JPH0714218A - 光ディスク作成用原盤の作成方法 - Google Patents
光ディスク作成用原盤の作成方法Info
- Publication number
- JPH0714218A JPH0714218A JP15743993A JP15743993A JPH0714218A JP H0714218 A JPH0714218 A JP H0714218A JP 15743993 A JP15743993 A JP 15743993A JP 15743993 A JP15743993 A JP 15743993A JP H0714218 A JPH0714218 A JP H0714218A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- master
- optical
- resist layer
- nickel
- signal pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ニッケルマスター（ニッケルスタンパー）を
簡易に、そして一度に複数枚作成することを可能とす
る。 【構成】 マスクとしての光学式原盤１１を作成し、こ
の光学式原盤１１を使用してステッパー装置２４によ
り、レジスト層付きガラス原盤２３に信号パターンを複
数回一度に露光記録して潜像２７を形成し、これから光
ディスク作成用原盤、すなわちニッケルマスター（ニッ
ケルスタンパー）を複数枚作成する。
簡易に、そして一度に複数枚作成することを可能とす
る。 【構成】 マスクとしての光学式原盤１１を作成し、こ
の光学式原盤１１を使用してステッパー装置２４によ
り、レジスト層付きガラス原盤２３に信号パターンを複
数回一度に露光記録して潜像２７を形成し、これから光
ディスク作成用原盤、すなわちニッケルマスター（ニッ
ケルスタンパー）を複数枚作成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ＣＤ，ＶＤ（ＬＤ），
ＭＤ（ミニディスク），ＷＯ及びＭＯ等の光ディスクを
作成するための光ディスク作成用原盤、いわゆるニッケ
ルスタンパーを作成するための光ディスク作成用原盤の
製造に関する。
ＭＤ（ミニディスク），ＷＯ及びＭＯ等の光ディスクを
作成するための光ディスク作成用原盤、いわゆるニッケ
ルスタンパーを作成するための光ディスク作成用原盤の
製造に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来から、同一の光ディスクを大量に生
産するために射出成形機を使用する技術または２Ｐ（Ph
oto-Polymer ）法が用いられている。そして、射出成形
機または２Ｐ法が適用された装置の金型として、ニッケ
ルスタンパーが使用されている。
産するために射出成形機を使用する技術または２Ｐ（Ph
oto-Polymer ）法が用いられている。そして、射出成形
機または２Ｐ法が適用された装置の金型として、ニッケ
ルスタンパーが使用されている。
【０００３】周知のように、ニッケルスタンパーを作成
する際には、まず、ガラス原盤にフォトレジストを塗布
し、このレジスタ層付きガラス原盤を回転しながらレー
ザ光スポットで信号パターンを露光記録して潜像を形成
する。
する際には、まず、ガラス原盤にフォトレジストを塗布
し、このレジスタ層付きガラス原盤を回転しながらレー
ザ光スポットで信号パターンを露光記録して潜像を形成
する。
【０００４】次に、これを現像した後、表面の導体化、
すなわち、メタライズを行ない、そのメタライズ層上に
ニッケルめっきをする。
すなわち、メタライズを行ない、そのメタライズ層上に
ニッケルめっきをする。
【０００５】このニッケルめっき層が形成されたガラス
原盤からニッケルめっき層を剥離洗浄することで、ニッ
ケルマスターが作成される。
原盤からニッケルめっき層を剥離洗浄することで、ニッ
ケルマスターが作成される。
【０００６】このニッケルマスターは、上述したニッケ
ルスタンパーとして使用することができるが、光ディス
クを大量に作ろうとする際には、１枚のニッケルマスタ
ーに対して、ニッケルマザーを作り、さらにそのニッケ
ルマザーからニッケルスタンパーを作成するという、い
わゆるめっき反転処理を行って複数枚のニッケルスタン
パーを作成するようにしていた。
ルスタンパーとして使用することができるが、光ディス
クを大量に作ろうとする際には、１枚のニッケルマスタ
ーに対して、ニッケルマザーを作り、さらにそのニッケ
ルマザーからニッケルスタンパーを作成するという、い
わゆるめっき反転処理を行って複数枚のニッケルスタン
パーを作成するようにしていた。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た従来の技術では、ニッケルスタンパーを作成する際
に、ニッケルマスターに対して、剥離処理（パッシベー
ション）、メタライズ処理及びニッケルめっき層の剥離
洗浄処理が必要で、それらの工程の途中あるいはハンド
リング時にニッケルマスターの信号面に傷を付けてしま
う場合があった。
た従来の技術では、ニッケルスタンパーを作成する際
に、ニッケルマスターに対して、剥離処理（パッシベー
ション）、メタライズ処理及びニッケルめっき層の剥離
洗浄処理が必要で、それらの工程の途中あるいはハンド
リング時にニッケルマスターの信号面に傷を付けてしま
う場合があった。
