JP2861073B2 - 現像装置 - Google Patents
現像装置Info
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- JP2861073B2 JP2861073B2 JP17359689A JP17359689A JP2861073B2 JP 2861073 B2 JP2861073 B2 JP 2861073B2 JP 17359689 A JP17359689 A JP 17359689A JP 17359689 A JP17359689 A JP 17359689A JP 2861073 B2 JP2861073 B2 JP 2861073B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はレーザーディスク,コンパクトディスク(C
D)等の光記録ディスクの原盤の製作工程に使用して好
適な現像装置に関する。
D)等の光記録ディスクの原盤の製作工程に使用して好
適な現像装置に関する。
本発明はレーザーディスク,CD等の光記録ディスクの
原盤の製作工程に使用して好適な現像装置に関し、被現
像体上の現像液中に一端が位置する如くなされると共に
他端を透明体に密閉された鏡筒と、この鏡筒に設けられ
た気体流入口を介してこの鏡筒内に気体を流入する気体
送出手段と、この鏡筒の他端の透明体を介してこの鏡筒
体に入射されると共にこの被現像体に向かって出射され
るモニター光を送出するモニター光送出手段と、このモ
ニター光がこの被現像体に解折された回折光を観測し、
その観測結果に基いてこの現像液をこの被現像体上より
除去する現像液除去手段とを具備することにより、現像
制精度の向上及び安定化を図ることができる様にしたも
のである。
原盤の製作工程に使用して好適な現像装置に関し、被現
像体上の現像液中に一端が位置する如くなされると共に
他端を透明体に密閉された鏡筒と、この鏡筒に設けられ
た気体流入口を介してこの鏡筒内に気体を流入する気体
送出手段と、この鏡筒の他端の透明体を介してこの鏡筒
体に入射されると共にこの被現像体に向かって出射され
るモニター光を送出するモニター光送出手段と、このモ
ニター光がこの被現像体に解折された回折光を観測し、
その観測結果に基いてこの現像液をこの被現像体上より
除去する現像液除去手段とを具備することにより、現像
制精度の向上及び安定化を図ることができる様にしたも
のである。
従来CD等の光記録ディスクの原盤を製作するのによく
研磨したガラス円板上に光に感光する物質、ホトレジス
ト等をスピナ等により0.1μm程度の膜厚に均一に塗布
し、その後このホトレジスト等の光感光膜上にアルゴン
レーザー,He−Cdレーザー等レーザー光の集光を記録し
ようとする信号に応じてオンオフして照射し、その後現
像処理を行っていた。この現像処理は回転するガラス円
板の上から現像液を拡散する如くしており、このホスト
レジスト等の光の感光膜に形成されるピットの成長の適
当な時点でこの現像液の散布を停止する必要がある。
研磨したガラス円板上に光に感光する物質、ホトレジス
ト等をスピナ等により0.1μm程度の膜厚に均一に塗布
し、その後このホトレジスト等の光感光膜上にアルゴン
レーザー,He−Cdレーザー等レーザー光の集光を記録し
ようとする信号に応じてオンオフして照射し、その後現
像処理を行っていた。この現像処理は回転するガラス円
板の上から現像液を拡散する如くしており、このホスト
レジスト等の光の感光膜に形成されるピットの成長の適
当な時点でこの現像液の散布を停止する必要がある。
従来この現像液の散布停止の為のモニター方法はこの
ガラス円板上より垂直にレーザー光を照射し、ピット成
長により得られる回折光を検出し、この検出レベルが所
定値となったときに現像液の散布を停止する如くしてい
た。この場合このモニターのためのレーザー光は現像液
を通過した後に光検出器に入射して検出しているのでこ
