JPS61236050A - 光デイスク基板欠陥検査装置 - Google Patents
光デイスク基板欠陥検査装置Info
- Publication number
- JPS61236050A JPS61236050A JP7714685A JP7714685A JPS61236050A JP S61236050 A JPS61236050 A JP S61236050A JP 7714685 A JP7714685 A JP 7714685A JP 7714685 A JP7714685 A JP 7714685A JP S61236050 A JPS61236050 A JP S61236050A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical disk
- disk substrate
- output
- detector
- defect
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Optical Recording Or Reproduction (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は光ディスク基板の欠陥を検出する光ディスク基
板欠陥検査装置に関する。
板欠陥検査装置に関する。
一般に、光ディスク基板はアクリルやポリカーボネート
等のプラスチック又はガラスでできており、その表面に
は信号又は案内溝が形成されている。この光ディスク基
板は信号又は案内溝をスタンパと言われる金型上に作り
だすマスタリング工程とこのスタンパのパターンをプラ
スチック又はガラス表面に形成する複製工程からつくら
れる。
等のプラスチック又はガラスでできており、その表面に
は信号又は案内溝が形成されている。この光ディスク基
板は信号又は案内溝をスタンパと言われる金型上に作り
だすマスタリング工程とこのスタンパのパターンをプラ
スチック又はガラス表面に形成する複製工程からつくら
れる。
マスタリング工程では空気中に浮遊しているゴミやチリ
が付着してパターンが正しく形成されなかったり、工程
で使用するガラス基板の傷がパターン面に残ってしまう
ことが光ディスク基板表面上に欠陥を生じる原因となっ
ている。
が付着してパターンが正しく形成されなかったり、工程
で使用するガラス基板の傷がパターン面に残ってしまう
ことが光ディスク基板表面上に欠陥を生じる原因となっ
ている。
一方複製工程では、樹脂材料中に含まれている異物や樹
脂成形技術の不良のために樹脂の一部が炭化したものが
光ディスク基板の中へ混入したり、気泡が発生したりし
て光ディスク基板内部の欠陥を生じる場合がある。
脂成形技術の不良のために樹脂の一部が炭化したものが
光ディスク基板の中へ混入したり、気泡が発生したりし
て光ディスク基板内部の欠陥を生じる場合がある。
光ディスク基板での信号又は案内溝は巾０．５〜１．０
μｍピッチ１．５〜３．０μｍ、深さ０．０５〜０．１
２μｍと極めて微小な寸法であるため、光ディスク基板
の微小な欠陥でも問題となってくる。
μｍピッチ１．５〜３．０μｍ、深さ０．０５〜０．１
２μｍと極めて微小な寸法であるため、光ディスク基板
の微小な欠陥でも問題となってくる。
また、光ディスク装置では情報の記録再生するときには
レーザ光は光ディスク基板の記碌面とは反対側から照射
される、すなわち光ディスク基板の内部を透過して情報
を読み取るので、光ディスク基板内部の欠陥も重要な問
題となる。
レーザ光は光ディスク基板の記碌面とは反対側から照射
される、すなわち光ディスク基板の内部を透過して情報
を読み取るので、光ディスク基板内部の欠陥も重要な問
題となる。
従来の光ディスク基板の欠陥を検査する技術は、光ディ
スク基板にレーザ光を照射し、その反射回折光を検出し
て光ディスク基板表面上の欠陥を検査する方法がある。
スク基板にレーザ光を照射し、その反射回折光を検出し
て光ディスク基板表面上の欠陥を検査する方法がある。
第２図は、この種の光ディスク基板欠陥検査装置の一例
を示すもので、光ディスク基板１１にある角度をもって
レーザ光を投光し光ディスク基板表面上に周期的に形成
されている信号又は案内溝のために発生する反射１次回
折光を検出器１４で検出するものである。
を示すもので、光ディスク基板１１にある角度をもって
レーザ光を投光し光ディスク基板表面上に周期的に形成
されている信号又は案内溝のために発生する反射１次回
折光を検出器１４で検出するものである。
光ディスク基板の欠陥部分にレーザ光のスポットが照射
された場合、信号又は案内溝の周期的形状が欠陥によっ
てみだれるので反射１次回折光が小さくなり、検出器１
４の出力は低下する。
された場合、信号又は案内溝の周期的形状が欠陥によっ
