JPH04155345A - 露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概　要〕 ディスク装置に用いられる光ディスクや磁気ディスク等
の製造におけるフォトリソグラフィ工程に適用する露光
装置に関し、 レジスト膜に微細なパターン幅を有する同心円状の多数
の溝形成用のトラックパターンを露光するためのフォト
マスクが露光方法により安価に得られ、その安価なフォ
トマスクにより前記同心円状の多数の溝形成用のトラン
クパターンを効率良く露光可能にすることを目的とし、 基板の被露光面に同心円状の多数のトラ・ツクパターン
を露光する露光装置であって、前記同心円状の多数のト
ランクパターンに対応する複数個の点状透光パターンを
有するフォトマスクを当該基板に対向して設置し、かつ
該フォトマスク、または前記基板を回転する手段と、前
記フォトマスクを照射する光源とを有する装置構成とす
る。

また、前記光源とフォトマスクとの間に、該光源からの
光を遮蔽する開閉自在なシャ・ツタ−を付設した構成と
する。

〔産業上の利用分野： 本発明はディスク装置に用いられる光ディスクや磁気デ
ィスク等の製造におけるフォトリソグラフィ工程に適用
する露光装置に関するものである。

露光装置による露光と現像により加工部材の表面にレジ
ストマスクを形成し、そのレジストマスクを介して加工
部材の表面をエツチングして所望の溝パターンの形成や
穴明は加工等を行うフォトリソグラフィ工程は、加工精
度が高く、生産性の高効率化が実現できるため、ディス
ク装置二二用いられる光ディスクや磁気ヘッド、或い−
ま半導体集積回路素子等の製造プロセスに広く用いられ
て０る。

ところで例えば光ディスクの製造において、ガラス基板
の表面に同心円状の多数のグループパターン（案内溝パ
ターン）を形成するためのフォトリソグラフィ工程にお
いて、形成する案内溝ツクターンのパターン幅が微細化
するに伴い、それＣ二側いる露光用のフォトマスクのマ
スクパターンも微細化されて高価となることから、安価
な露光用のフォトマスクを用いて微細なパターン幅を有
する同心円状の多数の溝形成用のトラックパターンを露
光することができる露光装置が必要とされている。

；従来の技術〕 従来の露光装置は、第４図乙二示すように水銀アークラ
ンプ、或いはキセノン・水銀アークランプ等からなる光
源１と、該光ａ１からの光りを反射鏡と各種レンズとの
組み合わせにより平行光にする光学系２と、フォトマス
ク３を配置するＶ示しないマスク取付は部及びレジスト
膜を塗着した基板５を配置する基板取付は台４等により
構成されている。

そしてこのような露光装置により、例えば光ディスクの
製造工程においてガラスからなる基板５の表面に記録ト
ラックに対応する同心円状の多数のグループパターン（
案内溝パターン）を形成する場合、該基板５上にレジス
ト膜を塗着し、かかる基板５と同心円状の多数の案内溝
形成用トラックパターン６を有するフォトマスク３とを
前記露光装置の基板取付は台４とマスク取付は部にそれ
ぞれ相互に対向するように配置し、前記基板５上のレノ
スト膜を前記フォトマスク３を通して露光し、現像して
案内溝パターン形成用のレジストマスクを形成する。

その後、該レジストマスクより露出した前記基板５面を
ケミカルエツチング法、或いはドライエ７チング法等に
よりエンチングすることにより、該基板５の表面に同心
円状の多数の案内溝パターンを形成している。

〔発明が解決しようとする課題〕

ところが上記した光ディスクの記録容量の増大に伴う高
トラ、り書度化により、前記フォトマスク３としても更
に微細なサブミクロンオーダーのパターン幅を有する同
心円状の多数のグループ形成用トラックパターン（案内
溝形成用トラックパターン）を備えたフォトマスクが必
要となる。