の現像液面が平坦でないときにはこのレーザー光の乱反
射により、この検出レベルが不安定となり精度の良い検
出ができない。一般に回転するガラス円板に現像液を散
布して、このガラス円板上の現像液面を平坦にすること
は不可能であり、精度の比較的悪い不安定な現像しかで
きなかった。そこで先にこの現像液に依るピットの成長
具合をモニターするのに第3図に示す如き潜望鏡を用い
た現像モニター装置を設けた現像装置が提案されてい
る。即ち第3図に置いて、(1)は例えばCDの原盤を示
し、この原盤は両面がよく研磨されたガラス円板(1a)
とその一面上にスピナ等により0.1μm程度の均一の厚
さに塗布されたホストレジスト層(1b)とより成り、こ
のホストレジスト層(1b)は所望の音声信号に従ってア
ルゴンレーザー、He−Cdレーザー等のレーザー光により
所定の感光がなされたものである。
ガラス円板上より垂直にレーザー光を照射し、ピット成
長により得られる回折光を検出し、この検出レベルが所
定値となったときに現像液の散布を停止する如くしてい
た。この場合このモニターのためのレーザー光は現像液
を通過した後に光検出器に入射して検出しているのでこ
の現像液面が平坦でないときにはこのレーザー光の乱反
射により、この検出レベルが不安定となり精度の良い検
出ができない。一般に回転するガラス円板に現像液を散
布して、このガラス円板上の現像液面を平坦にすること
は不可能であり、精度の比較的悪い不安定な現像しかで
きなかった。そこで先にこの現像液に依るピットの成長
具合をモニターするのに第3図に示す如き潜望鏡を用い
た現像モニター装置を設けた現像装置が提案されてい
る。即ち第3図に置いて、(1)は例えばCDの原盤を示
し、この原盤は両面がよく研磨されたガラス円板(1a)
とその一面上にスピナ等により0.1μm程度の均一の厚
さに塗布されたホストレジスト層(1b)とより成り、こ
のホストレジスト層(1b)は所望の音声信号に従ってア
ルゴンレーザー、He−Cdレーザー等のレーザー光により
所定の感光がなされたものである。
この原盤(1)は図示されていないが回転するワーク
テーブルにセットされ、この原盤(1)上に現像液
(2)が散布される如くなされている。(3)は鏡筒を
示し、この鏡筒(3)の一端及び他端は夫々透明の石英
ガラス板(3a)及び(3b)にて密閉され、この鏡筒
(3)の一端は原盤(1)上の現像液(2)中に位置す
る如くなされている。(4)はモニター用レーザー光を
発生するレーザー光発生装置を示し、このレーザー光発
生装置(4)よりのレーザー光を鏡筒(3)の他端の石
英ガラス板(3b)、この鏡筒(3)内、この鏡筒(3)
の一端の石英ガラス板(3a)を介して原盤(1)を照射
する如くする。
テーブルにセットされ、この原盤(1)上に現像液
(2)が散布される如くなされている。(3)は鏡筒を
示し、この鏡筒(3)の一端及び他端は夫々透明の石英
ガラス板(3a)及び(3b)にて密閉され、この鏡筒
(3)の一端は原盤(1)上の現像液(2)中に位置す
る如くなされている。(4)はモニター用レーザー光を
発生するレーザー光発生装置を示し、このレーザー光発
生装置(4)よりのレーザー光を鏡筒(3)の他端の石
英ガラス板(3b)、この鏡筒(3)内、この鏡筒(3)
の一端の石英ガラス板(3a)を介して原盤(1)を照射
する如くする。
また、(5)は鏡筒(3)とは原盤(1)を介して反
対側に配された0次光検出器を示し、この0次光検出器
(5)にはレーザー光発生装置(4)よりのレーザー光
が鏡筒(3)及び原盤(1)を介し照射され、このレー
ザー光の0次光が照射される如くなされている。(6)
はこの0次光検出器(5)とは所定関係に配された原盤
(1)のレーザー光の回折光の1次光を検出する1次光
検出器を示す。また第3図に於いて、(7)は先端に鏡
筒(3)を保持し、この鏡筒(3)を所定位置に移動し
配する如くなされたモニターアームである。
