JPS6367550A - 情報記録原盤の欠陥検査装置 - Google Patents
情報記録原盤の欠陥検査装置Info
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- JPS6367550A JPS6367550A JP21334686A JP21334686A JPS6367550A JP S6367550 A JPS6367550 A JP S6367550A JP 21334686 A JP21334686 A JP 21334686A JP 21334686 A JP21334686 A JP 21334686A JP S6367550 A JPS6367550 A JP S6367550A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/9506—Optical discs
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- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
炎五匁1
本発明は、ガラス原盤やレジスト原盤等の情報記録原盤
の欠陥検査装置に関する。
の欠陥検査装置に関する。
1且且韮
映像や音声情報等をディスク(円盤)状の記録媒体に記
録する方式として光学り式がある。この光学方式は、基
板となるガラス原盤の盤面上にフォトレジストを塗布し
レジスト膜を形成することによってレジスト原盤を作成
し、このレジスト原盤のレジスト膜に微小な点に集光し
たレーザビームを映像や音声情報等に応じて明滅させる
いわゆるピットバイピット方式で照OA感光させ、しか
る後これを現像して得られるピット(へこみ)の長さ及
びその繰返し周期により情報を記録するものである。
録する方式として光学り式がある。この光学方式は、基
板となるガラス原盤の盤面上にフォトレジストを塗布し
レジスト膜を形成することによってレジスト原盤を作成
し、このレジスト原盤のレジスト膜に微小な点に集光し
たレーザビームを映像や音声情報等に応じて明滅させる
いわゆるピットバイピット方式で照OA感光させ、しか
る後これを現像して得られるピット(へこみ)の長さ及
びその繰返し周期により情報を記録するものである。
ところで、光ディスクの場合、通常ドロップアウトと称
される信号の欠落は1敵であり、このためレジスト原盤
の作成段階において、ドロップアウドの要因となる原盤
の盤面上におけるホコリや個等の欠陥の有無を検査して
おく必要がある。
される信号の欠落は1敵であり、このためレジスト原盤
の作成段階において、ドロップアウドの要因となる原盤
の盤面上におけるホコリや個等の欠陥の有無を検査して
おく必要がある。
この欠陥検査は、原盤を回転駆動しつつその半径方向に
おいて移動自在な検出手段により盤面上の欠陥を検出す
ると共に、該検出手段の半径位置(R)情報及び原盤の
角度(θ)情報を得、これら情報に基づいて欠陥検出位
置の原盤上の位置情報を得ることにより行なわれる。こ
の際、検出された原盤上の欠陥部分のR−0分布と実際
の原盤上の分布との対応をとる必要があり、そのために
は周方向の原点を一致させなければならない。
おいて移動自在な検出手段により盤面上の欠陥を検出す
ると共に、該検出手段の半径位置(R)情報及び原盤の
角度(θ)情報を得、これら情報に基づいて欠陥検出位
置の原盤上の位置情報を得ることにより行なわれる。こ
の際、検出された原盤上の欠陥部分のR−0分布と実際
の原盤上の分布との対応をとる必要があり、そのために
は周方向の原点を一致させなければならない。
従来は、例えば原盤に付されている識別番号等を基準位
置とすることにより、周方向の原点を一致させる方法が
採られていたが、この方法では、検出された原盤上の欠
陥部分のR−0分布と実際の原盤上の分布とを正確に対
応させることは困難であった。
置とすることにより、周方向の原点を一致させる方法が
採られていたが、この方法では、検出された原盤上の欠
陥部分のR−0分布と実際の原盤上の分布とを正確に対
応させることは困難であった。
l且五11
本発明は、上記のような従来のものの欠点を除去すべく