【０００８】ニッケルマスターに傷が付いてしまった場
合には、再び、上述したガラス原盤にフォトレジストを
塗布し、それを回転しながらレーザ光スポットで信号パ
ターンを露光記録して潜像を形成する工程からやり直し
をしなければならなかったので、そのような場合には、
非常に手間がかかるという問題があった。
合には、再び、上述したガラス原盤にフォトレジストを
塗布し、それを回転しながらレーザ光スポットで信号パ
ターンを露光記録して潜像を形成する工程からやり直し
をしなければならなかったので、そのような場合には、
非常に手間がかかるという問題があった。
【０００９】また、ニッケルマスターからニッケルスタ
ンパーを作成する場合には、必ず、１枚ずつニッケルス
タンパーを作成しなければならないので、面倒であると
いう問題もあった。言い換えれば、一度にたくさんのニ
ッケルスタンパーを作成したいという要請もあった。
ンパーを作成する場合には、必ず、１枚ずつニッケルス
タンパーを作成しなければならないので、面倒であると
いう問題もあった。言い換えれば、一度にたくさんのニ
ッケルスタンパーを作成したいという要請もあった。
【００１０】さらに、例えば、φ１２ｃｍのＣＤのトラ
ックピッチ１．４μｍの信号パターンをレジスト層付き
ガラス原盤に形成する信号パターン形成露光装置を、他
の光ディスク、例えば、トラックピッチ０．９〜１．１
μｍのＭＤ（φ６．４ｃｍ）用にも使用したいという要
請があった。これらの要請は、結局は、コスト低減に結
びつく。
ックピッチ１．４μｍの信号パターンをレジスト層付き
ガラス原盤に形成する信号パターン形成露光装置を、他
の光ディスク、例えば、トラックピッチ０．９〜１．１
μｍのＭＤ（φ６．４ｃｍ）用にも使用したいという要
請があった。これらの要請は、結局は、コスト低減に結
びつく。
【００１１】本発明はこのような課題を考慮してなされ
たものであり、ニッケルマスター（ニッケルスタンパ
ー）を簡易に、そして一度に複数枚作成することを可能
とするとともに、例えば、ＣＤ用の信号パターン形成露
光装置をＭＤ用にも兼用することを可能とする光ディス
ク作成用原盤の作成方法を提供するものである。
たものであり、ニッケルマスター（ニッケルスタンパ
ー）を簡易に、そして一度に複数枚作成することを可能
とするとともに、例えば、ＣＤ用の信号パターン形成露
光装置をＭＤ用にも兼用することを可能とする光ディス
ク作成用原盤の作成方法を提供するものである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明は、例えば、図
３、図５及び図６に示すように、ガラス原盤１上に金属
層２を形成し、その金属層２上にレジスト層３を形成し
て表面レジスト層・内面金属層付きガラス原盤５を作成
する過程と、表面レジスト層・内面金属層付き付きガラ
ス原盤５の表面レジスト層３に信号パターンを形成した
後、レジスト層３を現像して信号パターンが形成された
部分のレジスト層３を除去して金属層２を露出させ、残
されたレジスト層３をマスクとして上記露出した金属層
２をエッチングにより除去し、その後上記残されたレジ
スト層３を除去して光学式原盤１１を作成する過程と、
この光学式原盤１１を使用してレジスト層付きガラス原
盤２３に信号パターンを露光記録した後、信号パターン
が露光記録されたレジスト層付きガラス原盤２３を現像
し、さらに、表面導体化処理を行った後めっき層を形成
し、形成しためっき層を剥離洗浄して光ディスク作成用
原盤を作成する過程とを有するものである。
３、図５及び図６に示すように、ガラス原盤１上に金属
層２を形成し、その金属層２上にレジスト層３を形成し
て表面レジスト層・内面金属層付きガラス原盤５を作成
する過程と、表面レジスト層・内面金属層付き付きガラ
ス原盤５の表面レジスト層３に信号パターンを形成した
後、レジスト層３を現像して信号パターンが形成された
部分のレジスト層３を除去して金属層２を露出させ、残
されたレジスト層３をマスクとして上記露出した金属層
２をエッチングにより除去し、その後上記残されたレジ
スト層３を除去して光学式原盤１１を作成する過程と、
この光学式原盤１１を使用してレジスト層付きガラス原
盤２３に信号パターンを露光記録した後、信号パターン
が露光記録されたレジスト層付きガラス原盤２３を現像
し、さらに、表面導体化処理を行った後めっき層を形成
し、形成しためっき層を剥離洗浄して光ディスク作成用
原盤を作成する過程とを有するものである。
【００１３】また本発明は、光学式原盤１１を使用して
光ディスク作成用原盤を作成する過程において、光学式
原盤１１を使用してレジスト層付きガラス原盤２３に信
号パターンを露光記録する際、異なる場所に複数回露光
記録するようにして、複数枚の光ディスク作成用原盤を
作成するようにしたものである。
光ディスク作成用原盤を作成する過程において、光学式
原盤１１を使用してレジスト層付きガラス原盤２３に信
号パターンを露光記録する際、異なる場所に複数回露光
記録するようにして、複数枚の光ディスク作成用原盤を
作成するようにしたものである。
【００１４】
【作用】本発明によれば、いわゆる半導体集積回路等を
作成するためのステッパー装置２４に用いるレチクルと
同様の光学式原盤１１を作成し、この光学式原盤１１を
使用してレジスト層付きガラス原盤２３に信号パターン
を露光記録し、この露光記録したレジスト層付きガラス
原盤２３から光ディスク作成用原盤、すなわちニッケル