対側に配された0次光検出器を示し、この0次光検出器
(5)にはレーザー光発生装置(4)よりのレーザー光
が鏡筒(3)及び原盤(1)を介し照射され、このレー
ザー光の0次光が照射される如くなされている。(6)
はこの0次光検出器(5)とは所定関係に配された原盤
(1)のレーザー光の回折光の1次光を検出する1次光
検出器を示す。また第3図に於いて、(7)は先端に鏡
筒(3)を保持し、この鏡筒(3)を所定位置に移動し
配する如くなされたモニターアームである。
斯る第3図においては鏡筒(3)の一端を原盤(1)
上の現像液(2)内に位置させ、レーザー光発行装置
(4)よりのレーザー光をこの鏡筒(3)内を通して原
盤(1)に照射し、この原盤(1)を介して得られる回
折光による1次光検出器(6)に得られる検出レベルが
所定値となったときにこの原盤(1)上の現像液(2)
を除去する如くする。従ってこの第3図例に於いては鏡
筒(3)の一端を現像液(2)内に位置する如くしてい
るので現像液(2)の液面の影響がなくこの回折光を検
出することができる。
上の現像液(2)内に位置させ、レーザー光発行装置
(4)よりのレーザー光をこの鏡筒(3)内を通して原
盤(1)に照射し、この原盤(1)を介して得られる回
折光による1次光検出器(6)に得られる検出レベルが
所定値となったときにこの原盤(1)上の現像液(2)
を除去する如くする。従ってこの第3図例に於いては鏡
筒(3)の一端を現像液(2)内に位置する如くしてい
るので現像液(2)の液面の影響がなくこの回折光を検
出することができる。
然しながら斯る第3図に示す如き現像装置に於いては
鏡筒(3)の一端及び他端に夫々石英ガラス板(3a)及
び(3b)が設けられているのでこの石英ガラス板(3a)
及び(3b)によりレーザ光の反射が起こり正確に光検出
器(5)(6)にこのレーザー光を案内するには比較的
困難な調整を必要とする不都合があった。またこの鏡筒
(3)の一端の石英ガラス板(3a)と原盤(1)との間
に気泡が入り込み、この気泡により1次光の検出レベル
特性に第4図Bに示す如くスパイク状のノイズを生じ、
これにより誤検出となり、誤判定となる不都合があっ
た、しかもこの石英ガラス板(3a)と原盤(1)との間
に一度入った泡は抜けにくかった。第4図Aは0次光の
検出レベル特性である。
鏡筒(3)の一端及び他端に夫々石英ガラス板(3a)及
び(3b)が設けられているのでこの石英ガラス板(3a)
及び(3b)によりレーザ光の反射が起こり正確に光検出
器(5)(6)にこのレーザー光を案内するには比較的
困難な調整を必要とする不都合があった。またこの鏡筒
(3)の一端の石英ガラス板(3a)と原盤(1)との間
に気泡が入り込み、この気泡により1次光の検出レベル
特性に第4図Bに示す如くスパイク状のノイズを生じ、
これにより誤検出となり、誤判定となる不都合があっ
た、しかもこの石英ガラス板(3a)と原盤(1)との間
に一度入った泡は抜けにくかった。第4図Aは0次光の
検出レベル特性である。
本例では0次光によりレーザー光のパワーの変動(自
然低下等)に対処する如くしている。
然低下等)に対処する如くしている。
本発明は斯る点に鑑み、原盤のホストレジスト等の被
現像体の現像精度を向上すると共にこの現像精度の安定
化を図ることを目的とする。
現像体の現像精度を向上すると共にこの現像精度の安定
化を図ることを目的とする。
本発明現像装置は例えば第1図に示す如く被現像体
(1b)上の現像液(2)中に一端が位置する如くなされ
ると共に他端を透明体(9)にて密閉された鏡筒(8)
と、この鏡筒(8)に設けられた気体流入口(8a)を介
してこの鏡筒(8)内に気体を流入する気体送出手段
(10)と、この鏡筒(8)の他端の透明体(9)を介し
てこの鏡筒(8)内に入射されると共にこの被現像体
(1b)に向かって出射されるモニター光を送出するモニ
ター光送出手段(4)と、このモニター光がこの被現像
