DE3225575C2

DE3225575C2 - Verfahren und Vorrichtung zum Steuern der Entwicklerflüssigkeitszufuhr in einer Fotoresistplattenentwicklungseinrichtung

Info

Publication number: DE3225575C2
Application number: DE3225575A
Authority: DE
Inventors: Toshiniro Komaki; Fumio Matsui; Mitsuaki Sashida; Atsushi Tokorozawa Saitama Yoshizawa
Original assignee: Pioneer Electronic Corp
Current assignee: Pioneer Corp
Priority date: 1981-07-08
Filing date: 1982-07-08
Publication date: 1986-07-31
Also published as: FR2509484B1; GB2108707A; GB2108707B; FR2509484A1; DE3225575A1; US4469424A

Abstract

Verfahren und Vorrichtung zum Entwickeln eines Photo-Resistmaterials eines optischen Aufzeichnungsträgers, auf den eine digitale Information in Form einer Reihe von Vertie fungen aufgezeichnet ist, deren Lage und Länge die digitale Information wiedergeben. Um die Größe der während des Entwicklungsvorgangs ausgebildeten Vertiefungen genau zu steuern und Abweichungen von einem Aufzeichnungsträger zum anderen herabzusetzen, liegt ein Überwachungsstrahl am Aufzeichnungsträger während des Entwicklungsvorganges. Ein Beugungsstrahl des Überwachungsenergiestrahls geht durch die Vertiefungen und wird von einer Sensoreinrichtung aufgenommen, die die Intensität des Beugungsstrahles überwacht und ein Signal zum Steuern der Zuführung der Entwicklerlösung auf den Aufzeichnungsträger erzeugt.

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Steuern der Entwicklerflüssigkeitszufuhr in Abhängigkeit vom Entwicklungsfortgang in einer Fotoresistplattenentwicklungseinrichtung, in der eine Fotoresistschicht einer Aufzeichnungsplatte entwickelt wird, die auf einem lichtdurchlässigen Träger ausgebildet und mit einem Aufzeichnungslichtstrahl belichtet ist, der mit der aufzuzeichnenden Information moduliert war, wobei sich während der Entwicklung die Aufzeichnungsplatte unter der Zufuhr der Entwicklerflüssigkeit dreht.

Ein derartiges Verfahren und eine derartige Vorrichtung, die aus der JP-OS 52-1 49 978 bekannt sind, dienen dazu, die Größe der Vertiefungen, die während des Entwicklungsvorganges gebildet werden, d. h. die Tiefe und die Breite der Vertiefungen, die direkt die Genauigkeit der Wiedergabe beeinflussen, so zu steuern, daß sie in einem bestimmten Zulässigkeitsbereich liegen.

Um die Größe der Vertiefungen zu steuern, ist es notwendig, die Entwicklungszeit, d. h. die Zeitdauer der chemischen Reaktion der belichteten Teile des Fotoresistmaterials zu steuern. Die Geschwindigkeit der chemischen Reaktion wird jedoch durch verschiedene Parameter, wie beispielsweise die Stärke der Belichtung, die Dichte und die Temperatur der Entwicklerlösung usw. beeinflußt.

Bei dem Verfahren und der Vorrichtung, die aus der

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JP-OS 52-1 49 978 bekannt sind, gibt es keine Möglich- nungsplatte zur Richtung der Schwerkraft Störungen

ksit, die während des Entwicklungsfortganges in der des Durchganges des Überwachungslichtstrahles durch

Fotoresistschicht durch die Entwicklerflüssigkeit ausge- die Aufzeichnungsplatte aufgrund einer Ansammlung

bildeten Vertiefungen zu überwachen, d. h. darauf ein- von Entwicklerflüssigkeit an der Stelle, auf die der

zuwirken, daß der Entwicklungsvorgang möglichst 5 Überwachungslichtstrahl fällt, ausgeschlossen werden

gleich große Vertiefungen in der Fotoresistschicht lie- können,

fert Besonders bevorzugte Weiterbildungen und Ausge-

Aus der DE-OS 28 25 546 ist es weiterhin bekannt, bei staltungen des erfindungsgemäßen Verfahrens und der

der Herstellung von beispielsweise integrierten Schal- erfindungsgemäßen Vorrichtung sind Gegenstand der

tungen belichtete Fotolackschichten zu entwickeln, die 10 Patentansprüche 2 bis 4 und 6 bis 8.