なされたもので、検出された原盤上の欠陥部分のR−0
分布と実際の原盤上の分布とを正確に対応させ得る情報
記録原盤の欠陥検査装置を提供することを目的とする。
なされたもので、検出された原盤上の欠陥部分のR−0
分布と実際の原盤上の分布とを正確に対応させ得る情報
記録原盤の欠陥検査装置を提供することを目的とする。
本発明による情報記録原盤の欠陥検査装置は、欠陥検査
に先立って原盤上の情報記録領域外の部分に、原盤を回
転駆動するスピンドルモータの1回転毎に発生されるパ
ルスに同期して基準位置マークを付与する手段を備えた
構成となっている。
に先立って原盤上の情報記録領域外の部分に、原盤を回
転駆動するスピンドルモータの1回転毎に発生されるパ
ルスに同期して基準位置マークを付与する手段を備えた
構成となっている。
笈−豊−1
以下、本発明の実施例を図に基づいて詳細に説明する。
第1図は、本発明の一実施例を示す構成図である。図に
おいて、情報記録原盤である例えばレジスト原盤1はク
ーンテーブル2により担持され、スピンドルモータ3に
よって回転駆動される。レジスト原盤1の上方には、当
該原盤の盤面上の欠陥の検査を例えば光学的に行なう光
学ヘッド4が設けられている。この光学ヘッド4はレジ
スト原511の半径方向に延在する螺旋軸5に図示せぬ
部材を介して螺合しており、当該軸が回転することによ
りその回転方向に応じた方向に移動する。螺旋軸4は送
りモータ6によって回転駆動される。
おいて、情報記録原盤である例えばレジスト原盤1はク
ーンテーブル2により担持され、スピンドルモータ3に
よって回転駆動される。レジスト原盤1の上方には、当
該原盤の盤面上の欠陥の検査を例えば光学的に行なう光
学ヘッド4が設けられている。この光学ヘッド4はレジ
スト原511の半径方向に延在する螺旋軸5に図示せぬ
部材を介して螺合しており、当該軸が回転することによ
りその回転方向に応じた方向に移動する。螺旋軸4は送
りモータ6によって回転駆動される。
光学ヘッド4の移動半径位置を検出する半径位置検出器
7が設けられており、当該検出器は光学ヘッド4の移動
半径位置に応じた半径位置情報をモータ制御回路8に供
給する。この半径位置検出器7としては、例えば光学ヘ
ッド4の移動に伴って抵抗値が変化する可変抵抗器等の
周知の手段を用い得る。
7が設けられており、当該検出器は光学ヘッド4の移動
半径位置に応じた半径位置情報をモータ制御回路8に供
給する。この半径位置検出器7としては、例えば光学ヘ
ッド4の移動に伴って抵抗値が変化する可変抵抗器等の
周知の手段を用い得る。
スピンドルモータ3の回転に同期して一定間隔で連続し
てパルスを発生するパルス発生器9が設けられており、
このパルス発生器9はスピンドルモータ3の1回転に例
えば1000パルスを発生する。このパルス発生器9と
しては、例えば、周方向に一定のビッヂで配列された1
00011iilのスリット及びこのスリットと対向配
置されたフオトセンザからなる光学的手段等を用い得る
。また、スピンドルモータ3が1回転する毎にパルスを
発生する1回転センサ10が設けられており、この1回
転センサ10としては光フアイバーセンサ等を用い得る
。モータ制御回路8は送りモータ6の回転速度及び回転
方向を制御することにより光学ヘッド4の移動位置を制
御すると共に、半径位置検出器7からの半径位置情報に
基づいて光学ヘッド4の各移動位置におけるレジスト原
盤10線速度が一定となるようにスピンドルモータ3を
CLV (Constant Linear Velo
city)制御する。
てパルスを発生するパルス発生器9が設けられており、
このパルス発生器9はスピンドルモータ3の1回転に例
えば1000パルスを発生する。このパルス発生器9と
しては、例えば、周方向に一定のビッヂで配列された1
00011iilのスリット及びこのスリットと対向配
置されたフオトセンザからなる光学的手段等を用い得る
。また、スピンドルモータ3が1回転する毎にパルスを
発生する1回転センサ10が設けられており、この1回
転センサ10としては光フアイバーセンサ等を用い得る
。モータ制御回路8は送りモータ6の回転速度及び回転
方向を制御することにより光学ヘッド4の移動位置を制