体(1b)にて回折された回折光を観測し、その観測結果
に基いてこの現像液(2)をこの被現像体(1b)上より
除去する現像液除去手段とを具備したものである。
(1b)上の現像液(2)中に一端が位置する如くなされ
ると共に他端を透明体(9)にて密閉された鏡筒(8)
と、この鏡筒(8)に設けられた気体流入口(8a)を介
してこの鏡筒(8)内に気体を流入する気体送出手段
(10)と、この鏡筒(8)の他端の透明体(9)を介し
てこの鏡筒(8)内に入射されると共にこの被現像体
(1b)に向かって出射されるモニター光を送出するモニ
ター光送出手段(4)と、このモニター光がこの被現像
体(1b)にて回折された回折光を観測し、その観測結果
に基いてこの現像液(2)をこの被現像体(1b)上より
除去する現像液除去手段とを具備したものである。
本発明に依れば気体流入口(8a)より送出された気体
が鏡筒(8)の一端より流出しているので、この気体圧
により現像液(2)のモニター光が通過する部分の液面
を押えることができしかも気泡の影響がなくなるので被
現像体(1b)を介して得られる回折光の検出を良好に行
うことができこの被現像体(1b)の現像精度を向上する
と共にこの現像精度の安定化を図ることができる。
が鏡筒(8)の一端より流出しているので、この気体圧
により現像液(2)のモニター光が通過する部分の液面
を押えることができしかも気泡の影響がなくなるので被
現像体(1b)を介して得られる回折光の検出を良好に行
うことができこの被現像体(1b)の現像精度を向上する
と共にこの現像精度の安定化を図ることができる。
以下第1図を参照しながら本発明現像装置の一実施例
について説明しよう。この第1図に於いて、第3図に対
応する部分には同一符号を付し、その詳細説明は省略す
る。
について説明しよう。この第1図に於いて、第3図に対
応する部分には同一符号を付し、その詳細説明は省略す
る。
本例に於いても原盤(1)は両面がよく研磨されたガ
ラス円板(1a)とその上面ににスピナ等により0.1μm
程度の均一の厚さに塗布されたホトレジスト層(1b)と
より成り、この第1図例に於いてはホトレジスト層(1
b)は既に所望のオーディオ信号に従ってアルゴンレー
ザー,He−Cdレーザー等のレーザー光により所定の感光
がなされたものである。
ラス円板(1a)とその上面ににスピナ等により0.1μm
程度の均一の厚さに塗布されたホトレジスト層(1b)と
より成り、この第1図例に於いてはホトレジスト層(1
b)は既に所望のオーディオ信号に従ってアルゴンレー
ザー,He−Cdレーザー等のレーザー光により所定の感光
がなされたものである。
この原盤(1)は図示されていないが回転するワーク
テーブルにセットされ、この回転する原盤(1)上に現
像液(2)が散布される如くなされている。図中(8)
は鏡筒を示し、この鏡筒(8)の一端は現像中に於いて
はこの原盤(1)の所定間隔離れた位置例えば0.5mm離
れたところに位置し、この現像中には現像液(2)中に
位置する如くなす。この鏡筒(8)の他端はこの鏡筒
(8)の他端を密閉すると共に光を通過する透明ガラス
板(9)を設ける。
テーブルにセットされ、この回転する原盤(1)上に現
像液(2)が散布される如くなされている。図中(8)
は鏡筒を示し、この鏡筒(8)の一端は現像中に於いて
はこの原盤(1)の所定間隔離れた位置例えば0.5mm離
れたところに位置し、この現像中には現像液(2)中に
位置する如くなす。この鏡筒(8)の他端はこの鏡筒
(8)の他端を密閉すると共に光を通過する透明ガラス
板(9)を設ける。
本例に於いてはこの鏡筒(8)の胴部中間位置に気体
流入口(8a)を設け、この気体流入口(8a)に気体送出
装置(10)より例えば毎分1000ccのクリーン窒素を流入
する如くする。この場合この鏡筒(8)内に送り込むク
リーン窒素の量を一定とし、この鏡筒(8)の一端の圧
力が常に例えば1.2気圧となる如くする。