マスター（ニッケルスタンパー）を作成するようにして
いる。このため、光学式原盤１１を使用してニッケルマ
スター（ニッケルスタンパー）を作成する際には、光学
式原盤１１は単に、露光記録、すなわち、光を通過させ
るだけでよいので、光学式原盤１１上に傷が付く確率
が、剥離処理を行う従来の技術に比較して相当に小さく
なる。また、一旦、光学式原盤１１を作成してしまえ
ば、パッシベーション工程が不要になるので、ニッケル
マスター（ニッケルスタンパー）を簡易に作成すること
ができる。
作成するためのステッパー装置２４に用いるレチクルと
同様の光学式原盤１１を作成し、この光学式原盤１１を
使用してレジスト層付きガラス原盤２３に信号パターン
を露光記録し、この露光記録したレジスト層付きガラス
原盤２３から光ディスク作成用原盤、すなわちニッケル
マスター（ニッケルスタンパー）を作成するようにして
いる。このため、光学式原盤１１を使用してニッケルマ
スター（ニッケルスタンパー）を作成する際には、光学
式原盤１１は単に、露光記録、すなわち、光を通過させ
るだけでよいので、光学式原盤１１上に傷が付く確率
が、剥離処理を行う従来の技術に比較して相当に小さく
なる。また、一旦、光学式原盤１１を作成してしまえ
ば、パッシベーション工程が不要になるので、ニッケル
マスター（ニッケルスタンパー）を簡易に作成すること
ができる。
【００１５】また、レジスト層付きガラス原盤２３に光
学式原盤１１を利用して信号パターンを露光記録する際
に、複数回、いわゆるステップアンドリピート技術によ
り、複数回露光記録することで、一度に複数枚のニッケ
ルマスター（ニッケルスタンパー）を作成することがで
きる。
学式原盤１１を利用して信号パターンを露光記録する際
に、複数回、いわゆるステップアンドリピート技術によ
り、複数回露光記録することで、一度に複数枚のニッケ
ルマスター（ニッケルスタンパー）を作成することがで
きる。
【００１６】さらにまた、光学式原盤１１を使用して露
光記録する際に、例えば、０．９／１．２倍の縮小光学
系を使用すれば、例えば、ＭＤ用の光学式原盤１１をＣ
Ｄ用の信号パターン露光記録装置１０（図４参照）で作
成することが可能になる。
光記録する際に、例えば、０．９／１．２倍の縮小光学
系を使用すれば、例えば、ＭＤ用の光学式原盤１１をＣ
Ｄ用の信号パターン露光記録装置１０（図４参照）で作
成することが可能になる。
【００１７】
【実施例】以下、本発明光ディスク作成用原盤の作成方
法の一実施例について図面を参照して説明する。
法の一実施例について図面を参照して説明する。
【００１８】図１は、光学式原盤作成工程を示してい
る。図２は、図１に示した光学式原盤作成工程で作成さ
れた光学式原盤を使用して光ディスク作成用原盤を作成
するための光ディスク作成用原盤作成工程を示してい
る。
る。図２は、図１に示した光学式原盤作成工程で作成さ
れた光学式原盤を使用して光ディスク作成用原盤を作成
するための光ディスク作成用原盤作成工程を示してい
る。
【００１９】そこで、図１に示す光学式原盤作成工程、
図２に示す光ディスク作成用原盤作成工程の順序で説明
する。
図２に示す光ディスク作成用原盤作成工程の順序で説明
する。
【００２０】まず、図３に示すように、光透過性のガラ
ス原盤１を準備し、このガラス原盤１の一面上に、例え
ば、クロムの金属層２を形成する（ステップＳ１）。金
属層２は、後に説明する紫外線光を遮光する厚さに形成
すればよい。金属層２は、蒸着技術またはスパッタリン
グ技術を用いて形成することができる。
ス原盤１を準備し、このガラス原盤１の一面上に、例え
ば、クロムの金属層２を形成する（ステップＳ１）。金
属層２は、後に説明する紫外線光を遮光する厚さに形成
すればよい。金属層２は、蒸着技術またはスパッタリン
グ技術を用いて形成することができる。
【００２１】次に、このようにして作成された金属層付
きガラス原盤の金属層２上にレジストを塗布してレジス
ト層３を形成し、表面レジスト層・内面金属層付きガラ
ス原盤５を作成する（ステップＳ２）。なお、後に説明
するように、このレジスト層３は、金属層２のエッチン
グ用として使用されるものである。
きガラス原盤の金属層２上にレジストを塗布してレジス
ト層３を形成し、表面レジスト層・内面金属層付きガラ
ス原盤５を作成する（ステップＳ２）。なお、後に説明
するように、このレジスト層３は、金属層２のエッチン
グ用として使用されるものである。
【００２２】次いで、図４に示すように、表面レジスト
層・内面金属層付きガラス原盤５を周知の信号パターン
露光記録装置１０（図４は全体として信号パターン露光
記録装置の構成を示している。）に装着して表面レジス
ト層・内面金属層付きガラス原盤５のレジスト層３に信
号パターンを形成する（ステップＳ３）。この場合、ま
ず、矢印Ｐ方向に回転することのできる取り付け台６上
に表面レジスト層・内面金属層付きガラス原盤５を固定
する。次に、取り付け台６を矢印Ｐ方向に回転させなが
ら、レジスト層３にレーザ光Ｌを照射する光学系７を半
径Ｒ方向に移動させることで、レジスト層３に同心状ま
たはスパイラル状の信号パターンの潜像を形成すること
ができる。なお、レーザ光Ｌは、レーザ光源と光変調器
等を有するレーザ光源装置８から出射されたものを光学
系７を構成するミラー９により反射させてレジスト層３
上に照射するようにしている。
層・内面金属層付きガラス原盤５を周知の信号パターン