御すると共に、半径位置検出器7からの半径位置情報に
基づいて光学ヘッド4の各移動位置におけるレジスト原
盤10線速度が一定となるようにスピンドルモータ3を
CLV (Constant Linear Velo
city)制御する。
スピンドルモータ3をCLV制御するのは、以下に説明
する理由による。すなわち、第2図に示すように、レジ
スト原盤1の盤面上に内周から外周に亘って半径方向に
一定幅t(mIIl)の引っ掻き傷Aがあるものと仮定
し、原盤の回転数をf(回/5ec)、検査半径(光学
ヘッド4の移動位置半径)をR(mm)とすると、光学
ヘッド4による検査によって得られる検出パルス幅Wは
、 W=t/2πR−f (SeC) となり、原盤の回転数fが一定では、検査半径Rにより
検出パルス幅Wは変化することになる。検査による欠陥
の大きさの基準としてこの検出パルス幅Wを使用するた
めには、一定幅tに対して検出パルス幅Wも一定で出力
されなければならない。
する理由による。すなわち、第2図に示すように、レジ
スト原盤1の盤面上に内周から外周に亘って半径方向に
一定幅t(mIIl)の引っ掻き傷Aがあるものと仮定
し、原盤の回転数をf(回/5ec)、検査半径(光学
ヘッド4の移動位置半径)をR(mm)とすると、光学
ヘッド4による検査によって得られる検出パルス幅Wは
、 W=t/2πR−f (SeC) となり、原盤の回転数fが一定では、検査半径Rにより
検出パルス幅Wは変化することになる。検査による欠陥
の大きさの基準としてこの検出パルス幅Wを使用するた
めには、一定幅tに対して検出パルス幅Wも一定で出力
されなければならない。
よッテ、2πR−f=V (tallり ヲ一定トシC
検査する必要がある。CLV制御で検査するとは、f−
に/R(K:ある定数) とすることで、これにより W−t/2πに となり、傷の幅tと検出パルス幅Wとは検査半径Rに関
係なく比例することになる。
検査する必要がある。CLV制御で検査するとは、f−
に/R(K:ある定数) とすることで、これにより W−t/2πに となり、傷の幅tと検出パルス幅Wとは検査半径Rに関
係なく比例することになる。
次に、レジスト原盤1の盤面上の欠陥検査を光学的に行
なう光学ヘッド4の具体的な構成について第3図に基づ
いて説明するに、レーザ光rA11から発せられるレー
ザ光はミラー12で反射され、ダイパージングレンズ1
3、ビームスプリッタ14及びλ/4板15を経て対物
レンズ16に入射し、この対物レンズ16によって収束
されて微小スポットとしてレジスト原盤1の盤面上に垂
直に照射される。対物レンズ16はフォーカスアクチュ
エータ17によってその光軸方向に駆動される構成とな
っている。このフォーカスアクチュエータ17の摺動動
作によって発生する塵埃がレジスト環5!!1の上に落
下して盤面上を汚染しないように対物レンズ16とレジ
スト原盤1との間にガラスプレート18が設けられてい
る。
なう光学ヘッド4の具体的な構成について第3図に基づ
いて説明するに、レーザ光rA11から発せられるレー
ザ光はミラー12で反射され、ダイパージングレンズ1
3、ビームスプリッタ14及びλ/4板15を経て対物
レンズ16に入射し、この対物レンズ16によって収束
されて微小スポットとしてレジスト原盤1の盤面上に垂
直に照射される。対物レンズ16はフォーカスアクチュ
エータ17によってその光軸方向に駆動される構成とな
っている。このフォーカスアクチュエータ17の摺動動
作によって発生する塵埃がレジスト環5!!1の上に落
下して盤面上を汚染しないように対物レンズ16とレジ
スト原盤1との間にガラスプレート18が設けられてい
る。
レジスト原盤1の盤面で反射したレーザ光はガラスプレ
ート18、対物レンズ16及びλ/4板15を経てビー
ムスプリッタ14に入射し、このビームスプリッタ14
によって!IG直に反射される。
ート18、対物レンズ16及びλ/4板15を経てビー
ムスプリッタ14に入射し、このビームスプリッタ14
によって!IG直に反射される。
この反射されたレーザ光はλ/2板19を介してビーム
スプリッタ20に入射し、このビームスプリッタ20に
よってフォーカスエラー検出用のレーザ光と欠陥検出用
のレーザ光とに分離される。