流入口(8a)を設け、この気体流入口(8a)に気体送出
装置(10)より例えば毎分1000ccのクリーン窒素を流入
する如くする。この場合この鏡筒(8)内に送り込むク
リーン窒素の量を一定とし、この鏡筒(8)の一端の圧
力が常に例えば1.2気圧となる如くする。
また本例に於いてはこの鏡筒(8)の上方所定位置に
モニター用のレーザー光を発生するレーザー光発生装置
(4)を設け、このレーザー光発生装置(4)よりのレ
ーザー光を鏡筒(8)の他端の透明ガラス板(9)、こ
の鏡筒(8)内、この鏡筒(8)の一端を介して原盤
(1)を照射する如くする。また、この鏡筒(8)とは
原盤(1)を介して反対側の所定位置に0次光検出器
(5)を設ける。この0次光検出器(5)にはレーザー
光発生装置(4)よりのレーザー光の原盤(1)よりの
0次光が供給される如くなされている。またこの0次光
検出器(5)とは所定関係に原盤(1)のレーザー光の
回折光の1次光を検出する1次検出器(6)を設ける。
その他は従来と同様に構成する。
モニター用のレーザー光を発生するレーザー光発生装置
(4)を設け、このレーザー光発生装置(4)よりのレ
ーザー光を鏡筒(8)の他端の透明ガラス板(9)、こ
の鏡筒(8)内、この鏡筒(8)の一端を介して原盤
(1)を照射する如くする。また、この鏡筒(8)とは
原盤(1)を介して反対側の所定位置に0次光検出器
(5)を設ける。この0次光検出器(5)にはレーザー
光発生装置(4)よりのレーザー光の原盤(1)よりの
0次光が供給される如くなされている。またこの0次光
検出器(5)とは所定関係に原盤(1)のレーザー光の
回折光の1次光を検出する1次検出器(6)を設ける。
その他は従来と同様に構成する。
本例は上述の如く構成されているので原盤(1)を現
像するときは第1図に示す如く、原盤(1)をワークテ
ーブルにセットし、ケーブルを回転して、この原盤
(1)を回転し、初め水をこの原盤(1)上に散布する
と共に鏡筒(8)を所定位置即ちこの鏡筒(8)の一端
が原盤(1)上の水内に位置させ、この鏡筒(8)内に
気体流入口(8a)より毎分1000ccのクリーン窒素を流入
すると共にレーザー光発生装置(4)よりのレーザー光
をこの鏡筒(8)内を通して原盤(1)に照射し、0次
光検出器(5)により検出を行う。
像するときは第1図に示す如く、原盤(1)をワークテ
ーブルにセットし、ケーブルを回転して、この原盤
(1)を回転し、初め水をこの原盤(1)上に散布する
と共に鏡筒(8)を所定位置即ちこの鏡筒(8)の一端
が原盤(1)上の水内に位置させ、この鏡筒(8)内に
気体流入口(8a)より毎分1000ccのクリーン窒素を流入
すると共にレーザー光発生装置(4)よりのレーザー光
をこの鏡筒(8)内を通して原盤(1)に照射し、0次
光検出器(5)により検出を行う。
このときコンピュータに於いてはこの0次光検出器
(5)よりの検出レベル例えば243mVを初期値I(0)R
efとして取り込み、これを基準値例えば260mVと比較
し、この比即ち基準値例えば260mV÷初期値243mV=1.07
を算出し、これにより1次光検出器(6)の検出レベル
による現像液停止レベルを算出する。本例に於いては設
定停止レベルを70mVとしているので、これを初期値によ
り補正し、実際の現像液停止レベルを例えば、70mV÷1.
07=65.4mとし、これに1次光検出器(6)のオフセッ
トレベル例えば1.5mVを加算し、この停止レベルを65.4m
V+1.5mV=66.9mVとする。
(5)よりの検出レベル例えば243mVを初期値I(0)R
efとして取り込み、これを基準値例えば260mVと比較
し、この比即ち基準値例えば260mV÷初期値243mV=1.07
を算出し、これにより1次光検出器(6)の検出レベル
による現像液停止レベルを算出する。本例に於いては設
定停止レベルを70mVとしているので、これを初期値によ
り補正し、実際の現像液停止レベルを例えば、70mV÷1.
