施されている
。

しかしながら、この従来の洗浄・乾燥工程、とりわけ乾
燥工程においては、ディスクの中心孔付近の付着水を吹
き飛ばす際に、しばしばレジスト層に“シミ゛を発生す
ることがある。このような表面欠陥か生した場合には、
その情報記録担体の記録１１生時におけるＣ／Ｎ比が小
さくなったり又はドロップアウトノイズの発生が顕著に
なりその性能の著しい低下をもたらす。

［発明の目的］ 本発明は、上記した洗浄・乾燥工程における問題点を解
消した情報記録担体の製造方法とその方法に用いて有効
な洗浄・乾燥装置の提供を目的とする。

［発明の４！Ｅ要］ 本発明の情報記録担体の製造方法は、ガラス基板にレジ
スト層を設ける工程；該レジスト層をベーキングする工
程；該レジスト層に潜像を形成する工程；該レジストｅ
を現像して顕像化する工程；該レジスト層を洗浄して乾
燥する工程から成る情報記録担体の製造方法において、
該洗浄・乾燥工程が、レジスト層を水洗したのち洗浄薬
剤で更に洗浄し、ついで、該洗浄薬剤の蒸気で乾燥する
ことを特徴とし、その洗浄・乾燥工程に用いる装置は、
上方が開口し、現像処理を施した情報記録担体の前駆体
を収容する有底容器と、該容器の底部に配設された加熱
手段と、該容器の開口部に設けられた洗浄薬剤ガス冷却
手段とから成ることを特徴とする。

本発明方法は、現像工程終了までは従来と同様の工程を
経由するが、それ以後の工程は以下のように構成される
。

すなわち、現像工程を経た担体の前駆体をまず水洗する
。この水洗は従来と同様に行なえばよい。

ついで、水洗後の前駆体を第１図に例示した装置に収納
する。第１図で１は上方が開口した有底容器で、この中
に洗浄薬剤２が満されている。洗浄薬剤２としては、炭
化水素のフルオルクロルを検体、例えばフレオン−２２
（ＣＨＣＩ　Ｆ２）　、フレオン１２（Ｃ：０文２Ｆ２
）、フレオン−１１３（Ｃ：Ｃ立２Ｆ・ｃｃ文Ｆ２）な
どのフッ化炭化水素が好ましい。

この薬剤２の中に、ガラス基板３と凹凸パターンが形成
されたレジスト層４からなる担体の前駆体が浸漬される
。５は前駆体の支持具である。

容器２の底部には、後述の乾燥工程において作動させる
加熱手段６が配設される。第１図では容器２の外部に配
設した例を示したが、態様はこれに限らず、容器２の内
部に配設されていてもよく、要は薬剤２を加熱できれば
よい、加熱手段としては、ニクロム線ヒータのような抵
抗加熱方式５式％ ７．７′は容器２の開口部に設けられた冷却手段であっ
て、後述の乾燥工程において上昇してくる薬剤蒸気を冷
却して凝結させるための手段である。この冷却手段に用
いる冷媒は、水であってよい。

さて、まず洗浄は：ｉＳ１図に示した状態で行なう、加
熱手段６．冷却手段７．７°は作動させない、薬剤を所
定時間、攪拌したり又は超音波を印加したりすれば洗浄
は極めて効率的に進行する。

浴槽は縦型の方が一層、効果大である。

次に乾燥工程は、第２図に例示した状態で行なう、まず
、第１図の状態から洗浄薬剤２を一部流去して、基板３
の底面を薬剤２の液面から浮きださせる。この状態にし
てから加熱手段６を作動して薬剤を加熱しそれを演発さ
せる。なお、このときの加熱温度は、レジスト層を分解
又は変質させない温度であることが必要である。同時に
冷却手段７，７゛を作動して容器開口部にエアーカーテ
ン８を形成する。

蒸発した薬剤はエアーカーテン８まで上昇すると、そこ
で冷却され再び容器２内に流下する。

このような薬剤蒸気の雰囲気中に、担体の前駆体をｒＪ
ｔ露しておけば、レジスタ層４に付着している水及び薬
剤が乾燥除去される。

なお、上記の説明では洗浄工程と乾燥工程とを同一の装
置で行なう場合を例示したが、洗浄用の装置と乾燥用の
装置とを別置してそれぞれの工程を順次行なってもよい
ことはいうまでもない。

［発明の実施例］ 第１図に示した装置を用い、洗浄薬剤としてフロン１１
３を満たした。フロン液（浴）の中に、従来の工程を経
て得られた現像処理後の担体を浸漬し、約３分間超音波
洗浄した。

ついで、フロン液を流去して第２図の状態とし、ニクロ
ムヒータを作動して液温を４７．６°Ｃとし、あわせて
冷却手段７，７°を作動して乾燥浴を形成した。

約２分間この状態を保持したのち担体を取りだし、レジ
スト層表面を目視及び顕微鏡で観察した。いずれの場合
も“シミ°゛は認められなかった。

得られた情報記録担体の信号を再生したところ、信号レ
ベルの低下、ドロップアウトノイズは極めて小さな値で
あった。

従来の加圧空気吹きつけ法によって乾燥した担体の再生
信号には信号レベルの低下があった。

上記方法では、洗浄工程と乾燥工程とを同一浴中で行う
ことを示したが、洗浄用と乾燥用に別の浴（＋ｅ）を使
用する際は、洗浄浴、即ち水をフロンで詮換する浴（脱
水フロン浴）と乾燥浴（フロン浴）を設ければよい。

［発明の効果］ 以上の説明で明らかなように、本発明方法によれば、乾
燥時に発生していたレジスト層の°“シミ°°はなくな
り　その結果、再生信号の信号レベルの低下若しくはド
ロップアウトノイズなどのない高品位の情報記録担体を
製造することができ、その工業的価値は極めて大である
。また、そのための装置も従来用いていた洗浄槽の簡単
な改良によって製作することかでさて実用性に富む。

【図面の簡単な説明】

第１図、第２図はいずれも本発明方法における洗浄・乾
燥工程で用いる装置の模式図であり、第１図は洗浄して
いる状態を表わし、第２図は乾燥している状態を表わす
図である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、ガラス基板にレジスト層を設ける工程；該レジスト
   層をベーキングする工程；該レジスト層に潜像を形成す
   る工程；該レジスト層を現像して顕像化する工程；該レ
   ジスト層を洗浄して乾燥する工程から成る情報記録担体
   の製造方法において、 該洗浄・乾燥工程が、レジスト層を水洗したのち洗浄薬
   剤で更に洗浄し、ついで、該洗浄薬剤の蒸気で乾燥する
   ことを特徴とする情報記録担体の製造方法。 ２、該洗浄薬剤がフッ化炭化水素である特許請求の範囲
   第１項記載の方法。 ３、上方が開口し、現像処理を施した情報記録担体の前
   駆体を収容する有底容器と、該容器の底部に配設された
   加熱手段と、該容器の開口部に設けられた洗浄薬剤ガス
   冷却手段とから成ることを特徴とする洗浄・乾燥装置。