しかし、そのようなフォトマスクの微細なパターン幅を
有する同心円状の多数のグループ形成用パターンを、前
記光デイスク用のガラスからなる基板５の所定データー
領域対応の広い全域にわたってカバーするように精度の
良く作製するには必然的に高度な技術が要求されること
から、かかるフォトマスクは著しく高価となり、これを
用いた製品のコストアンプが避けられないといった問題
があった。

また一方、そのような高価なフォトマスクを用いること
なく、ガラス基板上に塗着したレジスト膜にサブミクロ
ンオーダーの微細なパターン幅を有する同心円状の多数
の案内溝形成用トラックパターンを露光する方法として
、レーザビーム、或いは電子ビーム等を用いた周知のビ
ーム走査露光法も提案されているが、このビーム走査露
光法ではガラス基板上の塗着されたレジスト膜に多数の
同心円状の案内溝形成用トラックパターンを、例えば１
トラツクパターンずつビーム走査により露光しているた
め１、全ての同心円状の多数の案内溝形成用トラックパ
ターンを露光し終わるのに長時間を要する欠点があり、
かかる露光処理効率の向上が切望されている。

本発明は上記した従来の問題点に鑑み、レジスト膜に微
細なパターン幅を有する同心円状の多数の溝形成用のト
ラ、クパターンを露光するためのフォトマスクが露光方
法により安価に得られ、その安価なフォトマスクにより
前記同心円状の多数の溝形成用のトランクパターンを効
率良く露光することができる新規な露光装置を提供する
ことを目的とするものである。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は上記した目的を達成するため、基板の被露光面
に同心円状の多数のトラックパターンを露光する露光装
置であって、前記同心円状の多数のトランクパターンに
対応する複数個の点状の透光パターンを有するフォトマ
スクを当該基板に対向して設置し、かつ該フォトマスク
、または前記基板を回転する手段と、前記フォトマスク
を照射する光源とを有する装置構成とする。

また、前記光源とフォトマスクとの間に、該光源からの
光を遮蔽する開閉自在なシャッターを付設した構成とす
る。

１作　用〕 本発明では、装置に装着されたフォトマスク、またはレ
ジスト膜を塗着した基板を回転可能な構成とし、該フォ
トマスクとしては、露光すべき微細なパターン幅を有す
る同心円状の多数のトラックパターンに対応する複数個
の点状透光パターン（円形孔状の透光パターン）を有す
る安価なフォトマスクを用いて、該フォトマスク、また
はレジスト膜を塗着した基板を回転させた状態で光源か
らの光を前記フォトマスクを介して基板上のレジスト膜
表面に照射することにより、安価なフォトマスクにより
レジスト膜表面Ｃ：微細なパターン幅を有する多数の同
心円状の溝形成用のトラックパターンを効率良く露光す
ることができる。

〔実施例〕

以下図面を用いて本発明の実施例について詳細に説明す
る。。

第１図は本発明に係る露光装置の一実施例を示す要部構
成図である。

図において、■は水銀アークランプ、或いはキセノン・
水銀アークランプ等からなる光源、２は該光源１からの
光りを反射鏡と各種レンズとの組み合わせにより平行光
にする光学系、１１は図示しないマスク取付は部に配置
したフォトマスクであり、該フォトマスクＩｆには、第
２図に示すように露光すべき微細なパターン幅を有する
同心円状の多数のトランクパターンに対応するように複
数個の微細な円形孔状の透光パターン（点状透光パター
ン）１２が、該フォトマスク１１の中心Ｑから外周端部
の方向に列設されている。