07=65.4mとし、これに1次光検出器(6)のオフセッ
トレベル例えば1.5mVを加算し、この停止レベルを65.4m
V+1.5mV=66.9mVとする。
次に水を除去し、現像液(2)を原盤(1)上に散布
する。このときは1次光検出器(6)の検出レベルを1
秒間に3サンプリングする。この1秒間の3サンプルが
現像液停止レベル例えば66.9mVを越えるかどうかを観測
し、この3サンプルがこの停止レベルを越えたときに現
像液(2)の散布を停止し、その後水を散布して水洗
し、その後乾燥して現像を終了する。
する。このときは1次光検出器(6)の検出レベルを1
秒間に3サンプリングする。この1秒間の3サンプルが
現像液停止レベル例えば66.9mVを越えるかどうかを観測
し、この3サンプルがこの停止レベルを越えたときに現
像液(2)の散布を停止し、その後水を散布して水洗
し、その後乾燥して現像を終了する。
本例は上述の如く鏡筒(8)の気体流入口(8a)より
送出されたクリーン窒素がこの鏡筒(8)の一端より流
出するので、この気体圧より現像液(2)のレーザー光
が通過する部分の液面を押えることができ、この部分の
液面が平坦となると共に気体圧によりこの現像液(2)
の液面を押えるのでこの部分における気泡の影響がなく
なり、原盤(1)の被現像体であるホストレジスト層
(1b)を介して得られる回折光の1次光検出器(6)の
検出信号は第2図Bに示す如くスパイク状ノイズのない
安定した良好なものとなり現像液停止レベルを良好に検
出できこの原盤(1)のホトレジスト層(1b)の現像精
度を向上すると共にこの現像精度の安定化を図ることが
できる利益がある。また第2図Aは0次光検出器(5)
の0次光検出信号の特性である。
送出されたクリーン窒素がこの鏡筒(8)の一端より流
出するので、この気体圧より現像液(2)のレーザー光
が通過する部分の液面を押えることができ、この部分の
液面が平坦となると共に気体圧によりこの現像液(2)
の液面を押えるのでこの部分における気泡の影響がなく
なり、原盤(1)の被現像体であるホストレジスト層
(1b)を介して得られる回折光の1次光検出器(6)の
検出信号は第2図Bに示す如くスパイク状ノイズのない
安定した良好なものとなり現像液停止レベルを良好に検
出できこの原盤(1)のホトレジスト層(1b)の現像精
度を向上すると共にこの現像精度の安定化を図ることが
できる利益がある。また第2図Aは0次光検出器(5)
の0次光検出信号の特性である。
向上述実施例に於いてはクリーン窒素を使用したが、
この代りに空気、その他の不活性気体が使用できること
は勿論である。また本発明は上述実施例に限ることな
く、本発明の要旨を逸脱することなくその他種々の構成
が取り得ることは勿論である。
この代りに空気、その他の不活性気体が使用できること
は勿論である。また本発明は上述実施例に限ることな
く、本発明の要旨を逸脱することなくその他種々の構成
が取り得ることは勿論である。
本発明に依れば現像精度を向上すると共にこの現像精
度の安定化を図ることができる利益がある。
度の安定化を図ることができる利益がある。
第1図は本発明現像装置の一実施例を示す略線的構成
図、第2図は本発明の説明に供する線図、第3図は従来
の現像装置の例を示す略線的構成図、第4図は第3図の
説明に供する線図である。 (1)は原盤、(1a)はガラス円板、(1b)はホトレジ
スト層、(2)は現像液、(4)はレーザー光発生装
置、(5)は0次光検出器、(6)は1次光検出器、
(8)は鏡筒、(8a)は気体流入口、(9)は透明ガラ
ス、(10)は気体送出装置である。
図、第2図は本発明の説明に供する線図、第3図は従来
の現像装置の例を示す略線的構成図、第4図は第3図の
説明に供する線図である。 (1)は原盤、(1a)はガラス円板、(1b)はホトレジ
スト層、(2)は現像液、(4)はレーザー光発生装
置、(5)は0次光検出器、(6)は1次光検出器、
(8)は鏡筒、(8a)は気体流入口、(9)は透明ガラ
ス、(10)は気体送出装置である。
Claims (1)
- 【請求項1】被現像体上の現像液中に一端が位置する如
くなされると共に他端を透明体にて密閉された鏡筒と、 該鏡筒に設けられた気体流入口を介して上記鏡筒内に気
体を流入する気体送出手段と、 上記鏡筒の他端の透明体を介して上記鏡筒内に入射され
ると共に上記被現像体に向かって出射されるモニター光
を送出するモニター光送出手段と、 上記モニター光が上記被現像体にて回折された回折光を
観測し、その観測結果に基いて上記現像液を上記被現像
体上より除去する現像液除去手段とを具備したことを特
徴とする現像装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17359689A JP2861073B2 (ja) | 1989-07-05 | 1989-07-05 | 現像装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP17359689A JP2861073B2 (ja) | 1989-07-05 | 1989-07-05 | 現像装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPH0338648A JPH0338648A (ja) | 1991-02-19 |
JP2861073B2 true JP2861073B2 (ja) | 1999-02-24 |
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ID=15963531
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP17359689A Expired - Fee Related JP2861073B2 (ja) | 1989-07-05 | 1989-07-05 | 現像装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2861073B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB9307239D0 (en) * | 1993-04-07 | 1993-06-02 | Nimbus Communications Int Ltd | Method and apparatus for process control |
-
1989
- 1989-07-05 JP JP17359689A patent/JP2861073B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0338648A (ja) | 1991-02-19 |
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