JPH01220157A - 光ディスク用現像装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光ディスク用現像装置、特にフォトレジストの
現像を行なうためにガラス基板上に一定ピッチで同心円
状にパターンが露光された光ディスク用現像装置に関す
る。

〔従来の技術〕

従来の光ディスク用現像装置は例えば、松下電器技法Ｖ
ｏ１．２９　　Ｎａ５ｒレーザによる光ディスクの原盤
作製」に示されているように、ガラス基板に一定ピッチ
で露光されたパターンを現像する装置としては、現像モ
ニタ付の自動現像装置が広く知られている。

従来の光ディスク用現像装置では、現像中基板にレーザ
光を通過させておき現像が進行するに伴って現われてく
るパターン構造が回折格子として作用して回折光を生じ
、パターン幅の変化とともに回折光も変化するのでこれ
を検出してパターン幅をモニタし、必要とされるパター
ン幅が形成された時点で現像処理を終了していた。

次に、従来の光ディスク用現像装置について、図面を参
照して説明する。

第２図は従来の一例を示す模式図である。第２図に示す
光ディスク用現像装置は、ガラス基板２をスピンチャッ
ク１に真空吸着し、ガラス基板２を回転しながらノズル
３から供給される現像液４をガラス基板２の上に滴下す
ることにより現像を行ういわゆるスピン現像方式を採っ
ている。

Ｈｅ　−Ｎ　ｅレーザ５をガラス基板２の裏面より照射
し、ガラス基板２を透過した回折光を光量検出器７によ
りＯ次回光計と、＋１次回折光計−１回折光の光量を検
出しアンプ８で増幅した後演算ユニット９でパターン幅
を算出する。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかしながらこのような上述した従来の光ディスク用現
像装置はガラス基板上の１ケ所にレーザ光を照射し、パ
ターン幅をモニタする構成となっているのでガラス基板
上の他の部分のパターン幅はまったく判らないという欠
点があった。

しかも、現像条件に影響を与える現像工程以前の要因と
してフォトレジストの膜厚と単位面積当たりの露光量が
ある。フォトレジスト塗布工程ではスピンコードが一般
的に用いられており、膜厚の変動は円周方向より半径方
向に対して大きくなる。また露光工程では例えば光ディ
スクの場合中心付近から外縁部へ向けて露光パワーを増
加することにより単位面積当たりの露光量が一定になる
ように制御しても時間の経過とともにレーザの状態は変
化しやはり半径方向の差として表われる。

さらに、現像工程もスピン現像であり、ガラス基板の中
心付近に固定されたノズルから現像液を供給することが
一般的であり外縁部へ供給される現像液はすでに中心付
近での現像処理に用いられたため、ガラス基板の中心付
近と外縁部とでは現像の進行に大きな差が生じる。

また、ノズルを中心付近より外縁方向へ、あるいは外縁
方向から中心付近へと駆動する構成も知られているが、
ガラス基板上１ケ所でのモニタではガラス基板の全面で
パターン幅を制御することは極めて難しいという欠点も
あった。

〔課題を解決するための手段〕

本発明の光ディスク用現像装置は、スピンチャックと、
前記スピンチャックに保持して回転され一定のピッチで
同心円状にパターンが露光されたガラス基板のパターン
域より内側とパターン域の中域の２ケ所に設けられ電磁
弁により現像液の滴下が制御可能な２組のノズルと、前
記ガラス基板のパターン域の最内域と最外域との２点に
同時にレーザ光を透過する光学系と、該レーザ光の基板
上のパターンによる０次光、±１次光の回折光量を検出
する一対の回折光量検出部と、検出光量よりパターン幅
を算出する演算ユニットと、パターン幅を比較しパター
ン外域部のパターン幅が小さい場合にパターン中域のノ
ズルの電磁弁を開にし現像液を滴下する電磁弁制御系と
を含んで構成される。

〔実施例〕

次に、本発明の実施例について、図面を参照して詳細に
説明する。

第１図は本発明の一実施例を示す模式図である。

第１図に示す光ディスク用現像装置は、スピンチャック
１と、このスピンチャック１に保持して回転され一定の
ピッチで同心円状にパターンが露光されたガラス基板２
と、このガラス基板２のパターン域より内側とパターン
域の中域の２ケ所に設けられた電磁弁１２と、この電磁
弁１２により現像液４の滴下が制御可能な２組のノズル
３と、ガラス基板２のパターン域の最内域と最外域との
２点に同時にＨｅ−Ｎｅレーザ５からのレーザ光を透過
するための全反射ミラー６とハーフミラ−１１と、該レ
ーザ光の基板上のパターンにょる０次光、±１次光の回
折光量を検出する一対の光量検出部７およびアンプ８と
、検出光量にもとづいてパターン幅を算出する演算ユニ
ット９と、パターン幅を比較しパターン外域部のパター
ン幅が小さい場合にパターン中域のノズル３の電磁弁１
２を開にし現像液４を滴下する比較回路１０とを含んで
構成さ九る。

次に、第１図に示した光ディスク用現像装置の動作を説
明する。

シブレイ社製マイクロポジットフォトレジスト１３５０
Ｊを膜厚１２００人に塗布し一定のピッチで同心円状に
パターンが露光されたガラス基板２をスピンチャック１
に固定し、ガラス基板２を３０Ｏｒｐｍで回転しながら
パターン域より内側のノズル３のみからシブレイ社製マ
イクロポジットデベロッパ濃度Ｅ＝Ｓ−の現像液４をガ
ラス基板２の上に滴下する。

現像液４はガラス基板２の上を内側から外側へ流れ現像
処理を行う。現像進行中常にパターン域の最内域と最外
域の２点に同時にレーザを透過し、パターン幅を演算ユ
ニット９にて算出する。

仮に、パターン最内域のパターン幅をＸ、パターン幅最
外域のパターン幅をｙとする。現像の進行にともない、
ｘ＞ｙの関係が成立するのでこのとき比較回路１０はパ
ターン域の中域のノズル３より現像液４を滴下するため
パターン域の中域のノズル３の電磁弁１２を開くよう指
示を出す。

さらに、現像が進行すると今度はｘ＝ｙの関係が成立す
るので、このとき、比較回路１０はパターン域の中域の
ノズル３からの現像液４の滴下を止めるためパターン域
の中域のノズル３の電磁弁１２を閉じるよう指示を出す
。　　　′以上のくり返しによりガラス基板２の全面に
均一なパターンを形成する。

〔発明の効果〕

本発明の光ディスク用現像装置は、２組の０次光、±１
次光の回折光量を検出するための一対の光量検出部を設
け、現像中インプロセスでパターン域の最内域と最外域
の２ケ所のパターン幅をモニタし最内域と最外域とのパ
ターン幅を比較し、最外域のパターン幅が小さくなった
場合にパターン域の中域のノズルから現像液を滴下する
ことにより、基板全域に均一なパターンを形成できると
いう効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す模式図、第２図は従来
の一例を示す模式図である。 １・・・・・・スピンチャック、２・・・・・・ガラス
基板、３・・・・・・ノズル、４・・・・・・現像液、
訃・・・・・Ｈｅ　−Ｎ　ｅレーザ、６・・・・・・全
反射ミラー、７・・・・・・光量検出部、訃・・・・・
アンプ、９・・・・・・演算ユニッ）、１０・・・・・
・比較回路、１１・・・・・・ハーフミラ−１１２・・
・・・・電磁弁、１３・・・・・・現像液供給タンク。 代理人　弁理士　　内　原　　　晋 第１図 ／づ現４炙液手民ｆ）タンン

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. スピンチャックと、前記スピンチャックに保持して回転
   され一定のピッチで同心円状にパターンが露光されたガ
   ラス基板と、前記ガラス基板のパターン域より内側とパ
   ターン域の中域の２ケ所に設けられた電磁弁と、前記電
   磁弁により現像液の滴下が制御可能な一対のノズルと、
   前記ガラス基板のパターン域の最内域と最外域との２点
   に同時にレーザ光を透過する一対の光学系と、前記レー
   ザ光の前記ガラス基板上のパターンによって０次光、±
   １次光の回折光量を検出する一対の光量検出部と、前記
   光量検出部で検出された一対の検出光量にもとづいてパ
   ターン幅を算出する演算ユニットと、前記パターン幅を
   比較しパターン外域部のパターン幅が小さい場合にパタ
   ーン中域のノズルの電磁弁を開にし現像液を滴下する電
   磁弁制御系とを含むことを特徴とする光ディスク用現像
   装置。