JPS6327844A - フオトレジスト膜現像方法及びその装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【産業上の利用分野】

本発明は、例えば光学又は静電容量再生方式で再生され
る情報信号記録円盤の製作の為に用いられるフすトレジ
ストＭ’！ｌにおけるフォトレジスト膜の現像方法及び
その装置に関するものである。

【従来技術とその間厘点】

光学又は静電容量再生方式で再生されるピッ）・と称さ
れる微小な四部が渦巻状に形成されている情報信号記録
円盤は、フォトレジスト膜に対して同様なビットが渦巻
状に形成されたフォトレジスト 程を経て複製される。 この情報信号記録円盤の複製の為に用いられるフォトレ
ジスト原盤は、ガラス等の透明な基板の表面に、例えば
２０００人厚程度のフォトレジスト膜を設け、このフォ
トレジスト膜に対してレーザ光を照射してフォトレジス
ト膜を所定のパターンで露光し、この所定のパターンに
露光されたフォト・レジスト膜に現像液を供給して現像
し、この現像液で溶解したフォトレジスト膜の部分を除
去し、この溶解除去された部分がピットとして形成され
るものである。゛ そして、このビットがそもそも情報信号であるから、こ
のピットの形成精度は高いものでなければならない、従
って、レーザ光の照射によって露光されたフォトレジス
ト膜の現像処理は高精度に行なわれなければならない。 このフォトレジスト膜の現像処理を高精度に行なう為の
大きな条件として、露光されたフォトレジスト膜に対し
て供給する現像液の制御が挙げられており、このような
観点から従来より現像液供給ｉ／Ｉ御方決方法々提案さ
れてきている。 例えば、特開昭５８−１４３４３号公報で提案されてい
るように、露光済のフォトレジスト膜の表面に現像液を
流し、露光済のフォトレジスト膜の部分が溶解除去され
てピットが形成される現像工程において、このフォトレ
ジスト膜の上側がらレーザ光を入射させ、そしてフォト
レジスト膜及びガラス基板の下側に配置されたフォトダ
イオードで回折光と０次光とを検出し、この回折光と０
次光との強度比を求め、この強度比が所定の値に至った
場合にフォトレジスト膜の表面に供給する現像液をスト
ップし、現像終了とする方法がある。 しかし、この提案のものでも充分でないことが。 次第に判ってきた。 すなわち、この現像方法における一Ｉ御システムにあっ
ては、現像の進行と共に形成されるビットによって現わ
れる回折光を利用しているものであり、形成するビット
形状により回折光はフォトレジスト膜表面に流れている
現像液によってゆらぐのみならず、この回折光の強度の
大きさがそもそも小さいことにより、少しのゆらぎが及
ぼす影響は必然的に大きなものとなり、従ってこの回折
光を利用しての現像液供給の制御は精度が゛悪く、現像
不足になったり、現像過多になったりする欠点がある。

【問題点を解決する為の手段】

本発明は前記の問題点に濫みてなされたものであり、基
板上のフォトレジスト膜に対して現像液を供給してこの
フォトレジスト膜を現像する工程において、フォトレジ
スト膜と反対側の基板面側から光と入射させ、この入射
させた光のフォトレジスト膜の界面からの反射光を検出
することにより現像液の供給を制御するフォトレジスト
膜現像方法を提供するものである。 又、このフォトレジスト膜現像方法を実施する為、フォ
トレジスト膜を設けた基板の保持手段と、この保持手段
によって保持された基板上のフォトレジスト膜の側に設
けられた現像液供給手段と、前記保持手段によって保持
された基板の基板面側に設けられた光照射手段と、この
光照射手段によって前記保持手段に保持された基板に照
射された光の反射光を検出する検出手段と、この検出手
段の出力信号によって前記現像液供給手段を制御する制
御手段とを備えたフォトレジスト膜現像装置を提供する
ものである。