露光記録装置１０（図４は全体として信号パターン露光
記録装置の構成を示している。）に装着して表面レジス
ト層・内面金属層付きガラス原盤５のレジスト層３に信
号パターンを形成する（ステップＳ３）。この場合、ま
ず、矢印Ｐ方向に回転することのできる取り付け台６上
に表面レジスト層・内面金属層付きガラス原盤５を固定
する。次に、取り付け台６を矢印Ｐ方向に回転させなが
ら、レジスト層３にレーザ光Ｌを照射する光学系７を半
径Ｒ方向に移動させることで、レジスト層３に同心状ま
たはスパイラル状の信号パターンの潜像を形成すること
ができる。なお、レーザ光Ｌは、レーザ光源と光変調器
等を有するレーザ光源装置８から出射されたものを光学
系７を構成するミラー９により反射させてレジスト層３
上に照射するようにしている。
【００２３】なお、この実施例では、最終的に作成しよ
うとする光ディスク作成用原盤、すなわち、ニッケルマ
スター（ニッケルスタンパー）をＭＤ（トラックピッチ
０．９ｍｍとする）対応のものにするが、このステップ
Ｓ３の信号パターン露光記録過程では、既存のＣＤ（ト
ラックピッチ１．４ｍｍとする）の信号パターン露光記
録装置１０を使用しているので、いわゆる拡大して信号
パターンを露光記録することになる。このため、後の工
程でＭＤ用に縮小することで、高精度化、いわゆるファ
インパターン化を容易に形成することが可能である。
うとする光ディスク作成用原盤、すなわち、ニッケルマ
スター（ニッケルスタンパー）をＭＤ（トラックピッチ
０．９ｍｍとする）対応のものにするが、このステップ
Ｓ３の信号パターン露光記録過程では、既存のＣＤ（ト
ラックピッチ１．４ｍｍとする）の信号パターン露光記
録装置１０を使用しているので、いわゆる拡大して信号
パターンを露光記録することになる。このため、後の工
程でＭＤ用に縮小することで、高精度化、いわゆるファ
インパターン化を容易に形成することが可能である。
【００２４】次に、信号パターンが露光記録された表面
レジスト層・内面金属層付きガラス原盤５現像する（ス
テップＳ４）。
レジスト層・内面金属層付きガラス原盤５現像する（ス
テップＳ４）。
【００２５】この現像により、レーザ光Ｌが照射されて
信号パターンが形成された部分のレジスト層３を容易に
除去することが可能になり、除去された部分では信号パ
ターンに対応した金属層２が露出する。
信号パターンが形成された部分のレジスト層３を容易に
除去することが可能になり、除去された部分では信号パ
ターンに対応した金属層２が露出する。
【００２６】次に、エッチング処理することで、レジス
ト層３がマスクとなり、露出した金属層２のみがエッチ
ングされて除去され、その部分ではガラス原盤２の表面
が露出する（ステップＳ５）。
ト層３がマスクとなり、露出した金属層２のみがエッチ
ングされて除去され、その部分ではガラス原盤２の表面
が露出する（ステップＳ５）。
【００２７】そして、エッチング後の表面レジスト層・
内面金属層付きガラス原盤５を洗浄してレジスト層３を
除去する。これによって、図５に示すような光学式原盤
１１、いわゆるマスク（半導体ステッパー装置における
レチクルに対応するもの）が作成される（ステップＳ
６）。この光学式原盤１１では、ガラス原盤１上に金属
層２によるＭＤの信号パターンの拡大された信号パター
ンＳＰがパターンニングされたものになっている。実際
の信号パターンＳＰは、金属層２間のガラス原盤１が露
出した部分に形成されている。
内面金属層付きガラス原盤５を洗浄してレジスト層３を
除去する。これによって、図５に示すような光学式原盤
１１、いわゆるマスク（半導体ステッパー装置における
レチクルに対応するもの）が作成される（ステップＳ
６）。この光学式原盤１１では、ガラス原盤１上に金属
層２によるＭＤの信号パターンの拡大された信号パター
ンＳＰがパターンニングされたものになっている。実際
の信号パターンＳＰは、金属層２間のガラス原盤１が露
出した部分に形成されている。
【００２８】次に、このようにして作成された光学式原
盤１１を用いて光ディスク作成用原盤、すなわちニッケ
ルマスター（ニッケルスタンパー）を作成する過程につ
いて図６をも参照して説明する。
盤１１を用いて光ディスク作成用原盤、すなわちニッケ
ルマスター（ニッケルスタンパー）を作成する過程につ
いて図６をも参照して説明する。
【００２９】まず、一度に最終的に作成しようとする光
ディスク作成用原盤の数を複数枚（この実施例では、４
枚）にするために、比較的に大きなガラス原盤２１を準
備し、このガラス原盤２１上にディスク読み取り波長の
λ／４（λは、読み取り用レーザ光の波長）に相当する
厚さのレジスト層２２を塗布形成することで、レジスト
層付きガラス原盤２３を作成する（図２，ステップＳ１
１参照）。なお、一度に４枚作成する場合には、ＣＤ用
のガラス原盤を使用すればよいが、ＶＤ（ＬＤ）用の大
きさのガラス原盤を使用することで、さらに多数の光デ
ィスク作成用原盤を一度に作成することができる。
ディスク作成用原盤の数を複数枚（この実施例では、４
枚）にするために、比較的に大きなガラス原盤２１を準
備し、このガラス原盤２１上にディスク読み取り波長の
λ／４（λは、読み取り用レーザ光の波長）に相当する
厚さのレジスト層２２を塗布形成することで、レジスト
層付きガラス原盤２３を作成する（図２，ステップＳ１
１参照）。なお、一度に４枚作成する場合には、ＣＤ用
のガラス原盤を使用すればよいが、ＶＤ（ＬＤ）用の大