てみだれるので反射１次回折光が小さくなり、検出器１
４の出力は低下する。
上述した従来の光ディスク基板欠陥検査装置は、光ディ
スク基板の表面上での欠陥を検出することはできるが、
光ディスク基板内部の欠陥を検出することができないと
いう欠点があった。
スク基板の表面上での欠陥を検出することはできるが、
光ディスク基板内部の欠陥を検出することができないと
いう欠点があった。
本発明の光ディスク基板欠陥検査装置は、光ディスク基
板を回転方向と径方叩に摺動可能な移動ステージと前記
光ディスク基板にレーザ光を照射するレーザ光発生源と
前記光ディスク表面で反射回折した反射−次光を検出す
る反射光検出器と前記反射光検出器の出力を微分する微
分回路１と前記光ディスク基板を透過したレーザ光を検
出する透過光検出器と前記透過光検出器の出力を微分す
る微分回路２とを含んで構成されている。
板を回転方向と径方叩に摺動可能な移動ステージと前記
光ディスク基板にレーザ光を照射するレーザ光発生源と
前記光ディスク表面で反射回折した反射−次光を検出す
る反射光検出器と前記反射光検出器の出力を微分する微
分回路１と前記光ディスク基板を透過したレーザ光を検
出する透過光検出器と前記透過光検出器の出力を微分す
る微分回路２とを含んで構成されている。
次に、本発明の実施例について、図面を参照して詳細に
説明する。
説明する。
第１図は、本発明の一実施例である。図において、光デ
ィスク基板ｌはホルダ２に固定され、回転方向と径方向
に摺動可能な移動ステージ３に塔載され、反射１次回折
光を検出する検出器４と透過光を検出する検出器５と各
々の検出器の出方を微分演算する微分回路６，７を含み
構成される。
ィスク基板ｌはホルダ２に固定され、回転方向と径方向
に摺動可能な移動ステージ３に塔載され、反射１次回折
光を検出する検出器４と透過光を検出する検出器５と各
々の検出器の出方を微分演算する微分回路６，７を含み
構成される。
光ディスク基板１のパターン面をレーザ発生源８側にし
てホルダ２に固足し、移動ステージ３を駆動してレーザ
光を光ディスク基板上を走査する。
てホルダ２に固足し、移動ステージ３を駆動してレーザ
光を光ディスク基板上を走査する。
光ディスク基板表面上にはピッチ、溝巾、溝深さが均一
な案内溝やピットが周期的に形成されているのでレーザ
光は回折を生じる。
な案内溝やピットが周期的に形成されているのでレーザ
光は回折を生じる。
第１図に示す欠陥検査装置において、レーザ光のスポッ
トが光ディスク基板」のパターン面上の欠陥部分に照射
された場合は、反射−次光が小さくなり検出器４の出力
に変化を生じる。したがって微分回路６の出力は、反射
１次回折光の強度の変化に対応するピークを示すように
なる。同時に透過光強度にも変化が現われ検出器５の出
方に変化を生じ、微分回路７の出力も前記微分回路６の
出力と同様の変化が現われる。また、光ディスク基板の
パターン面上の欠陥ではなく、光ディスク基板内部の欠
陥にレーザ光が照射された場合、反射１次回折光き与え
る影響はなく透過光の強度には変化が現われる。従って
、検出器４の出力を微分する微分回路６の出力には内部
欠陥の影響が現われてこないが、透過光を検出する検出
器５の出力を微分する微分回路７の出力には欠陥の種類
や大きさに応じたパルスが発生する。よって微分回路６
と微分回路７の出力を同時に観察することによって光デ
ィスク基板内部の欠陥と表面の欠陥を判別することがで
きる。
トが光ディスク基板」のパターン面上の欠陥部分に照射
された場合は、反射−次光が小さくなり検出器４の出力
に変化を生じる。したがって微分回路６の出力は、反射
１次回折光の強度の変化に対応するピークを示すように
なる。同時に透過光強度にも変化が現われ検出器５の出
方に変化を生じ、微分回路７の出力も前記微分回路６の
出力と同様の変化が現われる。また、光ディスク基板の
パターン面上の欠陥ではなく、光ディスク基板内部の欠
陥にレーザ光が照射された場合、反射１次回折光き与え
る影響はなく透過光の強度には変化が現われる。従って
、検出器４の出力を微分する微分回路６の出力には内部
欠陥の影響が現われてこないが、透過光を検出する検出
器５の出力を微分する微分回路７の出力には欠陥の種類
や大きさに応じたパルスが発生する。よって微分回路６
と微分回路７の出力を同時に観察することによって光デ
ィスク基板内部の欠陥と表面の欠陥を判別することがで
きる。
本発明の光ディスク基板欠陥検査装置は以上詳細に説明
したように、反射１次回折光及び透過光をそれぞれ独立
した検出器によって検出し、微分回路で処理すること罠
よって反射１次回折光からは光ディスク基板表面上の欠
陥を検出することができ、透過光からは光ディスク基板
表面と内部の両方の欠陥が検出することができるので、