mit einem Fertigungsmuster und einem Testmuster je- Im folgenden werden anhand der Zeichnungen be-

weils belichtet sind. Das Testmuster wird dabei während sonders bevorzugte Ausführungsbeispiele der Erfin-

des Entwicklungsfortganges einer Strahlung ausgesetzt, dung näher erläutert Es zeigt

deren gebeugter Anteil von einem Fotodetektor über- F i g. 1 in einer schematischen Ansicht ein erstes Auswacht und zur Steuerung des Entwicklungsvorganges 15 führungsbeispiel der erfindungsgemäßen Entwicklungsder Fotolackschicht herangezogen wird. vorrichtung;

Die der Erfindung zugrunde liegende Aufgabe be- Fig. 2 in einer graphischen Darstellung die Intensität

steht demgegenüber darin, das Verfahren und die Vor- eines primären Beugungsstrahles eines Laserstrahls, der

richtung der eingangs genannten Art so auszugestalten, durch die Vertiefungen geht, die auf einer Platte ausge-

daß die Entwicklerflüssigkeitszufuhr mit hoher Genau- 20 bildet sind, gegenüber der Entwicklungszeit bei einem

igkeit gesteuert werden kann und damit eine hohe bekannten Entwicklungsverfahren;

Gleichmäßigkeit der während des Entwicklungsvorgan- F i g. 3 in einer graphischen Darstellung die Bezie-

ges in der Fotoresistschicht gebildeten Vertiefungen er- hung zwischen der Intensität eines primären Beugungs-

zielt werden kann. Strahles eines Laserstrahls, der durch die Vertiefungen

Diese Aufgabe wird bei dem erfindungsgemäßen 25 hindurchgeht, die auf einer Platte ausgebildet sind und

Verfahren dadurch gelöst, daß ein Überwachungslicht- den Spannungspegel eines Wiedergabesignals von Plat-

strahl von einer Lichtquelle auf einer Seite der Auf- ten, die unter verschiedenen Entwicklungsbedingungen

zeichnungsplatte auf die Fotoresistschicht der Aufzeich- entwickelt wurden;

nungsplatte geworfen wird, mit einem Fotodetektor auf F i g. 4 schematisch ein zweites Ausführungsbeispiel

der anderen Seite der Aufzeichnungsplatte ein gebeug- 30 der erfindungsgemäßen Entwicklungsvorrichtung; und

ter Anteil des Überwachungslichtstrahles aufgenom- Fig.5 schematisch ein drittes Ausführungsbeispiel

men wird, der durch die Fotoresistschicht und den Trä- der erfindungsgemäßen Entwicklungsvorrichtung,

ger der Aufzeichnungsplatte hindurchgegangen ist, wo- Zunächst wird anhand von F i g. 1 ein erstes Ausfüh-

bei die Entwicklerflüssigkeitszufuhr in Abhängigkeit rungsbeispiel der erfindungsgemäßen Entwicklungsvor-

von dem aufgenommenen Beugungslichtstrahl derart 35 richtung beschrieben.

gesteuert wird, daß die Tiefe der durch die Entwickler- Die Entwicklungsvorrichtung umfaßt eine Behandflüssigkeit in der Fotoresistschicht gebildeten Vertiefun- lungskammer 1, in der eine Platte 2 aufgenommen ist, gen gleichmäßig wird, die Achse der Drehung der Auf- die einen Laserschneidvorgang, d. h. eine Belichtung mit zeichnungsplatte in einem bestimmten Grad zur Rieh- einem digital modulierten Laserstrahl, durchlaufen hat tung der Schwerkraft schräggestellt wird und der Über- 40 Die Platte 2 ist auf einem Drehteller 3 angebracht,
wachungslichtstrahl von der Lichtquelle an einer Stelle Der Drehteller 3 liegt vorzugsweise um einen vorbeauf die Fotoresistschicht der Aufzeichnungsplatte ge- stimmten Winkel leicht schräg zur Richtung der worfen wird, die höher als der Teil der Fotoresistschicht Schwerkraft und wird mit einer bestimmten Konstanten liegt, dem die Entwicklerflüssigkeit zugeführt wird. Drehzahl oder Drehgeschwindigkeit über einen nicht