きさのガラス原盤を使用することで、さらに多数の光デ
ィスク作成用原盤を一度に作成することができる。
【００３０】次に、このレジスト層付きガラス原盤２３
をステッパー装置２４（図６は、全体としてステッパー
装置の構成を示している。なお、図６において、理解し
易くするために、２重波線の上側と下側では、見る位置
を変えて描いている。）のＸ−Ｙステージ（図示してい
ない）上に固定する。Ｘ−Ｙステージ上に固定されたレ
ジスト層付きガラス原盤２３の上方には、縮小光学系
（この実施例での縮小率は０．９／１．４倍）である結
像光学系２５が配置固定されている。次に、上記ステッ
プＳ１〜Ｓ６の過程によって作成された光学式原盤１１
を紫外線光Ｌｕｖを発生する紫外線ランプ２６と結像光
学系２５との間に配置固定する。このようにしてステッ
パー装置２４に光学式原盤１１とレジスト層付きガラス
原盤２３がセットされる（ステップＳ１２）。
をステッパー装置２４（図６は、全体としてステッパー
装置の構成を示している。なお、図６において、理解し
易くするために、２重波線の上側と下側では、見る位置
を変えて描いている。）のＸ−Ｙステージ（図示してい
ない）上に固定する。Ｘ−Ｙステージ上に固定されたレ
ジスト層付きガラス原盤２３の上方には、縮小光学系
（この実施例での縮小率は０．９／１．４倍）である結
像光学系２５が配置固定されている。次に、上記ステッ
プＳ１〜Ｓ６の過程によって作成された光学式原盤１１
を紫外線光Ｌｕｖを発生する紫外線ランプ２６と結像光
学系２５との間に配置固定する。このようにしてステッ
パー装置２４に光学式原盤１１とレジスト層付きガラス
原盤２３がセットされる（ステップＳ１２）。
【００３１】セットした状態において、Ｘ−Ｙステージ
を定寸送りしながら、結像光学系２５で結像された紫外
線光Ｌｕｖによりレジスト層２２上に同一の潜像２７を
複数回（図６例では４回）露光記録する（ステップＳ１
３）。すなわち、潜像２７をステップアンドリピート法
により複数個形成している。この各潜像２７の大きさ
は、結像光学系２５によりＭＤに対応した大きさに縮小
されて形成されている。したがって、この潜像上の信号
パターン上のトラックピッチは、実際のＭＤのトラック
ピッチと等しい０．９μｍになっている。
を定寸送りしながら、結像光学系２５で結像された紫外
線光Ｌｕｖによりレジスト層２２上に同一の潜像２７を
複数回（図６例では４回）露光記録する（ステップＳ１
３）。すなわち、潜像２７をステップアンドリピート法
により複数個形成している。この各潜像２７の大きさ
は、結像光学系２５によりＭＤに対応した大きさに縮小
されて形成されている。したがって、この潜像上の信号
パターン上のトラックピッチは、実際のＭＤのトラック
ピッチと等しい０．９μｍになっている。
【００３２】複数個の潜像２７が露光記録されたレジス
ト層付きガラス原盤２３は、ステッパー装置２４から外
される。そして、次に説明する周知のニッケルマスター
（ニッケルスタンパー）形成技術によりニッケルマスタ
ー（ニッケルスタンパー）が形成される。すなわち、潜
像２７が露光記録されているレジスト層付きガラス原盤
２３は、現像処理（ステップＳ１４）後、表面導体化処
理、すなわちメタライズ処理（ステップＳ１５）が行わ
れ、さらに、めっき処理（ステップＳ１６）によりその
メタライズ層上に、例えば、厚さ３００μｍのニッケル
めっき層が形成される。最後に、ニッケルめっき層が形
成されたガラス原盤２１からニッケルめっき層が剥離さ
れて、レジスト層２２が洗浄除去されることでニッケル
マスター（ニッケルスタンパー）が複数枚（図６例では
４枚）一度に作成できる。
ト層付きガラス原盤２３は、ステッパー装置２４から外
される。そして、次に説明する周知のニッケルマスター
（ニッケルスタンパー）形成技術によりニッケルマスタ
ー（ニッケルスタンパー）が形成される。すなわち、潜
像２７が露光記録されているレジスト層付きガラス原盤
２３は、現像処理（ステップＳ１４）後、表面導体化処
理、すなわちメタライズ処理（ステップＳ１５）が行わ
れ、さらに、めっき処理（ステップＳ１６）によりその
メタライズ層上に、例えば、厚さ３００μｍのニッケル
めっき層が形成される。最後に、ニッケルめっき層が形
成されたガラス原盤２１からニッケルめっき層が剥離さ
れて、レジスト層２２が洗浄除去されることでニッケル
マスター（ニッケルスタンパー）が複数枚（図６例では
４枚）一度に作成できる。
【００３３】そして、これらのニッケルマスターをニッ
ケルスタンパーとして使用することで、射出成形機によ
りまたは２Ｐ法等により、所望の光ディスク、この場
合、ＭＤ（実際には、樹脂ディスク、この樹脂ディスク
に、誘電体膜、磁性膜、反射膜保護膜等を形成すること
で光ディスクとしてのＭＤが完成する。）を作成するこ
とができる。なお、その光ディスクを作成する際に、上
記ニッケルスタンパーを使用して一度に４枚、光ディス
ク作成用の原盤となる樹脂ディスクを作成しようとする
場合には、上記剥離したニッケルめっき層から４枚のニ
ッケルマスターを切り離さないで使用すればよい。
ケルスタンパーとして使用することで、射出成形機によ
りまたは２Ｐ法等により、所望の光ディスク、この場
合、ＭＤ（実際には、樹脂ディスク、この樹脂ディスク
に、誘電体膜、磁性膜、反射膜保護膜等を形成すること
で光ディスクとしてのＭＤが完成する。）を作成するこ
とができる。なお、その光ディスクを作成する際に、上