また、かかるフォトマスク１１に対向し、かつ近接して
レジスト膜を塗着した基板５が、回転モータ１４により
回転可能とした基板取付は台１３上に配置されている。

更に、前記光学系２とフォトマスク１１間に光源１から
の光りを遮断する開閉自在なシャッター１５が配備され
ている。

そして前記基板５上のレジスト膜に対する露光操作に際
しては、回転モータ１４により基板取付は台１３上の基
板５を所定回転速度で回転させた状態で前記光源１から
の光りをフォトマスク１１に対して照射することにより
、第３図に示すようにその照射した光りの一部が前記フ
ォトマスク１１の複数個の円形孔状の透光パターン（点
状透光パターン）１２を通して回転する基板５上のレジ
スト膜表面ムこ照射され、該基板５を例えば一回転（３
６０度回転）させることによって、前記レジスト膜に対
して微細なパターン幅を有する同心円状の多数の溝形成
用のトラックパターン１６を効率良く露光することが可
能となる。

しかも、上記した露光工程において前記光学系２とフォ
トマスク１１間に配備されたシャッター１５を所定速度
で連続的に開閉操作することにより、微細なパターン幅
を有する多数のビット溝形成用のトラックパターンを同
心円状に効率良く露光することも可能となる。

なお、前記露光中におけるレジスト膜を塗着した基板５
の回転速度を一定乙：すれば、露光光量も一定となり均
一なパターン幅の露光が可能となりその回転速度を変化
させることにより、露光光量も変化するので露光パター
ン幅を任意に変化させることができる。

従って、かかる露光装置により光ディスク等の製造にお
いて、ディスク基板に微細なパターン幅を有する同心円
状の多数の室内溝パターンを形成するフォトリソグラフ
ィ工程、或いは光ディスクの製造における原盤となるス
タンパの形成工程に適用して極めて有利である。

更に、以上の実施例ではレジスト膜を塗着じだ基板を回
転させる構成の場合の例で説明したが、この例に限定す
るものではなく、例えば基板側は固定し、フォトマスク
側を回転させる構成とすることもでき、同様な機能と効
果が得られる。

〔発明の効果〕

以上の説明から明らかなように、本発明に係る露光装置
によれば、安価なフォトマスクによりレジスト膜表面に
微細なパターン幅を有する多数の、　　同心円状の溝形
成用のトラックパターンを効率良く露光することができ
る優れた利点を有し、光ディスク等の製造におけるディ
スク基板に微細なパターン幅を有する同心円状の多数の
案内溝パターンを形成するフォトリソグラフィ工程、或
いは光ディスクの製造における原盤となるスタンパの形
成工程に通用して顕著なる経済的効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る露光装置の一実施例を示す要部構
成図、 第２図は本発明の露光装置に用いるフォトマスクの一実
施例を示す平面図、 第３図は本発明の露光装置の露光動作を説明するだめの
図、 第４回は従来の露光装置の一例を示す要部構成図、 第５図は従来の露光装置に用いるフォトマスクを示す平
面図である。 第１図〜第３図において、 １は光源、２は光学系、５は基板、１１はフォトマスク
、１２は円形礼状の透光パターン、１３は基板取付は台
、１４は回転モータ、１５はンヤ、ター、１６は溝形成
用のトラックパターンをそれぞれ示す。 第１ｍｌ 第２１１１ ン）（−トロ月へ１町［：眠；１＾１１！ｔ“−リシイ
γ艷ｔｒｉθメ１力０り第３ｍ 第４図 １１１５図

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）基板（５）の被露光面に同心円状の多数のトラッ
   クパターンを露光する露光装置であって、前記同心円状
   の複数のトラックパターンに対応する複数個の点状の透
   光パターン（１２）を有するフォトマスク（１１）を当
   該基板（５）に対向して設置し、かつ該フォトマスク（
   １１）、または前記基板（５）を回転する手段（１４）
   と、前記フォトマスク（１１）を照射する光源（１）と
   を有することを特徴とする露光装置。
2. （２）前記光源（１）とフォトマスク（１１）との間に
   、該光源（１）からの光を遮蔽する開閉自在なシャッタ
   ー（１５）を付設したことを特徴とする請求項１記載の
   露光装置。