【実施例】

図面は、本発明に係るフォトレジスト膜現像方法を実施
するための装置の１実施例の概略図である。 同図中、１はフォトレジスト原盤を構成するガラス等か
らなる透明な基板、２はこの基板１上に所定厚設けられ
たフォトレジスト膜であり、このフォトレジストｒｇ４
２は、所定の露光手段によってレーザ光が照射され、所
定のパターンで露光されたものである。 ３は、上記基板１をａ！置することによって保持するこ
とになる保持手段としてのターンテーブル、４はこのタ
ーンテーブル３を回転させるためのモータである。 ５は、上記ターンテーブル３上に置がれな基板１上のフ
ォトレジスト膜２の内周部位置の上側に設けられたノズ
ル、６はこのノズル５に供給される現像液のタンク、７
はノズル５に供給されるイオン交換水のタンクである。 ８は、ターンテーブル３上に置がれな基板１の基板下面
より下側でその外周部より外側に１がれたレーザ光源、
９は、このレーザ光源８より入射し、そしてフォトレジ
ストＷｉ２の界面で反射される反射光を検出する検出手
段としてのフォトダイオードである。 尚、１０は、例えば基板１の下面で反射される光のよう
に、フォトレジスト膜２の界面以外の部分で反射される
余計な反射光と遮蔽し、フォトレジスト膜２の界面での
反射光をフォトダイオード９に導くためのスリットであ
る・ Ｉｌｌは、レーザ光源８よりのレーザ光がフ才）・レジ
スト膜２の界面で反射され、そしてこの反射光を受けた
フォトダイオード９からの出力信号が所定のものに至っ
たか否かを比較する比較回路である。 １２は、この比較回路１１からの出力信号、すなわち反
射光が所定の強度に至ったことな受けることによりタン
ク６からノズル５に供給される現像液の供給を制御する
制御回路である。 上記のようにフォトレジスト膜現像装置を構成させると
、フォトレジスト原盤の現像は次のようにして行なわれ
る。 まず、フォトレジスト膜２が露光済のフォトレジスト原
盤の基板１側をターンテーブル３上に置き、そしてこれ
をモータ４で低速にて回転させつつ、イオン交換水をノ
ルズ５からフォトレジスト膜２上に流し込み、イオン交
換水を全面に行き渡らせてフ才）・レジスｌ−ｖ、２表
面３濡らし、その後タンク６からノルズ５に現像液を徐
々に供給するに反比例してイオン交換水の供給を停止し
、　そして現像液をフォトレジスト膜２表面に流して、
フォトルジスト［２の現像を行なう。 この現像工程に際して、レーザ光源８よりレーザ光を基
板１に対して斜口に入射させ、フオトレジスｌ−ＩＩＩ
　２の界面で反射される反射光を）才ｌ・ダイオード９
で検出する。 このフォトダイオード９による反射光の検出に際して、
フォトレジスト １・レジスト膜２の溶解除去によってビットが形成され
るにつれ、フォトレジスト膜２表面での反射光は散乱し
、反射光は徐々に減少するようになる。 従って、このフォトダイオードって検出される反射光の
強さが基準値に至った時点において、所定の寸法のビッ
トが形成されたことになるから、現像液の供給を停止し
て現像を中止すれば、現像不足や現像過多になることな
く、フォトレジスト膜２の現像が行なわれる。 すなわち、フォトダイオード９で検出される反射光の強
さが基準値に至ると、比較回路１１より所定の信号が出
力され、これによって制御回路１２が作動し、制御回路
１２の出力信号によって現像液のタンク６からノズル５
に供給される現像液の供給が停止され、それと共にイオ
ン交換水のタンク７からノズル５にイオン交換水が供給
され、表面が綺麗に洗浄され、ビットが正確に形成され
たフォトレジスト原盤が得られるようになる。 このようにして得られたフォトレジスト原磐のビット寸
法が正確な理由は、次のような点に基ずいている。 ■　現像液供給の制御が反射光を利用するものであるか
らによる。 すなわち、反射光の光量は回折光に比べると約１桁程度
多いものであり、従って光量にゆらぎがあるとしても、
反射光の絶対量は回折光の絶対ユより大きいことから、
このゆらぎユは回折光を利用する場合よりも相対的に小
さく、よってゆらぎに基すいて起きる大きな欠点（現像
不足又は現像過多）が大巾に解決される。 ■　フォトレジスト膜上にある現像液表面でのレーザ光
の反射属は、現実には極めて小さく、無視できる程度の
ものであり、従って現像液の表面に波があっても、これ
による悪影響はほとんど起きない。

【効果】

本発明に係るフォトレジスト膜現像方法は、基板上のフ
ォトレジスト膜に対して現像液を供給してこのフォトレ
ジスｌ−膜を現像する工程においてフォトレジスト膜と
反対側の基板面側から光を入射させ、この入射させた光
のフォトレジスト界面からの反射光を検出することによ
り現像液の供給を制御するので、例えば回折光を利用し
て現像液の供給を制御する場合よりもその制御を高精度
に行なえ、現像不足及び現像過多といった欠点を大巾に
解決できるようになり、又、この反射光の量は回折光の
量より多いことから検出自体も容易になる特長を有する
。 又、本発明に係るフォトレジスト膜現像装置は、フォト
レジスト膜を設けた基板の保持手段と、この保持手段に
よって保持された基板上のフォトレジスト膜の側に設け
られた現像液供給手段と、前記保持手段によって保持さ
れた基板の基板面側に設けられた光照射手段と、この光
照射手段によって前記保持手段に保持された基板に照射
された光の反射光を検出する検出手段と、この検出手段
の出力信号によって前記現像液供給手段を制御する制御
手段とを備えたので、現像液の制御を高精度に行なえ、
従って現像不足及び現像過多といった欠点を大巾に解決
でき、又、反射光の検出自体も容易であるから検出手段
自体に極めて高性能なものを必要としなくてもすみ、従
ってそれだけ低コストで提供できるものであり、又、従
来の装置と比べて複雑になるものでもなく、簡単に提供
できる等の特長を有する。

【図面の簡単な説明】

図面は、本発明に係るフォトレジスト膜現像方法を実施
するための装置の１実施例を示す概略図である。 １・・・基板、２・・・フォトレジスト膜、３・・・タ
ーンテーブル、４・・・モータ、５・・・ノズル、６・
・・現像液のタンク、７・・・イオン交換水のタンク、
８・・・レーザ光源、９・・・フォトダイオード、１ｏ
・・・スリッＩ・、１１・・・比較回路、１２・・・制
御回路。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）基板上のフォト・レジスト膜に対して現像液を供
   給してこのフォトレジスト膜を現像する工程において、
   フォトレジスト膜と反対側の基板面側から光を入射させ
   、この入射させた光のフォトレジスト膜の界面からの反
   射光を検出することにより現像液の供給を制御すること
   を特徴とするフォトレジスト膜現像方法。
2. （２）フオトレジスト膜を設けた基板の保持手段と、こ
   の保持手段によつて保持された基板上のフォトレジスト
   膜の側に設けられた現像液供給手段と、前記保持手段に
   よって保持された基板の基板面側に設けられた光照射手
   段と、この光照射手段によって前記保持手段に保持され
   た基板に照射された光の反射光を検出する検出手段と、
   この検出手段の出力信号によって前記現像液供給手段を
   制御する制御手段とを備えたことを特徴とするフォトレ
   ジスト膜現像装置。