JPS618751A - ホトレジストの現像装置 - Google Patents
ホトレジストの現像装置Info
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- JPS618751A JPS618751A JP12744484A JP12744484A JPS618751A JP S618751 A JPS618751 A JP S618751A JP 12744484 A JP12744484 A JP 12744484A JP 12744484 A JP12744484 A JP 12744484A JP S618751 A JPS618751 A JP S618751A
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- master
- development
- photoresist
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
- G11B7/261—Preparing a master, e.g. exposing photoresist, electroforming
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、ビデオディスクなどの光学的記録再生装置に
使用する光ディスクの原盤の製作に用いられるホトレジ
スト現像装置に関する。
使用する光ディスクの原盤の製作に用いられるホトレジ
スト現像装置に関する。
光ディスクは、透明な円板状基板に多数の同心トラック
あるいは多数の準同心トラックに分割することができる
１つのら族トラックを有し、これらのトラックは不連続
な凹部（ビット部）あるいは突起部で構成されている。
あるいは多数の準同心トラックに分割することができる
１つのら族トラックを有し、これらのトラックは不連続
な凹部（ビット部）あるいは突起部で構成されている。
光ディスクを再生する場合には、記録媒体であるディス
クを回転させながらその表面のビット部あるいは突起部
からなる光学的パターンにレーザ光を照射し、その光学
的パターンによって変調されたレーザ光を電気信号に変
換してその光学的パターンに対応する情報を再生するも
のである。このディスクを製作するために用いられる原
盤は、 −研摩したガラス基板の表面にポジ型のホ
トレジスト膜を設け、このホトレジスト膜を原盤に記録
すべき情報に応じて断続的に照射されるレーザ光により
前記トラックに対応して不連続的に露光処理され、ホト
レジスト膜の感光した部分は現像液によって溶解除去さ
れ、その跡にピントと称される四部の列が同心またはら
旋状に形成される。光ディスクは、かかるビットを有す
る原盤から、連続的な音溝を有する従来のオーディオデ
ィスクと同様に、複製成形用の型（スタンパ）を製作し
、射出成形等の方法を用いて大量生産される。
クを回転させながらその表面のビット部あるいは突起部
からなる光学的パターンにレーザ光を照射し、その光学
的パターンによって変調されたレーザ光を電気信号に変
換してその光学的パターンに対応する情報を再生するも
のである。このディスクを製作するために用いられる原
盤は、 −研摩したガラス基板の表面にポジ型のホ
トレジスト膜を設け、このホトレジスト膜を原盤に記録
すべき情報に応じて断続的に照射されるレーザ光により
前記トラックに対応して不連続的に露光処理され、ホト
レジスト膜の感光した部分は現像液によって溶解除去さ
れ、その跡にピントと称される四部の列が同心またはら
旋状に形成される。光ディスクは、かかるビットを有す
る原盤から、連続的な音溝を有する従来のオーディオデ
ィスクと同様に、複製成形用の型（スタンパ）を製作し
、射出成形等の方法を用いて大量生産される。
上記現像工程で形成されるビットの寸法はディスク再生
時の性能に密接に関連する寸法である。従って、現像工
程は、このビット寸法（深さおよび幅）が所定範囲内の
寸法となるように管理されなければならない。そのため
、従来は、ホトレジストの感光した部分が現像液に溶解
する化学反応の継続時間すなわち現像時間を、経験から
得られる勘により調節する方法が採られていた。しかし
、かかる化学反応の進行速度は露光の度合、現像液の濃
度および温度等の条件に応じて変化し、現像中に形成さ
れつつある特。
時の性能に密接に関連する寸法である。従って、現像工
程は、このビット寸法（深さおよび幅）が所定範囲内の
寸法となるように管理されなければならない。そのため
、従来は、ホトレジストの感光した部分が現像液に溶解
する化学反応の継続時間すなわち現像時間を、経験から
得られる勘により調節する方法が採られていた。しかし
、かかる化学反応の進行速度は露光の度合、現像液の濃
度および温度等の条件に応じて変化し、現像中に形成さ
れつつある特。
ット深さあるいは幅をモニタすることなく勘によって現
像時間を調節する従来の方法によっては、現像処理が終
わるまではビットの寸法を知ることが出来ない。従って
、現像された原盤のビットの深さあるいは幅にばらつき
が生じる。
像時間を調節する従来の方法によっては、現像処理が終
わるまではビットの寸法を知ることが出来ない。従って
、現像された原盤のビットの深さあるいは幅にばらつき
が生じる。
かかる不具合いを改善するために、第１図に示すごとく
、原盤１を回転させながらホトレジスト膜面上に現像液
４をノズル６よりスプレー状に噴出させることにより現
像を進行させ、ノズルより遠く離れた位置で現像中のビ
ットの寸法をレーザ光の回折現象等を利用した光学的手
法を用いてモニタし、ビット寸法が所定の値になった時
現像処理を停止するよう構成されたホトレジスト現像方
法が提案されている。第１図に示す例では、原盤のピン
トによって生ずるレーザ光の１次回折光がビットの寸法
深さおよび幅に対応して変化し、所定の強度になった時
現像を停止させる。しかし、現像中の１次回折光を安定
に検出することは容易ではない。即ち、原盤表面には順
次現像液が供給され、しかも、原盤が回転しているため
、原盤表面の液面が常に変動しており、第２図に示すご
とく、−次回折光は液面の変動により大きく変化し、本
来の一次回折の強度（第２図における点線）を正確に検
出できない。これを改善するために、１次回折光信号を
カットオフ周波数の低いローパスフ。
、原盤１を回転させながらホトレジスト膜面上に現像液
４をノズル６よりスプレー状に噴出させることにより現
像を進行させ、ノズルより遠く離れた位置で現像中のビ
ットの寸法をレーザ光の回折現象等を利用した光学的手
法を用いてモニタし、ビット寸法が所定の値になった時
現像処理を停止するよう構成されたホトレジスト現像方
法が提案されている。第１図に示す例では、原盤のピン
トによって生ずるレーザ光の１次回折光がビットの寸法
深さおよび幅に対応して変化し、所定の強度になった時
現像を停止させる。しかし、現像中の１次回折光を安定
に検出することは容易ではない。即ち、原盤表面には順
次現像液が供給され、しかも、原盤が回転しているため
、原盤表面の液面が常に変動しており、第２図に示すご
とく、−次回折光は液面の変動により大きく変化し、本
来の一次回折の強度（第２図における点線）を正確に検
出できない。これを改善するために、１次回折光信号を
カットオフ周波数の低いローパスフ。
イルタに通してノイズを除失することが考えられる。し
かし、この方法で充分な安定性を得ることは、−次回折
光の変化に対する追従性を悪くすることであり、このた
め−次回折光をモニ。
かし、この方法で充分な安定性を得ることは、−次回折
光の変化に対する追従性を悪くすることであり、このた
め−次回折光をモニ。
りしても最適な判定を行なうことが困難となる。
その結果、現像後の原盤のビット深さや幅を充分な精度
で管理することが出来ない。
で管理することが出来ない。
以上のごとく、従来技術では光学モニタ方式を採用して
も充分にその効果を得ることが出来。
も充分にその効果を得ることが出来。
ず、現像後の原盤のビット寸法がばらつくという欠点を
有していた。
有していた。
本発明の目的は、上記した従来技術の欠点を改善し、現
像中のビット寸法を光学的に安定してモニタできるホト
レジスト現像装置を提供することにある。
像中のビット寸法を光学的に安定してモニタできるホト
レジスト現像装置を提供することにある。
本発明は、ホトレジスト現像処理中に、回転している原
盤表面の現像液面の変動を抑え、モニタ光が原盤表面を
安定して通過できるように、現像液ノズルから原盤表面
への現像液の供給を層流状にし、原盤表面に接触した現
像液が原盤の回転方向に層流状に流れる領域を設け、こ
の領域にモニタ光を照射することを特徴とするホトレジ
ストの現像装置である。
盤表面の現像液面の変動を抑え、モニタ光が原盤表面を
安定して通過できるように、現像液ノズルから原盤表面
への現像液の供給を層流状にし、原盤表面に接触した現
像液が原盤の回転方向に層流状に流れる領域を設け、こ
の領域にモニタ光を照射することを特徴とするホトレジ
ストの現像装置である。
以下、本発明の実施例を図面を用いて詳細に説明する。
第３図に、本発明の第１の実施例を示す。ホトレジスト
膜に露光処理された原盤１は水平に約３０ Ｏｒｐｍで
回転しており、この表面に口径６ｒＩＬｍの円形ノズル
３から第３図に示すごとく層流状に現像液４を供給する
。この時、現像液は原盤表面で第３図のごとく広がり、
原盤の回転方向に沿ってしばらく層流状に流れ、この領
域では現像液の液面はなめらかで安定している。従って
、この位置にＨａ−Ｎｉｌレーザ光５５を原盤の裏側よ
り照射することにより、原盤表面のホトレジスト膜が現
像されてできるピット列によって回折された１次回折光
は安定した強度と方向を有し、ホトダイオード２０によ
り検出される信号は第４図に示すごとくノイズが少なく
安定している。このため、１次回折光強度が所定の値に
なったかどうかを正確に判定でき、現像処理の停止を適
切に行なうことが可能となる。
膜に露光処理された原盤１は水平に約３０ Ｏｒｐｍで
回転しており、この表面に口径６ｒＩＬｍの円形ノズル
３から第３図に示すごとく層流状に現像液４を供給する
。この時、現像液は原盤表面で第３図のごとく広がり、
原盤の回転方向に沿ってしばらく層流状に流れ、この領
域では現像液の液面はなめらかで安定している。従って
、この位置にＨａ−Ｎｉｌレーザ光５５を原盤の裏側よ
り照射することにより、原盤表面のホトレジスト膜が現
像されてできるピット列によって回折された１次回折光
は安定した強度と方向を有し、ホトダイオード２０によ
り検出される信号は第４図に示すごとくノイズが少なく
安定している。このため、１次回折光強度が所定の値に
なったかどうかを正確に判定でき、現像処理の停止を適
切に行なうことが可能となる。
即ち、ビット寸法の微妙な調整ができ、本発明は原盤の
ビット寸法精度の向上に多大の効果を有する。
ビット寸法精度の向上に多大の効果を有する。
上記第１の実施例において、１本の円形ノズルを用いた
が、直径ｌａｍ光ディスク等の製作に用いられる大形の
原盤（直径３６０ｍ７７Ｌ）を現像する場合には１本の
ノズルでは現像液を均一に供給するのが容易でないため
、第５図に示すごとく、幅約Ｑ、５ｍｍ 、長さ１００
ｒｒＬｒｒＬのスリット出口を有するノズルを用いて現
像液を細長く層流状に借給することにより、原盤のピッ
ト列全域を一様に現像液と接触させることが出来る。こ
の場合も、第１の実施例と同様に、ノズルの近傍で現像
液が層流状に流れる位置にレーザ光５５を照射して一次
回折光をモニタすれば、上記同様、宏。
が、直径ｌａｍ光ディスク等の製作に用いられる大形の
原盤（直径３６０ｍ７７Ｌ）を現像する場合には１本の
ノズルでは現像液を均一に供給するのが容易でないため
、第５図に示すごとく、幅約Ｑ、５ｍｍ 、長さ１００
ｒｒＬｒｒＬのスリット出口を有するノズルを用いて現
像液を細長く層流状に借給することにより、原盤のピッ
ト列全域を一様に現像液と接触させることが出来る。こ
の場合も、第１の実施例と同様に、ノズルの近傍で現像
液が層流状に流れる位置にレーザ光５５を照射して一次
回折光をモニタすれば、上記同様、宏。
定した信号を得ることができ、現像処理の停止を適切に
行なうことが出来る。従って、この場合にも第１の実施
例と同様の効果を得ることができる。
行なうことが出来る。従って、この場合にも第１の実施
例と同様の効果を得ることができる。
また、第３の実施例として、第６図に示すごとく、複数
のノズルを有する現像液供給アーム７により現像液を各
ノズル毎に層流状に流し、任意のノズルの近傍で上記実
施例同様にレーザ光を照射することにより安定した１次
回折光の検出が可能となる。この時、現像液供給アーム
７を揺動させることにより、大型原盤においてもビット
列全域に現像液を一様に供給することが出来、原盤内に
おける現像速度ばらつきに起因するビット寸法ばらつき
を大幅に改善することができる。本実施例は、ノズル形
状の違いがら第２の実施例に比べ現像液の吐出墓奢１／
３以下に低減できる長所がある。第７図は、本実施例に
よる現像装置の概略を示すものである。所定の露光処理
を完了した原盤１を現像チャンバー４５内にあるターン
テーブルに設置し、約１０ｒｐｍで回転させ、８個のノ
ズル（口径的２ｍｍ ）を肴する現像供給アーム７を原
盤表面に沿って揺動させながら毎分的１１の現像液を各
ノズルから層流状に供給する。次に、Ｈｅ Ｈｅレーザ
光を原盤の裏面より１ｔ（射し、レーザ光の照射位置。
のノズルを有する現像液供給アーム７により現像液を各
ノズル毎に層流状に流し、任意のノズルの近傍で上記実
施例同様にレーザ光を照射することにより安定した１次
回折光の検出が可能となる。この時、現像液供給アーム
７を揺動させることにより、大型原盤においてもビット
列全域に現像液を一様に供給することが出来、原盤内に
おける現像速度ばらつきに起因するビット寸法ばらつき
を大幅に改善することができる。本実施例は、ノズル形
状の違いがら第２の実施例に比べ現像液の吐出墓奢１／
３以下に低減できる長所がある。第７図は、本実施例に
よる現像装置の概略を示すものである。所定の露光処理
を完了した原盤１を現像チャンバー４５内にあるターン
テーブルに設置し、約１０ｒｐｍで回転させ、８個のノ
ズル（口径的２ｍｍ ）を肴する現像供給アーム７を原
盤表面に沿って揺動させながら毎分的１１の現像液を各
ノズルから層流状に供給する。次に、Ｈｅ Ｈｅレーザ
光を原盤の裏面より１ｔ（射し、レーザ光の照射位置。
が各７−ズル毎につくられるＩＪｌ像液の層流状の流れ
のどれか１つに入いるように設定する。この時、アーム
が揺動して現像液の流れが変化してもレーザ照射位置は
常に安定した層流状の中にあることが必要である。本実
施例の８個ノズベ。
のどれか１つに入いるように設定する。この時、アーム
が揺動して現像液の流れが変化してもレーザ照射位置は
常に安定した層流状の中にあることが必要である。本実
施例の８個ノズベ。
アームを用いる場合には少数ノズルに比ベアームの揺動
角をかなり小さく（３０°以下）することができるため
、アーム揺動による現像液の流れ変動が小さく、レーザ
照射位置に現像液を層流状で常時流すようにアーム揺動
の方向を設定することは容易である。この様な状態で、
現像が進行し、原盤表面のホトレジスト膜にビットが形
成されてくると、１〜２１ｔｍピッチで配列しているピ
ット列によりレーザ光が回折される。この−次回新党を
ホトダイオード２０で検出し、へ射光５５の強度に対し
て所定の値に達したら自動的に制御回路が働いて現像液
の供給を停止し、現像液の代わりに水を同一のノズルか
ら流して現像を停止させる。この時も、ノズルからノ水
は層流状になるように約１−Ｌ、Ａｎｉｎの流量とする
。
角をかなり小さく（３０°以下）することができるため
、アーム揺動による現像液の流れ変動が小さく、レーザ
照射位置に現像液を層流状で常時流すようにアーム揺動
の方向を設定することは容易である。この様な状態で、
現像が進行し、原盤表面のホトレジスト膜にビットが形
成されてくると、１〜２１ｔｍピッチで配列しているピ
ット列によりレーザ光が回折される。この−次回新党を
ホトダイオード２０で検出し、へ射光５５の強度に対し
て所定の値に達したら自動的に制御回路が働いて現像液
の供給を停止し、現像液の代わりに水を同一のノズルか
ら流して現像を停止させる。この時も、ノズルからノ水
は層流状になるように約１−Ｌ、Ａｎｉｎの流量とする
。
更に、アームの先端に水環用のノズルを設は原盤の内周
部の現像液の付着も完全に除去する。
部の現像液の付着も完全に除去する。
最後に、水を止めて、原盤を高速回転（約１０１００Ｏ
ｒｐさせることにより水切乾燥を行なう。以上、本実施
例によれば、１次回折光を安定に検出することが出来、
適切な現像停止が実行できる。従って、本発明は原盤の
ビット寸法精度の向上に多大の効果を有すことは明白で
あろう。
ｒｐさせることにより水切乾燥を行なう。以上、本実施
例によれば、１次回折光を安定に検出することが出来、
適切な現像停止が実行できる。従って、本発明は原盤の
ビット寸法精度の向上に多大の効果を有すことは明白で
あろう。
更に、本発明では、現像液を層流状で供給するために、
従来のスプレー状に比べ、現像液の飛散が全く発生せず
、しかも、原盤から振り落された現像液が再び原盤表面
に舞い戻らない様に、第７図に示す防着板４０で現像チ
ャンバーを仕切ることにより、現像処理工稈における原
盤表面の異物付着を完全に防止することが出来る。従っ
て、本発明は原盤の欠陥を著しく減少させ、光ディスク
のドロップアウト低減にも多大の効果を有する。
従来のスプレー状に比べ、現像液の飛散が全く発生せず
、しかも、原盤から振り落された現像液が再び原盤表面
に舞い戻らない様に、第７図に示す防着板４０で現像チ
ャンバーを仕切ることにより、現像処理工稈における原
盤表面の異物付着を完全に防止することが出来る。従っ
て、本発明は原盤の欠陥を著しく減少させ、光ディスク
のドロップアウト低減にも多大の効果を有する。
以上の実施例では、レーザ回折光をモニタする場合を例
にとり説明したが、レーザ光の代わりにタングステンラ
ンプ、キセノンランプ等の光を用いた光学モニタを用い
る場合でも本発明は同様の効果を有する。
にとり説明したが、レーザ光の代わりにタングステンラ
ンプ、キセノンランプ等の光を用いた光学モニタを用い
る場合でも本発明は同様の効果を有する。
また、本発明は、光ディスクを例にとり説明したが、半
導体等で用いられるホトレジスト膜の現像においても光
学モニタを用いたスピン現像法を用いる場合には本発明
を適用でき、上記した効果を得ることが出来る。
導体等で用いられるホトレジスト膜の現像においても光
学モニタを用いたスピン現像法を用いる場合には本発明
を適用でき、上記した効果を得ることが出来る。
本発明によれば、光ディスク等の原盤のピット寸法を現
像処理中に光学モンタにより安定に調節できるので、原
盤のピント寸法精度向上に多大の効果がある。
像処理中に光学モンタにより安定に調節できるので、原
盤のピント寸法精度向上に多大の効果がある。
第１図は従来の現像方法を示す模式図、第２図は従来の
現像方法で処理した現像時間と１次回折光強度の関係Ｓ
図、第３図は本発明の第１の実施例を示す模式図、第４
図は本発明における現像時間と１次回折光強度の関係線
図、第５図は本発明の第２の実施例を示す模式図、第６
図は本発明の第３の実施例を示す模式図、第７図は本発
明の現像装置を示す概略図である。 １・・・原盤、 ２・・・ターンテーブル、 ６・・・現像液ノズル、 ４・・・現像液、 ５・・レーザ、 ７・・・アーム、 ２０・・・ホトタイオード、 ４０・・・防着板、 ４５・・・チャンバー。 代理人弁理士 高 橋 明 夫 第 ｊ 口 ／乙 第２国 現像時開 − 躬 ３η ／ｂ 第５の 第４−口 現像時間 −一 第 ｂ 口
現像方法で処理した現像時間と１次回折光強度の関係Ｓ
図、第３図は本発明の第１の実施例を示す模式図、第４
図は本発明における現像時間と１次回折光強度の関係線
図、第５図は本発明の第２の実施例を示す模式図、第６
図は本発明の第３の実施例を示す模式図、第７図は本発
明の現像装置を示す概略図である。 １・・・原盤、 ２・・・ターンテーブル、 ６・・・現像液ノズル、 ４・・・現像液、 ５・・レーザ、 ７・・・アーム、 ２０・・・ホトタイオード、 ４０・・・防着板、 ４５・・・チャンバー。 代理人弁理士 高 橋 明 夫 第 ｊ 口 ／乙 第２国 現像時開 − 躬 ３η ／ｂ 第５の 第４−口 現像時間 −一 第 ｂ 口
Claims (1)
- １、表面に露光処理されたホトレジスト膜を有する基板
を回転させながら、その表面に現像液を接触させてホト
レジスト膜を現像処理し、その現像の進行状態を光学的
手法でモニタし、そのモニタ値により現像処理を停止さ
せる現像装置において、現像液ノズルから基板表面まで
の現像液の流れを層流状とし、基板表面に接触した現像
液を基板の回転方向に層流状に流れる領域を設け、この
領域に上記モニタ光の照射位置を設定したことを特徴と
するホトレジストの現像装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12744484A JPS618751A (ja) | 1984-06-22 | 1984-06-22 | ホトレジストの現像装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12744484A JPS618751A (ja) | 1984-06-22 | 1984-06-22 | ホトレジストの現像装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS618751A true JPS618751A (ja) | 1986-01-16 |
| JPH0450663B2 JPH0450663B2 (ja) | 1992-08-14 |
Family
ID=14960079
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12744484A Granted JPS618751A (ja) | 1984-06-22 | 1984-06-22 | ホトレジストの現像装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS618751A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5100204A (en) * | 1989-11-15 | 1992-03-31 | Toyo Seat Co., Ltd. | Blow molded seat frame having embedded mounting member |
| JP2010123230A (ja) * | 2008-11-21 | 2010-06-03 | Sony Disc & Digital Solutions Inc | 現像方法、及び現像装置 |
-
1984
- 1984-06-22 JP JP12744484A patent/JPS618751A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5100204A (en) * | 1989-11-15 | 1992-03-31 | Toyo Seat Co., Ltd. | Blow molded seat frame having embedded mounting member |
| JP2010123230A (ja) * | 2008-11-21 | 2010-06-03 | Sony Disc & Digital Solutions Inc | 現像方法、及び現像装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0450663B2 (ja) | 1992-08-14 |
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