Die erfindungsgemäße Vorrichtung zur Durchfüh- 45 dargestellten Elektromotor angetrieben,
rung dieses Verfahrens ist durch eine Lichtquelle, die auf Die Platte weist einen lichtdurchlässigen Träger, beieiner Seite der Aufzeichnungsplatte angeordnet ist und spielsweise aus Glas, und einen Dünnschichtfilm aus eieinen Überwachungslichtstrahl auf die Fotoresist- nem Photo-Resistmaterial mit einer Stärke von 2000 A schicht der Aufzeichnungsplatte wirft, und einen Foto- oder weniger auf, der darauf ausgebildet ist.
detektor gekennzeichnet, der bezüglich der Aufzeich- 50 Von einer Zuführungseinrichtung wird Entwicklerlönungsplatte auf der anderen Seite angeordnet ist und sung zugeführt und mit einem Druckgas, beispielsweise den gebeugten Anteil des Überwachungslichtstrahles mit Stickstoffgas, in einem Behälter 4 gemischt. Die aufnimmt, der durch die Fotoresistschicht und den Trä- durch das Stickstoffgas unter Druck gesetzte Entwickger der Aufzeichnungsplatte gegangen ist, wobei die lerlösung oder das Gaslösungsgemisch wird einer Düse Achse der Drehung der Aufzeichnungsplatte in einem 55 6 über eine Leitung 22 und ein Ventil 5 zugeführt, die die bestimmten Grad bezüglich der Richtung der Schwer- Entwicklerlösung auf die Oberfläche der Platte 2 sprüht, kraft schräg verläuft und die Lichtquelle so angeordnet Während des Entwicklungsvorgangs werden die Teile ist, daß der Überwachungslichtstrahl auf die Fotoresist- der Photo-Resistschicht auf der Platte, die mit einem schicht der Aufzeichnungsplatte an einer Stelle fällt, die Fleck des modulierten Laserstrahls belichtet worden höher als der Teil der Fotoresistschicht liegt, dem die 60 sind, durch die Entwicklerlösung von der Düse 6 ent-Entwicklerflüssigkeit zugeführt wird. fernt und ausgewaschen, so daß eine Reihe von Vertie-

Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren und der erfin- fungen auf der Platte 2 gebildet wird, die die digitale

sungsgemäßen Vorrichtung wird somit während des Information wiedergeben.

Entwicklungsvorganges die Ausbildung der tatsächli- Das Gemisch aus der Entwicklerlösung und dem Gas,

chen Vertiefungen überwacht und kann somit die Grö- 65 das in der Behandlungskammer 1 zurückbleibt, wird

ße der gerade gebildeten Vertiefungen in der Fotore- über ein Ventil 17 abgeführt, das an einer Seitenwand

sistschicht mit hoher Genauigkeit gesteuert werden, der Behandlungskammer angeordnet ist. Der andere

wobei aufgrund der Schräganordnung der Aufzeich- Teil der Entwicklerlösung fließt zum Boden der Behänd-

lungskammer 1 nach unten und tritt durch einen Auslaß 7 aus.

Eine Laserstrahlquelle 8, beispielsweise eine Helium-Neon-Röhre, ist an einer Stelle außerhalb der Behandlungskammer 1 vorgesehen. Ein Laserstrahl von der Quelle 8 wird über einen halbdurchlässigen Spiegel 9 auf die Platte 2 geworfen, so daß der Laserstrahl auf die Platte 2 unter einem Einfallswinkel mit bestimmter Größe schräg zu einer Richtung senkrecht zur Platte 2 fällt.

Der durch den halbdurchlässigen Spiegel 9 hindurchgehende Laserstrahl wird von einem ersten photoelektrischen Wandler 10, beispielsweise einer Photodiode oder einer photoelektrischen Röhre, aufgenommen, um den Laserstrahl zu überwachen. Das Ausgangssignal des ersten photoelektrischen Wandlers 10 liegt an einer Steuerschaltung 13, die später im einzelnen beschrieben wird.