スプリッタ20に入射し、このビームスプリッタ20に
よってフォーカスエラー検出用のレーザ光と欠陥検出用
のレーザ光とに分離される。
フォーカスエラー検出用のレーザ光はシリンドリカルレ
ンズ21を経て受光面が4分割されたいわゆる4分割フ
ォトディテクタ22に入射する。この4分割フォトディ
テクタ22は各受光面の受光量に応じたレベルの出力を
発生し、フォーカス制御回路23に供給する。フォーカ
ス制御回路23は4分割ディテクタ22の4つの出力に
基づいてフォーカスエラー信号を生成し、このエラー信
号が常に零になるようにレジスト原盤1に対する対物レ
ンズ16の高さ位置を制御する。このフォーカスエラー
信号の検出方法はいわゆる非点収差法によるものであり
、光学式ディスク再生装置の分野では周知の検出方法で
ある。
ンズ21を経て受光面が4分割されたいわゆる4分割フ
ォトディテクタ22に入射する。この4分割フォトディ
テクタ22は各受光面の受光量に応じたレベルの出力を
発生し、フォーカス制御回路23に供給する。フォーカ
ス制御回路23は4分割ディテクタ22の4つの出力に
基づいてフォーカスエラー信号を生成し、このエラー信
号が常に零になるようにレジスト原盤1に対する対物レ
ンズ16の高さ位置を制御する。このフォーカスエラー
信号の検出方法はいわゆる非点収差法によるものであり
、光学式ディスク再生装置の分野では周知の検出方法で
ある。
ビームスプリッタ20で分離された欠陥検出用のレーザ
光は例えばPINフォトダイオード24に入射し、この
フォトダイオード24でその光間に応じた電気信号に変
換されて欠陥検出回路25に供給される。PINフォト
ダイオード24の出力信号はレジスト原盤1の盤面上に
傷等の欠陥が存在すると第4図(a)に示すように部分
的に信号レベルが低下するので、欠陥検出回路25にお
いて所定のスレッショールドレベルvthを設定するこ
とにより、第4図(b)に示す如き欠陥検出パルスを得
ることができる。この検出パルスのパルス幅Wは先述し
たように欠陥部分の幅tに対応しており、このパルス幅
から欠陥部分の大きさを判別できることになる。
光は例えばPINフォトダイオード24に入射し、この
フォトダイオード24でその光間に応じた電気信号に変
換されて欠陥検出回路25に供給される。PINフォト
ダイオード24の出力信号はレジスト原盤1の盤面上に
傷等の欠陥が存在すると第4図(a)に示すように部分
的に信号レベルが低下するので、欠陥検出回路25にお
いて所定のスレッショールドレベルvthを設定するこ
とにより、第4図(b)に示す如き欠陥検出パルスを得
ることができる。この検出パルスのパルス幅Wは先述し
たように欠陥部分の幅tに対応しており、このパルス幅
から欠陥部分の大きさを判別できることになる。
再び第1図において、スピンドルモータ3の回転に同期
してパルス発生器9から3!!!続して発生されるパル
スはカウンタ26でカウントされる。このカウンタ26
はスピンドルモータ3が1回転する毎に1回転センザ1
0から発生される1回転パルスでリセットされる。カウ
ンタ26のカウント値はD/A (ディジタル/アナロ
グ)変換器27でのこぎり波信号に変換される。このの
こぎり波信号はその信号レベルが1回転するレジスト原
盤1の基準位置からの周方向における位置対応した角度
(θ)情報として1回転毎にオシロスコープ28のX軸
に印加される。オシロスコープ28のY軸には半径位置
検出器7からの半径位置(R)情報が印加され、更にそ
のZ軸には欠陥検出回路25からの欠陥検出パルスがl
!f度情報として印加される。これにより、オシロスコ
ープ28のブラウン管上には、レジストasiの盤面上
に欠陥部分があった場合、原盤1の1回転毎にその欠陥
部分の原51Jl上の位置が角度をX軸、半径位置をY
軸とし、欠陥検出パルスのパルス幅で表わされる欠陥部
分の大きさを輝度変化とするR−0分布として表示され
る。
してパルス発生器9から3!!!続して発生されるパル
スはカウンタ26でカウントされる。このカウンタ26
はスピンドルモータ3が1回転する毎に1回転センザ1
0から発生される1回転パルスでリセットされる。カウ
ンタ26のカウント値はD/A (ディジタル/アナロ
