JPS59121337A - レジスト現像装置 - Google Patents
レジスト現像装置Info
- Publication number
- JPS59121337A JPS59121337A JP23140082A JP23140082A JPS59121337A JP S59121337 A JPS59121337 A JP S59121337A JP 23140082 A JP23140082 A JP 23140082A JP 23140082 A JP23140082 A JP 23140082A JP S59121337 A JPS59121337 A JP S59121337A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diffracted light
- resist
- light
- glass
- monitoring
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/3021—Imagewise removal using liquid means from a wafer supported on a rotating chuck
- G03F7/3028—Imagewise removal using liquid means from a wafer supported on a rotating chuck characterised by means for on-wafer monitoring of the processing
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（分野）
本発明は光ディスクの製造装置に係り、特に溝付光ディ
スクを製造するマスクである溝付ガラス原板を製造する
場合のパターン露光されたレジストの現像状況を監視す
る手段をそなえたレジスト現像装置に関する。
スクを製造するマスクである溝付ガラス原板を製造する
場合のパターン露光されたレジストの現像状況を監視す
る手段をそなえたレジスト現像装置に関する。
（従来技術と背景）
鍔付光ディスクを製造するマスクとなる溝付ガラス原板
を製造する過程は通常次の様な工程より成る■ガラス原
板上にレジストを塗布、■レジストをレーザービームに
より所定中およびピッチの同心円状、またはうづまき状
のパターンに露光、■レジスト現像、■レジスト定着、
以上の工程のうち本発明の係るレジスト現像は従来は時
間等で進行を監視され、例えばパターン露光済のガラス
原板を現像タンク中の現像液に浸し、所定時間を軽過さ
せたあと取り出し定着を行って来た。
を製造する過程は通常次の様な工程より成る■ガラス原
板上にレジストを塗布、■レジストをレーザービームに
より所定中およびピッチの同心円状、またはうづまき状
のパターンに露光、■レジスト現像、■レジスト定着、
以上の工程のうち本発明の係るレジスト現像は従来は時
間等で進行を監視され、例えばパターン露光済のガラス
原板を現像タンク中の現像液に浸し、所定時間を軽過さ
せたあと取り出し定着を行って来た。
しかし、こうした方法で現像の仕上り状態を管。
理することは技術的にはかなりむずかしく、わずかな露
光量のちがいやレジストのちがい等の露光条件の差、さ
らに現像液の温度、濃度、疲労度合等の現像条件の差が
全て誤差となるため、形成される婢付ガラス原板の溝の
巾、深さ等がそのたびごとに不均一に仕上ると言う欠点
があった。
光量のちがいやレジストのちがい等の露光条件の差、さ
らに現像液の温度、濃度、疲労度合等の現像条件の差が
全て誤差となるため、形成される婢付ガラス原板の溝の
巾、深さ等がそのたびごとに不均一に仕上ると言う欠点
があった。
（目的と特徴）
本発明の目的はこうした欠点の克服にあり、レジスト現
像の進行状態を監視し、仕上り時点を決定するために進
行状況を現像進行中に直接モニタする方法を提供するこ
とＫある。また本発明の別の目的は、こうした直接モニ
タ手段をそなえたレジスト現像装置を提供することであ
る。
像の進行状態を監視し、仕上り時点を決定するために進
行状況を現像進行中に直接モニタする方法を提供するこ
とＫある。また本発明の別の目的は、こうした直接モニ
タ手段をそなえたレジスト現像装置を提供することであ
る。
そして本発明の＊徴は上記目的を達成するためガラス原
版上に形成したレジストに溝パターンを露光したものを
現像するレジスト現像装置において、現像の進行状態を
監視する手段として現像液中のガラス原版にレーザ光を
照射する手段と、ガラス原板より溝の形成されるにとも
ない回折して来る回折光を検知する手段と、該検知され
た回折光を処理する手段を有し、上記回折光より得られ
る情報をもとに現′像の進行を監視すること、また上記
検知手段として第１次回折光検出器と第２次回折光検出
器を有し、第１次回折光と第２次回折光の強度より溝パ
ターンの溝巾および溝深さを監視することである。
版上に形成したレジストに溝パターンを露光したものを
現像するレジスト現像装置において、現像の進行状態を
監視する手段として現像液中のガラス原版にレーザ光を
照射する手段と、ガラス原板より溝の形成されるにとも
ない回折して来る回折光を検知する手段と、該検知され
た回折光を処理する手段を有し、上記回折光より得られ
る情報をもとに現′像の進行を監視すること、また上記
検知手段として第１次回折光検出器と第２次回折光検出
器を有し、第１次回折光と第２次回折光の強度より溝パ
ターンの溝巾および溝深さを監視することである。
（実施例）
第１図は本発明の一実施例の説明図であり、レジスト現
像装置の概要を説明するものである。また第２図は第１
図の補足図である。
像装置の概要を説明するものである。また第２図は第１
図の補足図である。
図中１はスタンド、２はスタンドに上下訃よび回動方向
に調節可能に取付けられるガラス原板取付用およびモニ
タ用レーザ光学系取付用のアーム、３はレーザ、４はミ
ラー、５はガラスセル、６は現像液の入った現像タンク
、７は現像タンクの紙にもうけられた回折光取出し用の
窓、８は現像されるためアームて取付けられ現像液に浸
されたガラス原板、９と１０は回折光の検出素子で９は
第１次回折元用、１０は第２次回折光用の検出素子、１
１Ｖｉ足％’＋ ６＋の入ったＷ盾タンクである。なお
原理的ではないが好ましい構成としてけ現１象タンクの
底面のぢ７とガラス原板とガラスセルの噛（菌は水平で
あることが望ｆ Ｌ／ ＜ 、レーザｆＳはこれらに対
して垂直になっている方が得られたデータに対線 して各孕の袖正目１外を行わないですむだけ実用上−ザ
−）′（学系およびガラス原板を取付けｆｒｔま覗、１
象タンク８から宇治タンク１１の方に移動させられる１
ｔＮｌｌ？ニアＪっている。寸だガラスセル５１ｄ現（
牙液中に嬬Ｍｌｉを入れてレーザ光が現＋４！液のｆｆ
１１ハｉで人的を乱されるのを防止する。４２図はその
植コ子を示すものである。またレーザ３ｔまレジストσ
）搭二うし？波長外のものがｈ’ｙｔｔ、＜、ここでＶ
ｉＥ’Ｊイ＋ｐ、 ）Ｙ； ｔ＝波１史のＨｅ−−Ｎｅ
レーザを用いる。
に調節可能に取付けられるガラス原板取付用およびモニ
タ用レーザ光学系取付用のアーム、３はレーザ、４はミ
ラー、５はガラスセル、６は現像液の入った現像タンク
、７は現像タンクの紙にもうけられた回折光取出し用の
窓、８は現像されるためアームて取付けられ現像液に浸
されたガラス原板、９と１０は回折光の検出素子で９は
第１次回折元用、１０は第２次回折光用の検出素子、１
１Ｖｉ足％’＋ ６＋の入ったＷ盾タンクである。なお
原理的ではないが好ましい構成としてけ現１象タンクの
底面のぢ７とガラス原板とガラスセルの噛（菌は水平で
あることが望ｆ Ｌ／ ＜ 、レーザｆＳはこれらに対
して垂直になっている方が得られたデータに対線 して各孕の袖正目１外を行わないですむだけ実用上−ザ
−）′（学系およびガラス原板を取付けｆｒｔま覗、１
象タンク８から宇治タンク１１の方に移動させられる１
ｔＮｌｌ？ニアＪっている。寸だガラスセル５１ｄ現（
牙液中に嬬Ｍｌｉを入れてレーザ光が現＋４！液のｆｆ
１１ハｉで人的を乱されるのを防止する。４２図はその
植コ子を示すものである。またレーザ３ｔまレジストσ
）搭二うし？波長外のものがｈ’ｙｔｔ、＜、ここでＶ
ｉＥ’Ｊイ＋ｐ、 ）Ｙ； ｔ＝波１史のＨｅ−−Ｎｅ
レーザを用いる。
こうした；１１を成においてガラス１．’ｉｔ ４ａを
天μイ０タンク内にセットし、モニター用σ〕レーザ）
℃を１世射しなから′８を辿して２１’、 １次回折元
の位置と第２次し］折）゛シーの位（ｄにセントした光
検知ａ９と１０で曲１折して来る光を監視−「る。
天μイ０タンク内にセットし、モニター用σ〕レーザ）
℃を１世射しなから′８を辿して２１’、 １次回折元
の位置と第２次し］折）゛シーの位（ｄにセントした光
検知ａ９と１０で曲１折して来る光を監視−「る。
なお回折が表れるのはレジストに露光された光ディスク
のＥｆ、用の溝のパターンそのもσ〕が非常にこ′まか
い等ピッチＰ）のうす貫きであり、部分的に見れは回折
格子と見なすことが出来るからであり、現像の進行に伴
い露光された部分とされない部分とで透過率等光学的な
不均等が出来てくるからであり、こうして現像されて来
るレジストの溝パターンからの回折光を監視することに
より州られる情報から現像の進行を見るわけである。
のＥｆ、用の溝のパターンそのもσ〕が非常にこ′まか
い等ピッチＰ）のうす貫きであり、部分的に見れは回折
格子と見なすことが出来るからであり、現像の進行に伴
い露光された部分とされない部分とで透過率等光学的な
不均等が出来てくるからであり、こうして現像されて来
るレジストの溝パターンからの回折光を監視することに
より州られる情報から現像の進行を見るわけである。
回折格子の理論によれば、回折角ｌｄ格子のピッチＰと
光の波長λにより定まるか２．ＡＩ次次回先光強度Ｊ、
と第２次回折光の強度Ｊ、との分度比Ｊ。
光の波長λにより定まるか２．ＡＩ次次回先光強度Ｊ、
と第２次回折光の強度Ｊ、との分度比Ｊ。
／ Ｊ ＋はピッチＰ中の露光部（爵部）と未露光部の
配分比に係り言いかえればし・シスト膜の現像された溝
巾に関する情報を提供するので、現像中に上記Ｊ！／Ｊ
ｌをモニタすれば進行中の溝巾を知ることが出来、所望
の巾になった時点を見付けてスタンドを動かして定着タ
ンク１１の方につけることで現像を中止して、ただちに
定着を行うこと２５よ出来る。
配分比に係り言いかえればし・シスト膜の現像された溝
巾に関する情報を提供するので、現像中に上記Ｊ！／Ｊ
ｌをモニタすれば進行中の溝巾を知ることが出来、所望
の巾になった時点を見付けてスタンドを動かして定着タ
ンク１１の方につけることで現像を中止して、ただちに
定着を行うこと２５よ出来る。
また、晴深さに関する情報は、ａへ幅ように直接的に求
めることは稚しいが溝深をｈとしたとき、アルタイムで
求めることができる。従って連輪の場合と同様に、所望
の深さになった時点で定＞ｌｉを行なうことができる。
めることは稚しいが溝深をｈとしたとき、アルタイムで
求めることができる。従って連輪の場合と同様に、所望
の深さになった時点で定＞ｌｉを行なうことができる。
なお実際には光学的不均一の進行をモニタすると元う見
方をすれば、ＪＩの節回情報からだけでも現像の進行は
つかまえられるがこの場合＆−１溝巾および（１’ｌ深
さはわからない。
方をすれば、ＪＩの節回情報からだけでも現像の進行は
つかまえられるがこの場合＆−１溝巾および（１’ｌ深
さはわからない。
４４３図は実施例の補足図で、上記検出光の測定用の処
理回路を示す図からも明らかな様に、９゜１０の検出器
よりとり出した検出電流をアンプ１２で電圧変換しロー
パスフィルタ１３．１４を介してアナログ除算器１５で
比較してＪ ｔ ／ Ｊ ＋をｎ出する。また１６の加
Ω、器を通じ１７の比較器で（他の変形） なお、上記実施Ｕ］では現１象液中のガラス原板の現像
進行をモニタする方法として説明したが定着済のガラス
原板の検査用にもつかえることは云うまでもない。
理回路を示す図からも明らかな様に、９゜１０の検出器
よりとり出した検出電流をアンプ１２で電圧変換しロー
パスフィルタ１３．１４を介してアナログ除算器１５で
比較してＪ ｔ ／ Ｊ ＋をｎ出する。また１６の加
Ω、器を通じ１７の比較器で（他の変形） なお、上記実施Ｕ］では現１象液中のガラス原板の現像
進行をモニタする方法として説明したが定着済のガラス
原板の検査用にもつかえることは云うまでもない。
またレーザを垂直、ガラス原振を水平にイｉ＃成して説
、明したが、第４図の様な逆の植成でも原理的には全く
同じである〇 （効果） 以上説明した様に本発明によれば格子パターンを有する
対象を現像中に光を邪躬して回折光をしらぺることによ
り現像の進行によ抄形成される格子パターンの形成彷況
をリアルタイムで知ることが出来る。またリアルタイム
で知ることが出来るから、現像の仕上りを該情報をもと
に直接管理することが出来ると云う特徴ある効果を生ず
る。
、明したが、第４図の様な逆の植成でも原理的には全く
同じである〇 （効果） 以上説明した様に本発明によれば格子パターンを有する
対象を現像中に光を邪躬して回折光をしらぺることによ
り現像の進行によ抄形成される格子パターンの形成彷況
をリアルタイムで知ることが出来る。またリアルタイム
で知ることが出来るから、現像の仕上りを該情報をもと
に直接管理することが出来ると云う特徴ある効果を生ず
る。
第１図は本発明の一実施■ｊの説明ＩＡ、第２１ゾ１は
第１図の補足図、第３図は実施例の補足図、第４ｍは別
の火線１り１１の１１シ２明図０ １・）（中１はス４ンド、２けアーム、３ｋｌレーザ、
６げ：ｊ４１． ＋ｊｌ、タンク、７ｆｄ窓、８はガラ
ス捏イノへ ９と１０＆よ（す口１１元の４−１η器。 代理人 弁１２１！士 松 岡 宏四、部尊ｚ１５ 坏 ４ 図
第１図の補足図、第３図は実施例の補足図、第４ｍは別
の火線１り１１の１１シ２明図０ １・）（中１はス４ンド、２けアーム、３ｋｌレーザ、
６げ：ｊ４１． ＋ｊｌ、タンク、７ｆｄ窓、８はガラ
ス捏イノへ ９と１０＆よ（す口１１元の４−１η器。 代理人 弁１２１！士 松 岡 宏四、部尊ｚ１５ 坏 ４ 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １） ガラスＷＩＮ上に形成したレジストに溝パターン
を露光したものを現ｉ象するレジスト現像装置において
、現１棟の進行状態を監視する手段として現像液中のガ
ラス原板にレーザ光を照射する手段と、ガラス原板より
回折して来る回折光を検知する手段と、該検知された回
折光を処理する手段を有し、上記回折光より得られる情
報をもと［ｆＪ４．像の進行を監視することを特徴とす
るレジスト現像装置。 ２）上記検知する手段として第１次回折光検出器と第２
次回折光検出器を有し第１次回折光と第２次回折光の強
度より、溝パターンの溝巾と溝深さを監視することを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載のレジスト現像装置
０ ３）現障液中のガラス原板にレーザ光を照射する１・段
としてガラスセルを有し該ガラスセルの端面を介して、
現像液の液面を介さすに現像液中に光を導入することを
特徴とする特許Ｎ？！ｉ求の範囲第１項又は第２項記載
のレジスト現像装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23140082A JPS59121337A (ja) | 1982-12-24 | 1982-12-24 | レジスト現像装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23140082A JPS59121337A (ja) | 1982-12-24 | 1982-12-24 | レジスト現像装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59121337A true JPS59121337A (ja) | 1984-07-13 |
Family
ID=16923006
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23140082A Pending JPS59121337A (ja) | 1982-12-24 | 1982-12-24 | レジスト現像装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59121337A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH021530A (ja) * | 1987-10-20 | 1990-01-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | レジスト耐熱性評価方法及びレジスト耐熱性評価装置 |
| JPH08508602A (ja) * | 1993-04-07 | 1996-09-10 | ニンブス・コミュニケーションズ・インターナショナル・リミテッド | プロセス制御のための方法および装置 |
-
1982
- 1982-12-24 JP JP23140082A patent/JPS59121337A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH021530A (ja) * | 1987-10-20 | 1990-01-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | レジスト耐熱性評価方法及びレジスト耐熱性評価装置 |
| JPH08508602A (ja) * | 1993-04-07 | 1996-09-10 | ニンブス・コミュニケーションズ・インターナショナル・リミテッド | プロセス制御のための方法および装置 |
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