Wenn an der Stelle der Photo-Resistschicht, auf die der Laserstrahl trifft, keine Vertiefung vorhanden ist, geht der Laserstrahl gerade durch den lichtdurchlässigen Träger der Platte 2 hindurch und wird der Laserstrahl von einem Strahlunterbrecher 11 aufgefangen. Wenn andererseits eine Vertiefung an dieser Stelle der Photo-Resistschicht vorhanden ist, wird der Laserstrahl durch die Vertiefung gebeugt und von einem zweiten photoelektrischen Wandler 12 aufgefangen, der dem ersten photoelektrischen Wandler 10 ähnlich ist

Der zweite photoelektrische Wandler 12 ist an einer Stelle von der Achse des einfallenden Strahles entfernt angeordnet, so daß er vorzugsweise die primäre Beugungswelle empfängt

Das Ausgangssignal des zweiten photoelektrischen Wandlers 12, das im wesentlichen proportional zur Größe der angetroffenen Vertiefung ist, liegt an der Steuerschaltung 13. Wenn das Ausgangssignal des zweiten photoelektrischen Wandlers 12 einen bestimmten Bezugspegel erreicht, erzeugt die Steuerschaltung 13 Befehlssignale zum Betreiben des Ventilantriebsmotors 14, um das Ventil 5 zu schließen, und zum Betreiben eines weiteren Ventilantriebsmotors 15, um ein Ventil 16 zu öffnen, das die Zuführung von reinem Wasser zur Oberfläche der Platte 2 steuert Da dem Photo-Resistmaterial auf der Oberfläche der Platte 2 keine Entwicklerlösung mehr zugeführt wird, wird der Entwicklungsprozeß unterbrochen. Wie es in F i g. 2 dargestellt ist die die Beziehung zwischen der Intensität in μW des Beugungsstrahles und der Entwicklungszeit bei einem bekannten Verfahren zeigt bei dem die Entwicklungszeit vorher gewählt ist weicht die Größe der Vertiefungen, die durch die Intensität des Beugungsstrahles wiedergegeben wird, gegenüber der Zeit von einer Platte zur anderen ab. Es ist daher anzunehmen, daß die Überwachung der Größe der Vertiefungen über die Intensität eines Beugungsstrahles statt einer reinen Steuerung der Entwicklungszeit besonders vorteilhaft ist Da die Entwicklungszeit nach Maßgabe des überdachten Wertes der Intensität des Beugungsstrahles gesteuert wird, wird eine genaue Steuerung der Größe der Vertiefungen im Falle des erfindungsgemäßen Verfahrens und der erfindungsgemäßen Vorrichtung möglich.

Während des erfindungsgemäßen Entwicklungsverfahrens wurden Versuche ausgeführt bei denen Parameter der chemischen Reaktion, wie beispielsweise das Ausmaß der Belichtung und die Entwicklungszeit variiert wurden. Die Ergebnisse dieser Versuche sind in F i g. 3 dargestellt die die Beziehung zwischen den Ausgangssignalpegeln zeigt, die von einer Vielzahl von Wiedergabeplatten erhalten wurden, die unter Verwendung einer Vielzahl von Masterplatten erzeugt wurden, di nach dem erfindungsgemäßen Entwicklungsverfahre hergestellt wurden, wobei die Pegel ^W) des Beu gungsstrahles verschiedene Einstellungen oder Soll Werte haben.

Selbst wenn die Parameter der chemischen Reaktioi geändert werden, folgt in der dargestellten Weise dii Beziehung zwischen den Soll-Pegeln des Beugungs Strahles und den Wiedergabesignalpegeln einer Expo

ίο nentialkurve.

Im folgenden wird anhand von Fig.4 ein zweite Ausführungsbeispiel der erfindungsgemäßen Entwick lungsvorrichtung beschrieben.
Das zweite Ausführungsbeispiel weist einen drittel

is photoelektrischen Wandler 18 auf, der anstelle de Strahlunterbrechers in F i g. 1 vorgesehen ist. Wenn ai der Stelle der Photo-Resistschicht, an der der Laser strahl von der Quelle 8 auftrifft, keine Vertiefung vor handen ist, geht der Laserstrahl gerade durch den Trä ger der Platte 2 wie beim vorhergehenden Ausführungs beispiel in F i g. 1 hindurch. Nach dem Durchgang durcl die Platte 2 wird der Laserstrahl jedoch vom drittel photoelektrischen Wandler 18 aufgefangen, der eii Ausgangssignal erzeugt das zur Intensität des anliegen den Laserstrahls proportional ist. Der erste photoelek trische Wandler 10 bei dem in F i g. 1 dargestellten Aus führungsbeispiel fehlt bei dem in F i g. 4 dargestellte!

Ausführungsbeispiel.