グ)変換器27でのこぎり波信号に変換される。このの
こぎり波信号はその信号レベルが1回転するレジスト原
盤1の基準位置からの周方向における位置対応した角度
(θ)情報として1回転毎にオシロスコープ28のX軸
に印加される。オシロスコープ28のY軸には半径位置
検出器7からの半径位置(R)情報が印加され、更にそ
のZ軸には欠陥検出回路25からの欠陥検出パルスがl
!f度情報として印加される。これにより、オシロスコ
ープ28のブラウン管上には、レジストasiの盤面上
に欠陥部分があった場合、原盤1の1回転毎にその欠陥
部分の原51Jl上の位置が角度をX軸、半径位置をY
軸とし、欠陥検出パルスのパルス幅で表わされる欠陥部
分の大きさを輝度変化とするR−0分布として表示され
る。
また、検出された原盤1上の欠陥部分のR−6分布と実
際の原盤1上の分布との対応をとるために、欠陥検査に
先立って1回転センサ10から発生される1回転パルス
に同期してレジスト原!181上に基準位置マークを付
与するマーキング装置29が設けられている。この基準
位置マークは記録情報に影響を及ぼさないように情報記
録領域外の部分、例えば内周方向から欠陥検査が行なわ
れる場合には情報記録領域よりも内側に付与される。
際の原盤1上の分布との対応をとるために、欠陥検査に
先立って1回転センサ10から発生される1回転パルス
に同期してレジスト原!181上に基準位置マークを付
与するマーキング装置29が設けられている。この基準
位置マークは記録情報に影響を及ぼさないように情報記
録領域外の部分、例えば内周方向から欠陥検査が行なわ
れる場合には情報記録領域よりも内側に付与される。
マーキング装!29によるマーキング方法としては、例
えば、フォトレジストの感光域内の波長を含んだレーザ
光をレジスト原盤1の盤面上に照射して潜像マークを付
与する方法が考えられる。この潜像マークは現像して始
めて?J[可能なマークである。また、他のマーキング
方法としては、光の熱エネルギーによるバブル形成、メ
カニカルによる凹凸形成等、フォトレジストの幾何学的
形状を変化させる方法等が考えられる。
えば、フォトレジストの感光域内の波長を含んだレーザ
光をレジスト原盤1の盤面上に照射して潜像マークを付
与する方法が考えられる。この潜像マークは現像して始
めて?J[可能なマークである。また、他のマーキング
方法としては、光の熱エネルギーによるバブル形成、メ
カニカルによる凹凸形成等、フォトレジストの幾何学的
形状を変化させる方法等が考えられる。
このように、欠陥検査に先立ってレジスト原盤1の盤面
に1回転パルスに同期して基準位置マークを付与し、こ
の位置から欠陥検査を開始することにより、原盤1の周
方向の原点を一致させることができるので、検出された
@盤1上の欠陥部分のR−6分布と実際の原盤1上の分
布とを正確に対応させることができるのである。付され
た基準位置マークは、欠陥検査の他、各工程における汚
染管理や検査の基準点として有効に利用することができ
る。
に1回転パルスに同期して基準位置マークを付与し、こ
の位置から欠陥検査を開始することにより、原盤1の周
方向の原点を一致させることができるので、検出された
@盤1上の欠陥部分のR−6分布と実際の原盤1上の分
布とを正確に対応させることができるのである。付され
た基準位置マークは、欠陥検査の他、各工程における汚
染管理や検査の基準点として有効に利用することができ
る。
なお、上記実施例では、レジスト原盤の欠陥検査に適用
した場合について説明したが、これに限定されるもので
はなく、ガラス原盤の欠陥検査にも連用し得るものであ
る。この場合、マーキング装置29によるマーキング方
法としては、潜像マークの付与やバブル形成の方法は採
用できないので、メカニカルによる凹凸形成等ガラス原
盤の盤面の幾何学的形状を変化させる方法が主として採
られることになる。
した場合について説明したが、これに限定されるもので
はなく、ガラス原盤の欠陥検査にも連用し得るものであ
る。この場合、マーキング装置29によるマーキング方
法としては、潜像マークの付与やバブル形成の方法は採
用できないので、メカニカルによる凹凸形成等ガラス原
盤の盤面の幾何学的形状を変化させる方法が主として採
