JPH09153233A - 光ディスク記録装置 - Google Patents
光ディスク記録装置Info
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- JPH09153233A JPH09153233A JP31334095A JP31334095A JPH09153233A JP H09153233 A JPH09153233 A JP H09153233A JP 31334095 A JP31334095 A JP 31334095A JP 31334095 A JP31334095 A JP 31334095A JP H09153233 A JPH09153233 A JP H09153233A
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- optical disk
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- optical disc
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 再生信号の品質を悪化させることなく、紫外
レーザ光を用いて信号の記録を行うことができる光ディ
スク記録装置を提供する。 【解決手段】 ピット形成時に、気体圧力源４１で加圧
された気体は、導管４２を介してバルブ４３で流量が制
御され、導管４４を介して吹き出しノズル４５からピッ
トが形成される位置に吐出される。
レーザ光を用いて信号の記録を行うことができる光ディ
スク記録装置を提供する。 【解決手段】 ピット形成時に、気体圧力源４１で加圧
された気体は、導管４２を介してバルブ４３で流量が制
御され、導管４４を介して吹き出しノズル４５からピッ
トが形成される位置に吐出される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、紫外レーザ光によ
るスポットを光ディスクに照射して信号溝を形成し、信
号の記録を行う光ディスク記録装置に関する。
るスポットを光ディスクに照射して信号溝を形成し、信
号の記録を行う光ディスク記録装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、ディスク状記録媒体である光ディ
スクには、追記型光ディスクや可逆型光ディスクとして
相変化型光ディスク及び光磁気型ディスク等が存在す
る。この光ディスクに信号を記録する光ディスク記録装
置において用いられる記録用光源としては、半導体レー
ザが知られている。
スクには、追記型光ディスクや可逆型光ディスクとして
相変化型光ディスク及び光磁気型ディスク等が存在す
る。この光ディスクに信号を記録する光ディスク記録装
置において用いられる記録用光源としては、半導体レー
ザが知られている。
【０００３】この光ディスク記録装置によって光ディス
クに信号を記録するには、半導体レーザから射出される
レーザ光を光ディスク上に照射する。これにより、光デ
ィスク上のレーザ光のスポットが照射された部分が、溶
発いわゆるアブレーションによって削り取られて、信号
溝であるいわゆるピットが形成されることにより、信号
が記録される。
クに信号を記録するには、半導体レーザから射出される
レーザ光を光ディスク上に照射する。これにより、光デ
ィスク上のレーザ光のスポットが照射された部分が、溶
発いわゆるアブレーションによって削り取られて、信号
溝であるいわゆるピットが形成されることにより、信号
が記録される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述の光デ
ィスク記録装置では、溶発によって排除された、光ディ
スク基盤の物質は、プラズマ状となって飛散する。この
飛散した物質の一部は、再凝集して固体となり、光ディ
スクに付着する場合が生じる。このように、信号記録時
の飛散物が付着した光ディスクの記録信号を再生する際
には、再生信号のノイズが増加して、信号の品質は著し
く悪化する。
ィスク記録装置では、溶発によって排除された、光ディ
スク基盤の物質は、プラズマ状となって飛散する。この
飛散した物質の一部は、再凝集して固体となり、光ディ
スクに付着する場合が生じる。このように、信号記録時
の飛散物が付着した光ディスクの記録信号を再生する際
には、再生信号のノイズが増加して、信号の品質は著し
く悪化する。
【０００５】そこで、本発明は上述の実情に鑑み、再生
信号の品質を悪化させることなく、紫外レーザ光を用い
て信号の記録を行うことができる光ディスク記録装置を
提供するものである。
信号の品質を悪化させることなく、紫外レーザ光を用い
て信号の記録を行うことができる光ディスク記録装置を
提供するものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明に係る光ディスク
記録装置は、吹き出しノズルから光ディスクのスポット
照射部上に吐出する気体の流れにより、上記光ディスク
に信号溝を形成する際に生じる上記光ディスクからの飛
散物を除去する。
記録装置は、吹き出しノズルから光ディスクのスポット
照射部上に吐出する気体の流れにより、上記光ディスク
に信号溝を形成する際に生じる上記光ディスクからの飛
散物を除去する。
【０００７】また、上記吹き出しノズルと対向し、上記
吹き出しノズルから吐出する気体を吸引する吸引ノズル
により吸引された気体を収容して、上記気体と共に上記
飛散物を吸引する。
吹き出しノズルから吐出する気体を吸引する吸引ノズル
により吸引された気体を収容して、上記気体と共に上記
飛散物を吸引する。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照しながら説明する。
て、図面を参照しながら説明する。
【０００９】図１には、本発明に係る光ディスク記録装
置の実施の形態の基本的な構成の一例を示す。
置の実施の形態の基本的な構成の一例を示す。
【００１０】この光ディスク記録装置においては、信号
の記録用光源として、高エネルギ密度レーザ光を射出す
る遠紫外レーザ光源いわゆるＵＶレーザ光源１を用いて
いる。具体的には、ＵＶレーザ光源１は、ネオジウム・
ヤグ（Ｎｄ：ＹＡＧ）レーザの第４高調波発生を用いた
遠紫外レーザ光を射出する光源である。このＵＶレーザ
光源１から射出される遠紫外レーザ光の光束は、光変調
器２に入射されることにより、その強度が変調される。
の記録用光源として、高エネルギ密度レーザ光を射出す
る遠紫外レーザ光源いわゆるＵＶレーザ光源１を用いて
いる。具体的には、ＵＶレーザ光源１は、ネオジウム・
ヤグ（Ｎｄ：ＹＡＧ）レーザの第４高調波発生を用いた
遠紫外レーザ光を射出する光源である。このＵＶレーザ
光源１から射出される遠紫外レーザ光の光束は、光変調
器２に入射されることにより、その強度が変調される。
【００１１】この光変調器２によって強度変調された紫
外レーザ光の光束は、レンズ３、４によって拡大され、
位相回折格子５を通過した後に、半透明鏡いわゆるハー
フミラー１１に入射される。この半透明鏡１１を通過し
た紫外レーザ光は、ミラー１４に反射された後、二軸ア
クチュエータ７にマウントされた集光レンズ６によって
結像され、光ディスク８の表面にスポットとして照射さ
れる。
外レーザ光の光束は、レンズ３、４によって拡大され、
位相回折格子５を通過した後に、半透明鏡いわゆるハー
フミラー１１に入射される。この半透明鏡１１を通過し
た紫外レーザ光は、ミラー１４に反射された後、二軸ア
クチュエータ７にマウントされた集光レンズ６によって
結像され、光ディスク８の表面にスポットとして照射さ
れる。
【００１２】ここで、光ディスク８はスピンドルモータ
１０によって回転されている。また、スピンドルモータ
１０は、ねじ送り等によって光ディスク８の半径方向に
大まかに位置決めされている。
１０によって回転されている。また、スピンドルモータ
１０は、ねじ送り等によって光ディスク８の半径方向に
大まかに位置決めされている。
【００１３】光ディスク８の表面からの反射光は、集光
レンズ６を介してミラー１４に反射された後、半透明鏡
１１に入射される。この半透明鏡１１に入射された反射
光は、フォーカス誤差信号検出用の円筒レンズ１２を介
して、シリコンから成る光検出器１３上に導かれる。こ
の光検出器１３では、入射された光量を検出し、この光
量に基づいた電気信号を出力する。また、この光検出器
１３からの出力信号を用いて、トラッキング用案内溝９
からのデトラック信号も同時に検出される。
レンズ６を介してミラー１４に反射された後、半透明鏡
１１に入射される。この半透明鏡１１に入射された反射
光は、フォーカス誤差信号検出用の円筒レンズ１２を介
して、シリコンから成る光検出器１３上に導かれる。こ
の光検出器１３では、入射された光量を検出し、この光
量に基づいた電気信号を出力する。また、この光検出器
１３からの出力信号を用いて、トラッキング用案内溝９
からのデトラック信号も同時に検出される。
【００１４】さらに、光検出器１３から出力される電気
信号から、フォーカス誤差信号及びトラッキング誤差信
号が検出される。このフォーカス誤差信号及びトラッキ
ング誤差信号を上記二軸アクチュエータ７に帰還し、こ
の二軸アクチュエータ７を移動制御することにより、光
ディスク８上に照射される遠紫外レーザ光のスポットは
光ディスク８の表面に対して合焦されると同時に、上記
トラッキング用案内溝９に対して正確に位置決めされ
る。
信号から、フォーカス誤差信号及びトラッキング誤差信
号が検出される。このフォーカス誤差信号及びトラッキ
ング誤差信号を上記二軸アクチュエータ７に帰還し、こ
の二軸アクチュエータ７を移動制御することにより、光
ディスク８上に照射される遠紫外レーザ光のスポットは
光ディスク８の表面に対して合焦されると同時に、上記
トラッキング用案内溝９に対して正確に位置決めされ
る。
【００１５】ここで、光ディスク８は、例えばポリカー
ボネートやアクリル等を材料とする基板である。よっ
て、光ディスク８上に照射される遠紫外レーザ光は、ポ
リカーボネートやアクリルを加工するのに適したレーザ
光である必要がある。ポリカーボネートは波長が約２９
０ｎｍ以下の光を吸収し、アクリルは波長が約３５０ｎ
ｍ以下の光を吸収すること、及び、波長が１９０ｎｍ以
下の遠紫外レーザ光は空気に吸収されることから、上記
光ディスク８上に信号を記録するためのレーザ光として
は、光ディスク８の基板に良好に吸収され、この基板を
短時間で光分解することが可能な波長である１９０〜３
７０ｎｍの遠紫外レーザ光を用いることが好ましい。具
体的には、例えば、ネオジウム・ヤグ・レーザの第４高
調波発生によって発生される波長２６６ｎｍの遠紫外レ
ーザ光を用いて信号の記録を行う。この波長２６６ｎｍ
の遠紫外レーザ光は連続発振であるので、高速に光強度
変調を行うことが可能であり、モードの均一性が高い。
ボネートやアクリル等を材料とする基板である。よっ
て、光ディスク８上に照射される遠紫外レーザ光は、ポ
リカーボネートやアクリルを加工するのに適したレーザ
光である必要がある。ポリカーボネートは波長が約２９
０ｎｍ以下の光を吸収し、アクリルは波長が約３５０ｎ
ｍ以下の光を吸収すること、及び、波長が１９０ｎｍ以
下の遠紫外レーザ光は空気に吸収されることから、上記
光ディスク８上に信号を記録するためのレーザ光として
は、光ディスク８の基板に良好に吸収され、この基板を
短時間で光分解することが可能な波長である１９０〜３
７０ｎｍの遠紫外レーザ光を用いることが好ましい。具
体的には、例えば、ネオジウム・ヤグ・レーザの第４高
調波発生によって発生される波長２６６ｎｍの遠紫外レ
ーザ光を用いて信号の記録を行う。この波長２６６ｎｍ
の遠紫外レーザ光は連続発振であるので、高速に光強度
変調を行うことが可能であり、モードの均一性が高い。
【００１６】この遠紫外レーザ光によって、信号はピッ
トとして、光ディスク８上に記録形成される。具体的に
は、遠紫外レーザ光のスポットが照射された部分が、溶
発いわゆるアブレーションによって削り取られることに
よって、ピットが形成される。
トとして、光ディスク８上に記録形成される。具体的に
は、遠紫外レーザ光のスポットが照射された部分が、溶
発いわゆるアブレーションによって削り取られることに
よって、ピットが形成される。
【００１７】ここで、遠紫外レーザ光と記録形成される
ピットの大きさとの関係について、具体的に説明する。
ピットの大きさとの関係について、具体的に説明する。
【００１８】例えば、波長７８０ｎｍ、開口数０．４５
のレンズを用いたときに再生可能なピットの大きさは
０．８７μｍである。波長２６６ｎｍの遠紫外レーザ光
をパルス幅２０〜２００ｎｓで高速変調し、開口数０．
４以下のレンズを用いて、掃引速度１〜４ｍ／秒、アブ
レーションモードで上記光ディスク８上にピットを記録
形成した場合の、この記録形成されたピットの大きさ
は、上記波長７８０ｎｍ、開口数０．４５のレンズを用
いて再生可能なピットの大きさとほぼ一致する。
のレンズを用いたときに再生可能なピットの大きさは
０．８７μｍである。波長２６６ｎｍの遠紫外レーザ光
をパルス幅２０〜２００ｎｓで高速変調し、開口数０．
４以下のレンズを用いて、掃引速度１〜４ｍ／秒、アブ
レーションモードで上記光ディスク８上にピットを記録
形成した場合の、この記録形成されたピットの大きさ
は、上記波長７８０ｎｍ、開口数０．４５のレンズを用
いて再生可能なピットの大きさとほぼ一致する。
【００１９】また、上記光ディスク８からの反射光を用
いたフォーカス誤差信号及びトラッキング誤差信号の検
出のためには、上記シリコンから成る光検出器１３の感
度、反応、及び光損傷等を考慮して、上記ピット形成用
の波長２６６ｎｍの遠紫外レーザ光と同時に、上記ＵＶ
レーザ光源１から発振される波長５３２ｎｍの可視レー
ザ光を用いる。
いたフォーカス誤差信号及びトラッキング誤差信号の検
出のためには、上記シリコンから成る光検出器１３の感
度、反応、及び光損傷等を考慮して、上記ピット形成用
の波長２６６ｎｍの遠紫外レーザ光と同時に、上記ＵＶ
レーザ光源１から発振される波長５３２ｎｍの可視レー
ザ光を用いる。
【００２０】尚、トラッキング用案内溝９の深さは、波
長５３２ｎｍのレーザ光に対して最大の信号変調度が得
られるように、この波長５３２ｎｍで１／４波長に設定
される。このとき、上記トラッキング用案内溝９の深さ
は、波長２６６ｎｍに対しては１／２波長になり、信号
変調度は最小になる。
長５３２ｎｍのレーザ光に対して最大の信号変調度が得
られるように、この波長５３２ｎｍで１／４波長に設定
される。このとき、上記トラッキング用案内溝９の深さ
は、波長２６６ｎｍに対しては１／２波長になり、信号
変調度は最小になる。
【００２１】次に、トラッキング動作によるトラッキン
グ誤差信号の検出について説明する。
グ誤差信号の検出について説明する。
【００２２】上記トラッキング誤差信号の検出にはスリ
ービーム法を用いる。このスリービーム法における３つ
のビームは上記位相回折格子５によって発生される。従
って、上記位相回折格子５の材料としては、波長２６６
ｎｍの遠紫外レーザ光に対して透過率が高い合成石英を
用いる。また、位相回折格子５は、波長２６６ｎｍの遠
紫外レーザ光を透過すると共に、波長５３２ｎｍのレー
ザ光に対して回折効率が最大になるように、位相の深さ
を波長５３２ｎｍで１／２波長に設定する。このとき、
合成石英の分散を無視すれば、波長２６６ｎｍに対して
は１波長に相当し、回折効率は最小になる。
ービーム法を用いる。このスリービーム法における３つ
のビームは上記位相回折格子５によって発生される。従
って、上記位相回折格子５の材料としては、波長２６６
ｎｍの遠紫外レーザ光に対して透過率が高い合成石英を
用いる。また、位相回折格子５は、波長２６６ｎｍの遠
紫外レーザ光を透過すると共に、波長５３２ｎｍのレー
ザ光に対して回折効率が最大になるように、位相の深さ
を波長５３２ｎｍで１／２波長に設定する。このとき、
合成石英の分散を無視すれば、波長２６６ｎｍに対して
は１波長に相当し、回折効率は最小になる。
【００２３】実際には、合成石英の分散を無視すること
はできないが、波長２６６ｎｍにおける回折効率の最小
化を優先させる。尚、この位相回折格子５に限らず、光
学系において使用される光学部品は、ミラーを除いて合
成石英を用いることが必要である。
はできないが、波長２６６ｎｍにおける回折効率の最小
化を優先させる。尚、この位相回折格子５に限らず、光
学系において使用される光学部品は、ミラーを除いて合
成石英を用いることが必要である。
【００２４】上記ＵＶレーザ光源１から射出される波長
２６６ｎｍの遠紫外レーザ光は、上記位相回折格子５に
おいて３ビームにされた後、上記光ディスク８に形成さ
れているトラッキング用案内溝９上に、スポット９ａ、
９ｂ、９ｃとしてそれぞれ照射される。また、上記スポ
ット９ａ、９ｂ、９ｃとして照射された紫外レーザ光の
上記光ディスク８からの反射光は、上記光検出器１３に
それぞれスポット１３ａ、１３ｂ、１３ｃとして入射さ
れ、この光検出器１３によってそれぞれのスポットの光
量が検出される。
２６６ｎｍの遠紫外レーザ光は、上記位相回折格子５に
おいて３ビームにされた後、上記光ディスク８に形成さ
れているトラッキング用案内溝９上に、スポット９ａ、
９ｂ、９ｃとしてそれぞれ照射される。また、上記スポ
ット９ａ、９ｂ、９ｃとして照射された紫外レーザ光の
上記光ディスク８からの反射光は、上記光検出器１３に
それぞれスポット１３ａ、１３ｂ、１３ｃとして入射さ
れ、この光検出器１３によってそれぞれのスポットの光
量が検出される。
【００２５】尚、ここで、±１次回折光で形成されるス
ポット９ａ、９ｃに対応する上記光検出器１３上のスポ
ット１３ａ、１３ｃの位置に、一対の４象限光検出器を
配置することにより、円筒レンズを用いた非点収差法で
の合焦検出とスリービーム法によるトラッキング誤差信
号検出とを同時に行うことができる。
ポット９ａ、９ｃに対応する上記光検出器１３上のスポ
ット１３ａ、１３ｃの位置に、一対の４象限光検出器を
配置することにより、円筒レンズを用いた非点収差法で
の合焦検出とスリービーム法によるトラッキング誤差信
号検出とを同時に行うことができる。
【００２６】上述した構成の光ディスク記録装置には、
図２に示すように、気体を供給する気体供給手段である
気体圧力源４１、導管４２、及びバルブ４３と、上記気
体供給手段からの気体を、上記光ディスクのスポット照
射部上に吐出する吹き出しノズル４５とを備え、上記吹
き出しノズル４５からの気体の流れにより、上記光ディ
スク８に信号溝を形成する際に生じる上記光ディスク８
からの飛散物を除去する。
図２に示すように、気体を供給する気体供給手段である
気体圧力源４１、導管４２、及びバルブ４３と、上記気
体供給手段からの気体を、上記光ディスクのスポット照
射部上に吐出する吹き出しノズル４５とを備え、上記吹
き出しノズル４５からの気体の流れにより、上記光ディ
スク８に信号溝を形成する際に生じる上記光ディスク８
からの飛散物を除去する。
【００２７】具体的には、ピット形成時に、例えばポン
プ等の気体圧力源４１で加圧された気体が、ホース等か
ら成る導管４２を介してバルブ４３に送られる。このバ
ルブ４３では、気体の流量が制御される。これにより、
光ディスク８への気体の吹き付けの強さが制御される。
プ等の気体圧力源４１で加圧された気体が、ホース等か
ら成る導管４２を介してバルブ４３に送られる。このバ
ルブ４３では、気体の流量が制御される。これにより、
光ディスク８への気体の吹き付けの強さが制御される。
【００２８】この流量が制御された気体は、導管４４を
介して吹き出しノズル４５に送られ、この吹き出しノズ
ル４５の先端からピットが形成される位置に吐出され
る。吹き出しノズル４５は、対物レンズ６及び光ディス
ク８に対して、常に一定の位置関係を維持するように配
置され、また、この吹き出しノズル４５から吐出される
気体は、ほぼ一定方向に流れるように設置される。尚、
気体は、例えば乾燥した空気、酸素（Ｏ2）、ヘリウム
（Ｈｅ）等である。
介して吹き出しノズル４５に送られ、この吹き出しノズ
ル４５の先端からピットが形成される位置に吐出され
る。吹き出しノズル４５は、対物レンズ６及び光ディス
ク８に対して、常に一定の位置関係を維持するように配
置され、また、この吹き出しノズル４５から吐出される
気体は、ほぼ一定方向に流れるように設置される。尚、
気体は、例えば乾燥した空気、酸素（Ｏ2）、ヘリウム
（Ｈｅ）等である。
【００２９】これにより、ピットの形成に伴って飛散す
る光ディスク８の物質を除去する。
る光ディスク８の物質を除去する。
【００３０】ここで、上記飛散物が再び凝集して、光デ
ィスク８に付着することを防止するために、光ディスク
８の内周側にピットを形成する際には、光ディスク８の
中心方向に、吹き出しノズル４５から気体を吐出し、光
ディスク８の外周側にピットを形成する際には、光ディ
スク８の外周方向に、吹き出しノズル４５から気体を吐
出するように、吹き出しノズル４５を配置する。
ィスク８に付着することを防止するために、光ディスク
８の内周側にピットを形成する際には、光ディスク８の
中心方向に、吹き出しノズル４５から気体を吐出し、光
ディスク８の外周側にピットを形成する際には、光ディ
スク８の外周方向に、吹き出しノズル４５から気体を吐
出するように、吹き出しノズル４５を配置する。
【００３１】例えば、図３に示すように、光ディスク８
の内周側の×で示す位置Ｐ1にピットを形成するときに
は、吹き出しノズル４５を光ディスク８の外周側に配置
し、矢印ｓで示す光ディスク８の中心方向に気体を吐出
する。また、例えば、図４に示すように、光ディスク８
の外周側の×で示す位置Ｐ2にピットを形成するときに
は、吹き出しノズル４５を光ディスク８の内周側に配置
し、矢印ｓで示す光ディスク８の外周方向に気体を吐出
する。
の内周側の×で示す位置Ｐ1にピットを形成するときに
は、吹き出しノズル４５を光ディスク８の外周側に配置
し、矢印ｓで示す光ディスク８の中心方向に気体を吐出
する。また、例えば、図４に示すように、光ディスク８
の外周側の×で示す位置Ｐ2にピットを形成するときに
は、吹き出しノズル４５を光ディスク８の内周側に配置
し、矢印ｓで示す光ディスク８の外周方向に気体を吐出
する。
【００３２】さらに、上記吹き出しノズル４５と対向
し、上記吹き出しノズル４５から吐出する気体を吸引す
る吸引ノズル５５と、上記吸引ノズル５５により吸引さ
れた気体を収容する気体吸引手段である負圧源５１、導
管５２、及びバルブ５３とを備え、上記気体と共に上記
飛散物を吸引することにより、飛散物が再び凝集して、
光ディスク８に付着することを防止することができる。
し、上記吹き出しノズル４５から吐出する気体を吸引す
る吸引ノズル５５と、上記吸引ノズル５５により吸引さ
れた気体を収容する気体吸引手段である負圧源５１、導
管５２、及びバルブ５３とを備え、上記気体と共に上記
飛散物を吸引することにより、飛散物が再び凝集して、
光ディスク８に付着することを防止することができる。
【００３３】具体的には、図５に示すように、対物レン
ズ６を挟んで、吹き出しノズル４５に対向する、ほぼ対
称となる位置に吸引ノズル５５を配置する。この吸引ノ
ズル５５により、吹き出しノズル４５から吐出される気
体と共に、飛散物を吸引する。この吸引された気体及び
飛散物は、導管５４、バルブ５３、及びホース等から成
る導管５２を介して負圧源５１に収容される。
ズ６を挟んで、吹き出しノズル４５に対向する、ほぼ対
称となる位置に吸引ノズル５５を配置する。この吸引ノ
ズル５５により、吹き出しノズル４５から吐出される気
体と共に、飛散物を吸引する。この吸引された気体及び
飛散物は、導管５４、バルブ５３、及びホース等から成
る導管５２を介して負圧源５１に収容される。
【００３４】負圧源５１は、例えばポンプ等から成り、
吸引ノズル５５から気体及び飛散物を吸引するために、
内部の圧力が下げられて、吸引力が高めらる。また、バ
ルブ５３は、吸引される気体の流量を制御するものであ
る。これにより、吸引の強さが制御される。
吸引ノズル５５から気体及び飛散物を吸引するために、
内部の圧力が下げられて、吸引力が高めらる。また、バ
ルブ５３は、吸引される気体の流量を制御するものであ
る。これにより、吸引の強さが制御される。
【００３５】尚、吸引ノズル５５は、先端の断面積が広
く、広範囲に吸引が可能な形状であることが望ましい。
く、広範囲に吸引が可能な形状であることが望ましい。
【００３６】また、吹き出しノズル４５及び吸引ノズル
５５の形状は、筒型、または、筒型以外の変形した形状
であってもよい。
５５の形状は、筒型、または、筒型以外の変形した形状
であってもよい。
【００３７】また、吹き出しノズル４５及び吸引ノズル
５５の個数は、それぞれ１個に限定されることはなく、
複数個であってもよい。
５５の個数は、それぞれ１個に限定されることはなく、
複数個であってもよい。
【００３８】上述の光ディスク記録装置を用いて、光デ
ィスクの内の再生専用型光ディスクである、コンパクト
ディスク、いわゆるＣＤを読み出し専用メモリとして用
いるＣＤ−ＲＯＭの原盤に対して信号を記録し、ＣＤ−
ＲＯＭを大量に複製することができる。
ィスクの内の再生専用型光ディスクである、コンパクト
ディスク、いわゆるＣＤを読み出し専用メモリとして用
いるＣＤ−ＲＯＭの原盤に対して信号を記録し、ＣＤ−
ＲＯＭを大量に複製することができる。
【００３９】
【発明の効果】以上の説明からも明かなように、本発明
に係る光ディスク記録装置は、吹き出しノズルから光デ
ィスクのスポット照射部上に吐出する気体の流れによ
り、上記光ディスクに信号溝を形成する際に生じる上記
光ディスクからの飛散物を除去することにより、再生信
号のノイズの増加を抑え、信号の品質の悪化を防止する
ことができる。
に係る光ディスク記録装置は、吹き出しノズルから光デ
ィスクのスポット照射部上に吐出する気体の流れによ
り、上記光ディスクに信号溝を形成する際に生じる上記
光ディスクからの飛散物を除去することにより、再生信
号のノイズの増加を抑え、信号の品質の悪化を防止する
ことができる。
【００４０】また、上記吹き出しノズルと対向し、上記
吹き出しノズルから吐出する気体を吸引する吸引ノズル
により吸引された気体を収容して、上記気体と共に上記
飛散物を吸引することにより、さらに、再生信号のノイ
ズの増加を抑え、信号の品質の悪化を防止することがで
きる。
吹き出しノズルから吐出する気体を吸引する吸引ノズル
により吸引された気体を収容して、上記気体と共に上記
飛散物を吸引することにより、さらに、再生信号のノイ
ズの増加を抑え、信号の品質の悪化を防止することがで
きる。
【００４１】即ち、品質の良い信号を、光ディスクの一
枚毎に記録することが可能となるので、近年強まってい
る、光ディスクの一枚毎に異なる情報を記録する要求に
対しても、光ディスクの一枚毎に、異なる情報信号を品
質良く記録することができる。
枚毎に記録することが可能となるので、近年強まってい
る、光ディスクの一枚毎に異なる情報を記録する要求に
対しても、光ディスクの一枚毎に、異なる情報信号を品
質良く記録することができる。
【００４２】さらに、ＣＤ−ＲＯＭ等の光ディスクの一
枚毎に対して、大量に複製されるデータと固有の情報と
を品質良く記録することにより、新しいアプリケーショ
ンの実現を可能とする。
枚毎に対して、大量に複製されるデータと固有の情報と
を品質良く記録することにより、新しいアプリケーショ
ンの実現を可能とする。
【図１】本発明に係る光ディスク記録装置の実施の形態
の基本的な構成図である。
の基本的な構成図である。
【図２】本発明に係る光ディスク記録装置の一部の概略
的な構成図である。
的な構成図である。
【図３】光ディスクの内周側に信号の記録を行うときの
吹き出しノズルの位置を説明するための図である。
吹き出しノズルの位置を説明するための図である。
【図４】光ディスクの外周側に信号の記録を行うときの
吹き出しノズルの位置を説明するための図である。
吹き出しノズルの位置を説明するための図である。
【図５】本発明に係る光ディスク記録装置の一部の他の
概略的な構成図である。
概略的な構成図である。
４１ 気体圧力源 ４２、４４、５２、５４ 導管 ４３、５３ バルブ ４５ 吹き出しノズル ５１ 負圧源 ５５ 吸引ノズル
Claims (4)
- 【請求項１】 紫外レーザ光によるスポットを光ディス
クに照射して信号溝を形成し、信号の記録を行う光ディ
スク記録装置において、 気体を供給する気体供給手段と、 上記気体供給手段からの気体を、上記光ディスクのスポ
ット照射部上に吐出する吹き出しノズルとを備え、上記
吹き出しノズルからの気体の流れにより、上記光ディス
クに信号溝を形成する際に生じる上記光ディスクからの
飛散物を除去することを特徴とする光ディスク記録装
置。 - 【請求項２】 上記吹き出しノズルと対向し、上記吹き
出しノズルから吐出する気体を吸引する吸引ノズルと、 上記吸引ノズルにより吸引された気体を収容する気体吸
引手段とを備え、上記気体と共に上記飛散物を吸引する
ことを特徴とする請求項１記載の光ディスク記録装置。 - 【請求項３】 上記光ディスクの内周側に信号溝を形成
する際には、上記光ディスクの中心方向に、上記吹き出
しノズルから気体を吐出することを特徴とする請求項１
記載の光ディスク記録装置。 - 【請求項４】 上記光ディスクの外周側に信号溝を形成
する際には、上記光ディスクの外周方向に、上記吹き出
しノズルから気体を吐出することを特徴とする請求項１
記載の光ディスク記録装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31334095A JPH09153233A (ja) | 1995-11-30 | 1995-11-30 | 光ディスク記録装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31334095A JPH09153233A (ja) | 1995-11-30 | 1995-11-30 | 光ディスク記録装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09153233A true JPH09153233A (ja) | 1997-06-10 |
Family
ID=18040073
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31334095A Withdrawn JPH09153233A (ja) | 1995-11-30 | 1995-11-30 | 光ディスク記録装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09153233A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004055803A1 (en) * | 2002-12-13 | 2004-07-01 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Liquid removal in a method and device for irradiating spots on a layer |
| US7423955B2 (en) | 2003-03-24 | 2008-09-09 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Method for recording a lead-out on an optical disc |
-
1995
- 1995-11-30 JP JP31334095A patent/JPH09153233A/ja not_active Withdrawn
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004055803A1 (en) * | 2002-12-13 | 2004-07-01 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Liquid removal in a method and device for irradiating spots on a layer |
| CN100370533C (zh) * | 2002-12-13 | 2008-02-20 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 用于照射层的方法和用于将辐射导向层的装置 |
| US7358507B2 (en) | 2002-12-13 | 2008-04-15 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Liquid removal in a method and device for irradiating spots on a layer |
| KR100967835B1 (ko) * | 2002-12-13 | 2010-07-05 | 코닌클리케 필립스 일렉트로닉스 엔.브이. | 층상 스폿 조사 방법 및 장치에서의 액체 제거 |
| US7423955B2 (en) | 2003-03-24 | 2008-09-09 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Method for recording a lead-out on an optical disc |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20030204 |