Die Ausgangssignale des zweiten und dritten photo elektrischen Wandlers werden jeweils in ihre Amplitudi durch nicht dargestellte Verstärker verstärkt und liegei an einer Operationsschaltung 19, die ein Ausgangssigna erzeugt das das Verhältnis zwischen den Intensitätei der Laserstrahlen wiedergibt die von den jeweiliger photoelektrischen Wandlern 12 und 18 empfangen wer den. Das Ausgangssignal der Operationsschaltung 1« liegt anschließend an einem Komparator 20, der eii Stoppbefehlssignal erzeugt wenn das Ausgangssigna der Operationsschaltung 19 einen bestimmten Ver gleichspegel Vr erreicht. Die Steuerschaltung 13 be treibt auf den Empfang des Stoppbefehlssignals von Komparator 20 die Motoren 14 und 15 in derselber Weise wie beim ersten Ausführungsbeispiel, um der Entwicklungsprozeß zu unterbrechen.

Die Ausgangssignale der photoelektrischen Wandlei 12 und 18 neigen zu Schwankungen aus verschiedener Gründen, wie beispielsweise einer Absorption, einei Streuung und einer Beugung des Laserstrahls, wöbe diese Schwankungen von Staubteilchen und von Teil chen der Entwicklungslösung verursacht werden. Be der in F i g. 4 dargestellten Vorrichtung werden jedocr Schwankungen der Ausgangssignale der elektrischer Wandler an der Operationsschaltung 19 kompensiert da die Schwankungen der Ausgangssignale der photo· elektrischen Wandler 12 und 18 in gleicher Weise al; Folge der oben beschriebenen Störungen auftreten. Dai Ausgangssignal der Operationsschaltung 19 ändert siel· daher allein mit der Größe der Vertiefungen, was ein< genauere Steuerung des Entwicklungsprozesses mög Hch macht

Vorzugsweise sind die obenerwähnten Verstärker die mit den photoelektrischen Wandlern verbunder sind, so eingestellt daß ihre Verstärkungsfaktoren derart verschieden sind, daß der Unterschied in der Aus gangscharakteristik der photoelektrischen Wandlei kompensiert wird.

In F i g. 5 ist ein drittes Ausführungsbeispiel der Erfin dung dargestellt.

Bei dem dritten Ausführungsbeispiel liegen die Ausgangssignale des ersten und zweiten photoelektrischen Wandlers 10 und 23 an der Operationsschaltung 19. Ähnlich wie bei dem in Fig.4 dargestellten Ausführungsbeispiel werden Schwankungen in der Intensität 5 des Laserstrahls von der Quelle 8 an der Operationsschaltung 19 kompensiert.

Aus dem Obigen ist ersichtlich, daß gemäß der Erfindung eine genaue Steuerung der Größe der Vertiefungen möglich ist, die während des Entwicklungsprozesses io ausgebildet werden. Es sei weiterhin darauf hingewiesen, daß die Schwankungen in der Intensität des Überwachungsenergiestrahls, die von dem photoelektrischen Wandler empfangen werden, durch die Verwendung einer Operationsschaltung kompensiert werden, in der 15 das Verhältnis zwischen einer Vielzahl von Ausgangssignalen der photoelektrischen Wandler berechnet wird, um ein Entwicklungssteuersignal zu erzeugen.

Hierzu 5 Blatt Zeichnungen 20

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Claims

Patentansprüche:

1. Verfahren zum Steuern der Entwicklerflüssigkeitszufuhr in Abhängigkeit vom Entwicklungsfortgang in einer Fotoresistplattenentwicklungseinrichtung, in der eine Fotoresistschicht einer Aufzeichnungsplatte entwickelt wird, die auf einem lichtdurchlässigen Träger ausgebildet und mit einem Aufzeichnungslichtstrahl belichtet ist, der mit der aufzuzeichnenden Information moduliert war, wobei sich während der Entwicklung die Aufzeichnungsplatte unter der Zufuhr der Entwicklerflüssigkeit dreht, dadurch gekennzeichnet, daß ein Überwachungslichstrahl von einer Lichtquelle (8) auf einer Seite der Aufzeichnungsplatte (2) auf die Fotoresistschicht der Aufzeichnungsplatie (2) geworfen wird, mit einem Fotodetektor (12) auf der anderen Seite der Aufzeichnungsplatte (2) ein gebeugter Anteil des Überwachungslichtstrahles aufgenommen wird, der durch die Fotoresistschicht und den Träger der Aufzeichnungsplatte (2) hindurchgegangen ist, wobei die Entwicklerflüssigkeitzufuhr in Abhängigkeit von dem aufgenommenen Beugungslichtstrahl derart gesteuert wird, daß die Tiefe der durch die Entwicklerflüssigkeit in der Fotoresistschicht gebildeten Vertiefungen gleichmäßig wird, die Achse der Drehung der Aufzeichnungsplatte (2) in einem bestimmten Grad zur Richtung der Schwerkraft schräggestellt wird und der Überwachungslichtstrahl von der Lichtquelle (8) an einer Stelle auf die Fotoresistschicht der Aufzeichnungsplatte (2) geworfen wird, die höher als der Teil der Fotoresistschicht liegt, dem die Entwicklerflüssigkeit zugeführt wird.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Intensität des Überwachungslichtstrahles als Bezugsintensität gemessen und die Intensität des gebeugten Anteils des Überwachungslichtstrahles mit der Bezugsintensität verglichen wird und daß ein Unterbrechungsbefehlssignal dann erzeugt wird, wenn das Verhältnis zwischen der Intensität des gebeugten Anteils des Überwachungslichtstrahles und der Bezugsintensität einen vorbestimmten Wert erreicht, um dadurch die Zufuhr der Entwicklerflüssigkeit zu unterbrechen.

3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Bezugsintensität mit einem zweiten Fotodetektor (10) gemessen wird, der auf der Seite der Aufzeichnungsplatte (2) angeordnet wird, auf der sich die Lichtquelle (8) befindet, so daß die Intensität des Überwachungslichtstrahles von der Lichtquelle (8) direkt gemessen wird.

4. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Bezugsintensität mit einem zweiten Fotodetektor (18) gemessen wird, der hinsichtlich der Lichtquelle (8) auf der anderen Seite der Aufzeichnungsplatte (2) angeordnet wird, so daß die Intensität des Überwachungslichtstrahles nach dem Durchgang durch die Fotoresistschicht und den Träger der Aufzeichnungsplatte (2) gemessen wird.

5. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1, gekennzeichnet, durch eine Lichtquelle (8), die auf einer Seite der Aufzeichnungsplatte (2) angeordnet ist und einen Überwachungslichtstrahl auf die Fotoresistschicht der Aufzeichnungsplatte (2) wirft, und einen Fotodetektor (12), der bezüglich der Aufzeichnungsplatte (2) auf der anderen Seite angeordnet ist und den gebeugten Anteil des Überwachungslichtstrahles aufnimmt, der durch die Fotoresistschicht und den Träger der Aufzeichnungsplatte (2) gegangen ist, wobei die Achse der Drehung der Aufzeichnungsplatte in einem bestimmten Grad bezüglich der Richtung der Schwerkraft schräg verläuft und die Lichtquelle (?) so angeordnet ist, daß der Überwachungslichtstrahl auf die Fotoresistschicht der Aufzeichnungsplatte (2) an einer Stelle fällt, die höher als der Teil der Fotoresistschicht liegt, dem die Entwicklerflüssigkeit zugeführt wird.

6. Vorrichtung nach Anspruch 5, gekennzeichnet durch einen zweiten Fotodetektor (10 bzw. 18), der die Intensität des Überwachungslichtstrahles als Bezugsintensität mißt und durch eine Einrichtung, die die Intensität des gebeugten Anteils des Überwachungslichtstrahles mit der Bezugsintensität vergleicht und ein Unterbrechungsbefehlssignal erzeugt, wenn das Verhältnis zwischen der Intensität des gebeugten Anteils des Überwachungslichtstrahles und der Bezugsintensität einen vorbestimmten Wert erreicht, um die Zufuhr der Entwicklerflüssigkeit zu unterbrechen.

7. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß der zweite Fotodetektor (10) auf derselben Seite wie die Lichtquelle (8) bezüglich der Aufzeichnungsplatte (2) angeordnet ist und direkt die Intensität des Überwachungslichtstrahles von der Lichtquelle (8) mißt.

8. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß der zweite Fotodetektor (18) bezüglich der Lichtquelle (8) auf der anderen Seite der Aufzeichnungsplatte (2) angeordnet ist und die Intensität des Überwachungslichtstrahles mißt, nachdem dieser durch die Fotoresistschicht und den Träger der Aufzeichnungsplatte (2) hindurchgegangen ist.