記ニッケルスタンパーを使用して一度に４枚、光ディス
ク作成用の原盤となる樹脂ディスクを作成しようとする
場合には、上記剥離したニッケルめっき層から４枚のニ
ッケルマスターを切り離さないで使用すればよい。
【００３４】このように上記した実施例によれば、マス
クとしての光学式原盤１１を作成し、この光学式原盤１
１を使用してステッパー装置２４により、レジスト層付
きガラス原盤２３に信号パターンを複数回露光記録して
潜像２７を形成し、これから光ディスク作成用原盤、す
なわちニッケルマスター（ニッケルスタンパー）を作成
するようにしている。この場合、光学式原盤１１を使用
してニッケルマスター（ニッケルスタンパー）を作成す
る際には、光学式原盤１１は単に、露光記録、すなわ
ち、紫外線光Ｌｕｖを通過させるだけでよいので、光学
式原盤１１上に傷が付く確率が、いわゆるめっき反転に
よる剥離処理を行う従来の技術に比較して相当に小さく
なる。実際上、ほぼ永久的に光学式原盤１１を使用する
ことができる。また、一旦、光学式原盤１１を作成して
しまえば、パッシベーション工程が不要になるので、ニ
ッケルマスター（ニッケルスタンパー）を簡易に作成す
ることができる。
クとしての光学式原盤１１を作成し、この光学式原盤１
１を使用してステッパー装置２４により、レジスト層付
きガラス原盤２３に信号パターンを複数回露光記録して
潜像２７を形成し、これから光ディスク作成用原盤、す
なわちニッケルマスター（ニッケルスタンパー）を作成
するようにしている。この場合、光学式原盤１１を使用
してニッケルマスター（ニッケルスタンパー）を作成す
る際には、光学式原盤１１は単に、露光記録、すなわ
ち、紫外線光Ｌｕｖを通過させるだけでよいので、光学
式原盤１１上に傷が付く確率が、いわゆるめっき反転に
よる剥離処理を行う従来の技術に比較して相当に小さく
なる。実際上、ほぼ永久的に光学式原盤１１を使用する
ことができる。また、一旦、光学式原盤１１を作成して
しまえば、パッシベーション工程が不要になるので、ニ
ッケルマスター（ニッケルスタンパー）を簡易に作成す
ることができる。
【００３５】また、レジスト層付きガラス原盤２３に光
学式原盤１１を使用して信号パターンを露光記録する際
に、複数回、いわゆるステップアンドリピート技術を用
いて複数回露光記録しているので、一度に複数枚のニッ
ケルマスター（ニッケルスタンパー）を作成することが
できる。
学式原盤１１を使用して信号パターンを露光記録する際
に、複数回、いわゆるステップアンドリピート技術を用
いて複数回露光記録しているので、一度に複数枚のニッ
ケルマスター（ニッケルスタンパー）を作成することが
できる。
【００３６】さらにまた、光学式原盤１１を使用して露
光記録する際に、０．９／１．４倍の縮小光学系２５を
使用しているので、ＭＤ用の光学式原盤１１をＣＤ用の
信号パターン露光記録装置１０で作成することが可能に
なる。また、製品としての光ディスクにより一層の高精
度が要求される場合には、ＣＤ用の信号パターン露光記
録装置１０に代替して、ＶＤ用の信号パターン露光記録
装置などを使用し、結像光学系２５の縮小率（縮小率を
可変にすることもできる）に応じてその信号パターン露
光記録装置で拡大記録すればよい。
光記録する際に、０．９／１．４倍の縮小光学系２５を
使用しているので、ＭＤ用の光学式原盤１１をＣＤ用の
信号パターン露光記録装置１０で作成することが可能に
なる。また、製品としての光ディスクにより一層の高精
度が要求される場合には、ＣＤ用の信号パターン露光記
録装置１０に代替して、ＶＤ用の信号パターン露光記録
装置などを使用し、結像光学系２５の縮小率（縮小率を
可変にすることもできる）に応じてその信号パターン露
光記録装置で拡大記録すればよい。
【００３７】なお、本発明は上記の実施例に限らず本発
明の要旨を逸脱することなく種々の構成を採り得ること
はもちろんである。
明の要旨を逸脱することなく種々の構成を採り得ること
はもちろんである。
【００３８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
いわゆる半導体集積回路等を作成するためのステッパー
装置に用いるレチクルと同様の光学式原盤を作成し、こ
の光学式原盤を使用してレジスト層付きガラス原盤に信
号パターンを露光記録し、この露光記録したレジスト層
付きガラス原盤から光ディスク作成用原盤、すなわちニ
ッケルマスター（ニッケルスタンパー）を作成するよう
にしている。このため、光学式原盤を使用してニッケル
マスター（ニッケルスタンパー）を作成する際には、光
学式原盤は単に、露光記録、すなわち、光を通過させる
だけでよいので、光学式原盤上に傷が付く確率が、剥離
処理を行う従来の技術に比較して相当に小さくなる。ま
た、一旦、光学式原盤を作成してしまえば、パッシベー
ション工程が不要になるので、ニッケルマスター（ニッ
ケルスタンパー）を簡易に作成することができる。
いわゆる半導体集積回路等を作成するためのステッパー
装置に用いるレチクルと同様の光学式原盤を作成し、こ
の光学式原盤を使用してレジスト層付きガラス原盤に信
号パターンを露光記録し、この露光記録したレジスト層
付きガラス原盤から光ディスク作成用原盤、すなわちニ
ッケルマスター（ニッケルスタンパー）を作成するよう
にしている。このため、光学式原盤を使用してニッケル
マスター（ニッケルスタンパー）を作成する際には、光