られることになる。
及豆皮皇I
以上説明したように、本発明による情報記録原盤の欠陥
検査装置においては、原盤の盤面にスピンドルモータの
1回転毎に発生されるパルスに同期して基準位置マーク
を付与し、この位置から欠陥検査を開始する構成となっ
ているので、検出された原盤上の欠陥部分のR−6分布
と実際の原盤上の分布とを正確に対応させることができ
る。
検査装置においては、原盤の盤面にスピンドルモータの
1回転毎に発生されるパルスに同期して基準位置マーク
を付与し、この位置から欠陥検査を開始する構成となっ
ているので、検出された原盤上の欠陥部分のR−6分布
と実際の原盤上の分布とを正確に対応させることができ
る。
第1図は本発明の一実施例を示す構成図、第2図はレジ
スト原盤の盤面上に引っ掻き傷がある場合を示す図、第
3図は第1図に゛おける光学ヘッドの内部構成の具体例
を示す構成図、第4図は第3図におけるPINフォトダ
イオード24の出力信号(a)及び欠陥検出回路25の
検出パルス(b)の波形図である。 主要部分の符号の説明 1・・・・・・レジスト原盤 3・・・・・・スピンドルモータ 4・・・・・・光学
ヘッド7・・・・・・半径位置検出器 9・・・・・
・パルス発生器10・・・・・・1回転センサ 11
・・・・・・レーザ光源14.20・・・・・・ビーム
スプリッタ15・・・・・・λ/4板 19・・
・・・・λ/2板22・・・・・・4分割フォトディテ
クタ24・・・・・・PINフォトダイオード25・・
・・・・欠陥検出回路
スト原盤の盤面上に引っ掻き傷がある場合を示す図、第
3図は第1図に゛おける光学ヘッドの内部構成の具体例
を示す構成図、第4図は第3図におけるPINフォトダ
イオード24の出力信号(a)及び欠陥検出回路25の
検出パルス(b)の波形図である。 主要部分の符号の説明 1・・・・・・レジスト原盤 3・・・・・・スピンドルモータ 4・・・・・・光学
ヘッド7・・・・・・半径位置検出器 9・・・・・
・パルス発生器10・・・・・・1回転センサ 11
・・・・・・レーザ光源14.20・・・・・・ビーム
スプリッタ15・・・・・・λ/4板 19・・
・・・・λ/2板22・・・・・・4分割フォトディテ
クタ24・・・・・・PINフォトダイオード25・・
・・・・欠陥検出回路
Claims (1)
- 情報記録原盤を回転駆動するスピンドルモータと、前記
原盤の半径方向において移動しつつ前記原盤の盤面上の
欠陥を検出する検出手段と、前記検出手段の前記原盤の
半径方向における移動位置を検出して半径位置情報を出
力する手段と、前記スピンドルモータが1回転する毎に
1回転パルスを発生する手段と、前記1回転パルスに同
期して前記原盤の周方向における位置情報を前記原盤の
1回転毎の角度情報として出力する手段とを含み、前記
半径位置情報及び前記角度情報に基づいて前記検出手段
による欠陥検出位置の前記原盤上の位置情報を得る情報
記録原盤の欠陥検査装置であつて、欠陥検査に先立って
前記原盤上の情報記録領域外の部分に前記1回転パルス
に同期して基準位置マークを付与する手段を備えたこと
を特徴とする情報記録原盤の欠陥検査装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21334686A JPS6367550A (ja) | 1986-09-10 | 1986-09-10 | 情報記録原盤の欠陥検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21334686A JPS6367550A (ja) | 1986-09-10 | 1986-09-10 | 情報記録原盤の欠陥検査装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6367550A true JPS6367550A (ja) | 1988-03-26 |
JPH0580983B2 JPH0580983B2 (ja) | 1993-11-11 |
Family
ID=16637634