両者を比較することによって、光ディスク基板表面の欠
陥と内部の欠陥を判別することができ、光ディスク基板
内部の欠陥を検出することができるという効果がある。
したように、反射１次回折光及び透過光をそれぞれ独立
した検出器によって検出し、微分回路で処理すること罠
よって反射１次回折光からは光ディスク基板表面上の欠
陥を検出することができ、透過光からは光ディスク基板
表面と内部の両方の欠陥が検出することができるので、
両者を比較することによって、光ディスク基板表面の欠
陥と内部の欠陥を判別することができ、光ディスク基板
内部の欠陥を検出することができるという効果がある。
第１図は本発明の一実施例を示す概念図、第２図は従来
の光ディスク基板欠陥検査装置の一例を示す概念図であ
る。
の光ディスク基板欠陥検査装置の一例を示す概念図であ
る。
Claims (1)
- 光ディスク基板を固定するホルダと前記光ディスク基
板を回転方向と径方向に摺動可能な移動ステージと前記
光ディスクにレーザ光を照射するレーザ光発生源と、前
記光ディスクの表面で反射回折した一次反射光を検出す
る反射光検出器と、前記反射光検出器の出力を微分する
微分回路１と、前記光ディスクを透過したレーザ光を検
出する透過光検出器と前記透過光検出器の出力を微分す
る微分回路２とを含むことを特徴とする光ディスク基板
欠陥検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7714685A JPS61236050A (ja) | 1985-04-11 | 1985-04-11 | 光デイスク基板欠陥検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7714685A JPS61236050A (ja) | 1985-04-11 | 1985-04-11 | 光デイスク基板欠陥検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61236050A true JPS61236050A (ja) | 1986-10-21 |
Family
ID=13625652
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7714685A Pending JPS61236050A (ja) | 1985-04-11 | 1985-04-11 | 光デイスク基板欠陥検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61236050A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1353165A2 (en) * | 1994-07-13 | 2003-10-15 | KLA-Tencor Corporation | Automated photomask inspection apparatus and method |
| JP2006284409A (ja) * | 2005-04-01 | 2006-10-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 分析ディスク、並びに分析ディスクおよび分析装置の検査方法 |
-
1985
- 1985-04-11 JP JP7714685A patent/JPS61236050A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1353165A2 (en) * | 1994-07-13 | 2003-10-15 | KLA-Tencor Corporation | Automated photomask inspection apparatus and method |
| EP1353165A3 (en) * | 1994-07-13 | 2004-01-28 | KLA-Tencor Corporation | Automated photomask inspection apparatus and method |
| JP2006284409A (ja) * | 2005-04-01 | 2006-10-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 分析ディスク、並びに分析ディスクおよび分析装置の検査方法 |
| JP4525427B2 (ja) * | 2005-04-01 | 2010-08-18 | パナソニック株式会社 | 分析ディスク、並びに分析ディスクおよび分析装置の検査方法 |
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