学式原盤は単に、露光記録、すなわち、光を通過させる
だけでよいので、光学式原盤上に傷が付く確率が、剥離
処理を行う従来の技術に比較して相当に小さくなる。ま
た、一旦、光学式原盤を作成してしまえば、パッシベー
ション工程が不要になるので、ニッケルマスター（ニッ
ケルスタンパー）を簡易に作成することができる。
【００３９】また、レジスト層付きガラス原盤に光学式
原盤を使用して信号パターンを露光記録する際に、複数
回、いわゆるステップアンドリピート技術により、複数
回露光記録することで、一度に複数枚のニッケルマスタ
ー（ニッケルスタンパー）を作成することができる。
原盤を使用して信号パターンを露光記録する際に、複数
回、いわゆるステップアンドリピート技術により、複数
回露光記録することで、一度に複数枚のニッケルマスタ
ー（ニッケルスタンパー）を作成することができる。
【００４０】さらにまた、光学式原盤を使用して露光記
録する際に、例えば、０．９／１．２倍の縮小光学系を
使用すれば、例えば、ＭＤ用の光学式原盤をＣＤ用の信
号パターン露光記録装置で作成することが可能になる。
録する際に、例えば、０．９／１．２倍の縮小光学系を
使用すれば、例えば、ＭＤ用の光学式原盤をＣＤ用の信
号パターン露光記録装置で作成することが可能になる。
【図１】本発明による光ディスク作成用原盤の作成方法
の一実施例中、光学式原盤の作成過程を示す工程図であ
る。
の一実施例中、光学式原盤の作成過程を示す工程図であ
る。
【図２】本発明による光ディスク作成用原盤の作成方法
の一実施例中、光学式原盤を使用して光ディスク作成用
原盤を作成する過程を示す工程図である。
の一実施例中、光学式原盤を使用して光ディスク作成用
原盤を作成する過程を示す工程図である。
【図３】表面レジスト層・内面金属層付きガラス原盤の
構成を示す断面図である。
構成を示す断面図である。
【図４】信号パターン露光記録装置の概略構成を示す線
図である。
図である。
【図５】光学式原盤の構成を示す断面図である。
【図６】ステッパー装置の概略構成を示す線図である。
５ 表面レジスト層・内面金属層付きガラス原盤 １０ 信号パターン露光記録装置 １１ 光学式原盤 ２３ レジスト層付きガラス原盤 ２４ ステッパー装置 ２７ （信号パターンの）潜像 Ｌ レーザ光 Ｌｕｖ 紫外線光
Claims (2)
- 【請求項１】 ガラス原盤上に金属層を形成し、その金
属層上にレジスト層を形成して表面レジスト層・内面金
属層付きガラス原盤を作成する過程と、 上記表面レジスト層・内面金属層付き付きガラス原盤の
表面レジスタ層に信号パターンを形成した後、上記レジ
スト層を現像して信号パターンが形成された部分のレジ
スト層を除去して上記金属層を露出させ、残されたレジ
スト層をマスクとして上記露出した金属層をエッチング
により除去し、その後上記残されたレジスト層を除去し
て光学式原盤を作成する過程と、 この光学式原盤を使用してレジスト層付きガラス原盤に
信号パターンを露光記録した後、信号パターンが露光記
録されたレジスト層付きガラス原盤を現像し、さらに、
表面導体化処理を行った後めっき層を形成し、形成した
めっき層を剥離洗浄して光ディスク作成用原盤を作成す
る過程と、 を有する光ディスク作成用原盤の作成方法。 - 【請求項２】 上記光学式原盤を使用して光ディスク作
成用原盤を作成する過程において、上記光学式原盤を使
用してレジスト層付きガラス原盤に信号パターンを露光
記録する際、異なる場所に複数回露光記録するようにし
て、複数枚の光ディスク作成用原盤を作成するようにし
た請求項１記載の光ディスク作成用原盤の作成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15743993A JP3465301B2 (ja) | 1993-06-28 | 1993-06-28 | 光ディスク作成用原盤の作成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15743993A JP3465301B2 (ja) | 1993-06-28 | 1993-06-28 | 光ディスク作成用原盤の作成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0714218A true JPH0714218A (ja) | 1995-01-17 |
| JP3465301B2 JP3465301B2 (ja) | 2003-11-10 |
Family
ID=15649678
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15743993A Expired - Fee Related JP3465301B2 (ja) | 1993-06-28 | 1993-06-28 | 光ディスク作成用原盤の作成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3465301B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6638692B1 (en) * | 2001-07-16 | 2003-10-28 | Imation Corp. | Replicated regions on optical disks |