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21334686A Granted JPS6367550A (ja) | 1986-09-10 | 1986-09-10 | 情報記録原盤の欠陥検査装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6367550A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01262445A (ja) * | 1988-04-13 | 1989-10-19 | Toshiba Corp | 表面検査装置 |
JPH0283404A (ja) * | 1988-09-21 | 1990-03-23 | Anritsu Corp | 平坦度測定方法 |
EP1026668A1 (de) * | 1999-02-04 | 2000-08-09 | Basler Aktiengesellschaft | Verfahren zum Prüfen von rotationssymmetrischen Gegenständen |
JP2011106815A (ja) * | 2009-11-12 | 2011-06-02 | Arc Harima Kk | 表面検査方法および表面検査装置 |
JP2014010001A (ja) * | 2012-06-28 | 2014-01-20 | Ohbayashi Corp | 表面粗さ計測装置及び計測方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55103854U (ja) * | 1979-01-10 | 1980-07-19 | ||
JPS57161641A (en) * | 1981-03-31 | 1982-10-05 | Olympus Optical Co Ltd | Inspecting device for defect of surface |
-
1986
- 1986-09-10 JP JP21334686A patent/JPS6367550A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55103854U (ja) * | 1979-01-10 | 1980-07-19 | ||
JPS57161641A (en) * | 1981-03-31 | 1982-10-05 | Olympus Optical Co Ltd | Inspecting device for defect of surface |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01262445A (ja) * | 1988-04-13 | 1989-10-19 | Toshiba Corp | 表面検査装置 |
JPH0283404A (ja) * | 1988-09-21 | 1990-03-23 | Anritsu Corp | 平坦度測定方法 |
EP1026668A1 (de) * | 1999-02-04 | 2000-08-09 | Basler Aktiengesellschaft | Verfahren zum Prüfen von rotationssymmetrischen Gegenständen |
JP2011106815A (ja) * | 2009-11-12 | 2011-06-02 | Arc Harima Kk | 表面検査方法および表面検査装置 |
JP2014010001A (ja) * | 2012-06-28 | 2014-01-20 | Ohbayashi Corp | 表面粗さ計測装置及び計測方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0580983B2 (ja) | 1993-11-11 |
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Legal Events
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---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |