JPH03176838A - 現像方法及び自動現像装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、光ディスクにおける現像方法及び自動現像装
置に関し、特に基板上に一定ピッチで露光されたパター
ンの現像方法及び現像装置に関する。

［従来の技術］ 従来の技術としては、例えば、松下電器技報Ｖｏ１．２
９　Ｎｏ、５　　ｒレーザによる光ディスクの原盤作製
」に示されているように、ガラス基板に一定ピッチて露
光されたパターンを現像する装置としては、現像モニタ
付の自動現像装置が広く知られている。従来の自動現像
装置では、現像中基板にレーザ光を通過させておき、現
像が進行するに伴って現われてくるパターン構造が回折
格子として作用して回折光を生し、パターン幅の変化と
ともに回折光も変化するのて、これを検出してパターン
幅をモニタし、必要とされるパターン幅が形成された時
点て現像処理を終了していた。

次に、従来の自動現像装置について図面を参照して説明
する。第４図は従来の自動現像装置の−例を示す構成図
である。現像方法は、基板Ｉをスピンチャック２に真空
吸着し、基板１を回転しながらノズル４から供給される
現像液５を基板１上に滴下することにより現像を行う。

いわゆる、スピン現像方式を採っている。１ｉｅ−Ｎｅ
レーザ６を基板裏面より照射し、基板を透過した回折光
を光量検出部８により、０次回折光、＋１次回折光。

−１次回折光の光量を検出し、アンプ９て増幅した後、
演算ユニット１０てパターン幅を算出する。

そして必要とされるパターン幅か形成された時点て現像
処理を終了する。

［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、上記した従来の自動現像装置においては
、回折光を検出する場合に、現像液が基板表面で不均一
な流れを生しるために、現像液の表面て光のゆらぎが発
生し、現像の終点を安定して検出することがてきないと
いう問題かあった。

また、を記問題を解決するために、現像の終点に近い時
点に達したところて、基板表面から水分を除きトライの
状態て検査を行ない、再度補正するための現像を行なう
方法などがあるか、この方法では乾燥工程か多くなる事
により基板表面の欠陥の発生か問題となってくる。

本発明は、この様な従来の問題を解決するためになされ
たものであり、基板上に一定ビッチて露光されたパター
ンを現像する際に、光検出部て安定した回折光を得るこ
とかてき、そのために高精度で現像の終点を検出てきる
と共に、現像液によって光検出部か汚染されることを防
止した現像方法及び自動現像装置を提供することを目的
とするものである。

［課題を解決するための手段］ 即ち、本発明は、回折光量を検出する事により、基板上
に露光されたパターンの現像処理の終点を検出する現像
方法において、現像される基板表面と散乱防止板間に現
像液を有する位置関係により現像を行なうことを特徴と
する現像方法である。

また、本発明は、回折光量を検出する事により、基板上
に露光されたパターンの現像処理の終点を検出する現像
装置において、現像される基板表面と対向する位置に、
現像液か導入される間隙を設けて散乱防止板を設置して
なることを特徴とする自動現像装置である。

本発明において、前記散乱防止板には、回折光を透過す
る透明材料からなるものを用いることが好ましい。散乱
防止板の回折光透過材料には、例えばガラス、樹脂（ア
クリル樹脂、ボリカーボネーｌ−樹脂′Ｓ）などのレー
ザ波長を透過する材料てあれば良く、また透過材料の表
面に反射防止膜をコートしたものや、透過率をコントロ
ールするように薄膜をコートした多層材料でも良い。

本発明においては、基板上に露光されたパターンと散乱
防止板間に現像液が導入される間隙が設けられ、その間
隙に現像液があるため、現像液の表面における光のゆら
ぎの発生か防止され、安定した回折光量を得ることがて
きる。

［実施例］ 以下、図面に示す実施例に基づいて本発明をさらに具体
的に説明する。

実施例１ 第１図は本発明の自動現像装置の一例を示す部分説明図
である。同図において、本発明の自動現像装置は、スピ
ンチャック２に固定された、一定ピツチてパターンか露
光された基板ｌ上に、一定の間隙（１ｍｍ〜１０■）を
設けて、基板表面と対向する位置に散乱防止板１２を設
置してなるものである。前記、間隙に現像液５は導入さ
れ、その中を現像液５が流れる。この現像方法により現
像する事により、現像液面における乱反射を防止し、第
４図に示すような機構を有する現像終点検査装置の回折
光量か安定して得られるため、終点検査精度が向上する
。

実施例２ 第２図は本発明の自動現像装置の他の例を示す部分説明
図である。同図においては、ノズルを備えた散乱防止板
１２ａを用いて、一定ピツチでパターンか露光された基
板ｌに、下方から現像液５を吹付けて現像を行うか、散
乱防止板１２ａに回折光透過材料を使用する事により、
より高精度に現像の終点を検出てきる。

実施例３ ｆ５３ＵＡは本発明の自動現像装置のさらに他の例を示
す部分説明図である。同図においては、カップ状の散乱
防止板１２ｂからなる現像槽内に現像液５を収容し、一
定とッチてパターンか露光された基板１を現像槽内の現
像液５に浸漬する方法により現像を行うか、散乱防止板
１２ｂに回折光透過材料を使用する事により、より高精
度に現像の終点を検出てきる。

」１記の本発明の実施例ては、下部よりレーザ光を発振
し、」二部にて回折光を検出しているが、−に部にレー
ザ光かあり、下部で検出する方法ても同様に行うことか
てきる。

［発明の効果］ 以上説明した様に、本発明によれば、基板上に一定ピッ
チて露光されたパターンを現像する際に、光検出部て安
定した回折光を得ることかでき、そのために高精度て現
像の終点を検出てきると共に、現像液によって光検出部
が汚染されることを防止できるなどの効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の自動現像装置の一例を示す部分説明図
、第２図およびｔＳ３図は本発明の自動現像装置の他の
例を示す部分説明図、第４図は従来の自動現像装置の一
例を示す構成図である。 １・・・基板　　　　　　　１ａ・・・レジストコート
面２−・・スピンチャック　　３・・・カップ４・・・
ノズル　　　　　　５・・・現像液６・・・Ｈｅ　−Ｎ
ｅレーザ　　　７・・・全反射ミラー８・・・光検出部
　　　　　９・・・アンプ１０・・・演算ユニット　　
　１１・・・スピンドルモータ１２・・・散乱防止板 １．２ａ・−・散乱防止板（ノズル） １２ｂ・・・散乱防止板（カップ）

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）回折光量を検出する事により、基板上に露光され
   たパターンの現像処理の終点を検出する現像方法におい
   て、現像される基板表面と散乱防止板間に現像液を有す
   る位置関係により現像を行なうことを特徴とする現像方
   法。
2. （２）回折光量を検出する事により、基板上に露光され
   たパターンの現像処理の終点を検出する現像装置におい
   て、現像される基板表面と対向する位置に、現像液が導
   入される間隙を設けて散乱防止板を設置してなることを
   特徴とする自動現像装置。
3. （３）前記散乱防止板が回折光を透過する透明材料から
   なる請求項２記載の自動現像装置。