| WO2003042985A3 (en) * | 2001-11-16 | 2004-06-17 | Koninkl Philips Electronics Nv | Method of manufacturing a stamper, master plate, support structure and use of such a stamper |
| EP2019333A1 (en) * | 2007-07-25 | 2009-01-28 | Singulus Mastering B.V. | Production of stamps, masks or templates for semiconductor device manufacturing |
-
1993
- 1993-06-28 JP JP15743993A patent/JP3465301B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6638692B1 (en) * | 2001-07-16 | 2003-10-28 | Imation Corp. | Replicated regions on optical disks |
| WO2003042985A3 (en) * | 2001-11-16 | 2004-06-17 | Koninkl Philips Electronics Nv | Method of manufacturing a stamper, master plate, support structure and use of such a stamper |
| EP2019333A1 (en) * | 2007-07-25 | 2009-01-28 | Singulus Mastering B.V. | Production of stamps, masks or templates for semiconductor device manufacturing |
| WO2009013028A1 (en) * | 2007-07-25 | 2009-01-29 | Singulus Mastering B. V. | Production of stamps, masks or templates for semiconductor device manufacturing |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3465301B2 (ja) | 2003-11-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US20050167867A1 (en) | Method and apparatus for making a stamper for patterning CDs and DVDs | |
| JPH0363947A (ja) | 光ディスク原盤の作製方法 | |
| EP0418897B1 (en) | Manufacturing method of high density optical recording medium | |
| JP2582996B2 (ja) | フォトマスクの製造方法 | |
| JPS61240452A (ja) | ガラス成形型製作方法 | |
| JP3465301B2 (ja) | 光ディスク作成用原盤の作成方法 | |
| JP2000280255A (ja) | 原盤の製造方法 | |
| JPS6023407B2 (ja) | 情報記録媒体の製造方法 | |
| EP0694916A2 (en) | Method of fabricating stamper | |
| JP3136759B2 (ja) | スタンパ、その製造方法、及び光記録媒体 | |
| JP3662305B2 (ja) | 露光パターンの形成方法及びその装置 | |
| US20040051052A1 (en) | Method for manufacturing original disk for recording medium, and stamper manufacturing method | |
| KR100188922B1 (ko) | 광디스크 제조용 유리기판 및 포토마스크의 제조방법 | |
| JPH01235044A (ja) | 光ディスク基板およびその製造方法 | |
| JPH11203732A (ja) | 露光方法及びこれを用いた露光装置、ならびに原盤及び光記録媒体 | |
| JPH10302300A (ja) | 記録媒体原盤の製造方法、露光方法、記録及び／又は再生装置 | |
| JPH0845118A (ja) | スタンパの作成方法 | |
| JPS61160850A (ja) | 光デイスク | |
| JPH0845119A (ja) | スタンパの作成方法 | |
| JP2003257087A (ja) | 光ディスクの製造方法 | |
| JPH04155345A (ja) | 露光装置 | |
| JPH04349239A (ja) | 光記録媒体及びその製造方法 | |
| JPH01143035A (ja) | 情報記録原盤及びその製造方法 | |
| JPS61271637A (ja) | パタ−ン形成方法 | |
| JPH07121913A (ja) | 光ディスク製造用スタンパ及びその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |