JPH01297651A - 現像装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の目的１ （産業上の利用分野） 本発明は、光ディスク等の情報記憶媒体の製造工程にお
ける、原盤の現像処理を行なう現像装置に関する。

（従来の技術） 近年、光ディスク等の情報記憶媒体が画像情報記憶検索
装置や、音楽あるいは映像再生装置等で広く用いられる
ようになっている。この情報記憶媒体は、通常原盤から
形成されるスタンパを成形型として人聞に複製される。

以下、簡単に情報記憶媒体である光ディスクの製造工程
を第３図、第４図を参照して簡単に説明する。

第３図（１）に示される原盤１０１は、円盤状のガラス
基板１０３の表面を精密研磨及び、洗浄し、さらに露光
転写用のフォトレジスト１０５を均一な膜厚、例えば０
．１μｍ程度になるように塗布し、その後乾燥したもの
である。

この原盤１０１を第３図（２）に示される様に、図示し
ないスピンドルモータ等によって回転するターンテーブ
ルに載置して、例えば１８００ｒｐｍで定速度回転させ
ると共に、この原盤１０１の所定位置に対物レンズ１２
２によってスポット状ニ集束されたアルゴンレーザやト
１ｅ−Ｃｄレーザ等のレーザ光１２０を所定の時間、照
射、露光する。

この露光によってフォトレジスト１０５層内に潜像１０
７を形成する。

次に現像処理工程を説明する。第４図に示すように、ス
ピンドルモータ２２７笠を回転駆動源として回転するタ
ーンテーブル２２５に固定された原盤１０１に純水ノズ
ル２２１から純水を流出させて原盤１０１の洗浄、づな
わちブレリンスを行なう。次に現像液ノズル２２３から
現像液（エツチング液）を吹きつけてフォトレジスト１
０５の露光部分を除去することで、潜像１０７から第３
図（３）の要部拡大図に示すような連続溝あるいは不連
続溝からなる案内溝であるプレグルーブや、情報に従っ
て形成されるビット（以下、これらプレグルーブやビッ
ト等を総称して単にグループ１０９という）を得る。ざ
らにこの現像処理の終了した原盤１０１の表面に上記純
水ノズル２２１がら純水を流出させて、原？ｆＡ１０１
に付着した現像液を洗浄、すなわちポストリンスを行な
う。次に、現像を停止した後に原盤１０１の高速回転に
よるスピン乾燥、あるいは窒素ブローノズル２２２から
窒素ガスを原Ｗ１０１に向けて噴出する窒素ブロー乾燥
を行ない、原盤１０１を乾燥して、現像処理を終了する
。

尚、このとき純水ノズル２２１等はアームによって揺動
自在に支持され、原盤１０１の略半径方向に水平に移動
して純水等の洗浄液が原１１０１の全面に渡って流れる
ように構成される。

次に、第３図（４）の要部断面図に示すように、この原
盤１０１にニッケルメッキを施して樹脂成形の型となる
スタンパ１１１を成形する。

さらに第３図（５）に示すようにこのスタンパ１１１を
もとにした射出成形等のプラスチック成形によってレプ
リカ１１３を成形する。

この後に第３図（６）に示すように、蒸着等によりアル
ミニウム反射膜や記録１１１１５を形成し、ざらにこの
上面を透明な保護層１１７で被覆等して、光ディスクが
完成する。

尚、上述した現像処理は通常、処理時間を目安にして行
なわれるが、例えば原盤１０１の回転速度、現像液濃度
および現像液温度等によって現像速度が異なり、従って
現像処理時間が同じであっても、グループ１０９の形成
状況、例えばグループ１０９の幅、深さが異なる。

そのため、より適確な現像処理を行なうために、グルー
プ１０９の形成状況を観察しながら処理工程を進めるこ
とが望まれ、例えばこれらグループパターンを回折格子
とみなして、このグループ１０９にレーザ光を照射する
ことによって得られる回折光強度等を観察することによ
って間接的にグループ１０９の形成状況を監視する監視
手段を備えた現像装置が実用化されていた。

この従来の現＆装置の監視手段の構成について第４図を
用いて説明する。

原盤１０１は、モータ２２７を駆動源として所定の回転
速度で回転するターンテーブル２２５上に固定される。

また光学系部分は、アルゴンレーザ等のレーザ光を出力
するレーザ光＋１ｉ；１２０３と、レープ光源２０３か
ら発射されたレーザ光２３１を、原盤１０１の所定の位
置を下面側から照射するビームスプリッタ２０４と、こ
の照射されたレーザ光２３１が原盤１０１を透過した際
に得られる回折光２３２等を原盤１０１の上面側で受光
する検出器２０７によって構成される。またこの検出器
２０７は複数の検出素子、例えば前記回折光２３２の内
、０次光を検出する検出素子２０７ａ、１次光を検出す
る検出素子２０７ｂ、・・・等によって構成される。

現像液の流量等の制御等を行なう制御系は、検出素子２
０７ａ　、２０７ｂ　、・・・からパラレルに得られる
検出信号を増幅し、回折光強度比（例えば、１次光強度
１０次光強度）を求める処理部２０９と、この処理部２
０９から出力される回折光強度比信号に従って電磁弁２
１３を制御して現像液の流１ｄの制御を行なう制御部２
１１によって構成される。

一方、この回折光強度比を用いた監視手段とは別に現像
時間タイマ２４１をｌｔＪ、予め設定される各処理毎の
処理時間に従って現像処理を行なうことも０（せて行な
われていた。

〈発明が解決しようとする課題） 上述したように従来の現像処理装置においては、現像処
理の終了した原盤を洗浄した後の乾燥処理を、前記現像
時間タイマによって予め設定される時間だけ行なわれる
ように構成されている。

従ってこの現像時間タイマに予め設定される乾燥時間は
、従来乾燥処理の進行状況を判別する手段が存在してい
ないため、処理環境の変化に伴って変動する乾燥時間等
を考慮して十分な余裕時間を見込んで設定されていた。

そのため、場合によっては乾燥処理が必要以上に行なわ
れるところとなり、時間的ロス、電力あるいは窒素ガス
のａ費等の生産性の低下は免がれ（りないものとなって
いた。

本発咀は、上記事情に鑑みてなされたもので、その目的
としては、現像処理における乾燥工程の処理時間の短縮
等を計り、生産性の向上を達成し１！ｌる現像装置を提
供することにある。

［発明の構成］ （課題を解決するための手段） 上記目的を達成するため、本発明は、被現像体に形成さ
れる潜像に現像処理を施す現＆装四において、前記被現
像体を洗浄後、当該被現像体を乾燥する乾燥手段と、前
記被現像体に光ビームを投射すると共に、この光ビーム
の投射によって得られる検出光を受光する観察手段と、
この観察手段から出力される検出信号に基づいて前記乾
燥手段の制御を行なって、乾燥処理のｇｉｌｌ　ｔｌｌ
を行なう制御手段とを有して構成した。

（作用） 本発明における現ｍ装置においては、被現像体に形成さ
れた潜像に現像処理を行なう際に、現像の終了後、この
被現像体に付着する現像液を純水等の洗浄液によって洗
浄してこの現像液を洗い流して、現像の進行を中止する
。次にこの洗浄液等によって洗浄された被現像体の乾燥
を乾燥手段によって行なう。このときこの被現像体には
観察手段から光ビームが投射され、この光ビームが被現
像体を透過あるいは反射される際に得られる、例えば回
折光等の検出光を観察し、この観察結果に基づいて制御
手段は前記乾燥手段の制御を行なうようにしている。そ
のため必要以上の乾燥処理が行なわれることが避けられ
る。

（実施例） 以下、図面を用いて本発明の一実施例を詳細に説明する
。

第１図は本実施例の全体の概略の構成を示す図である。

原盤１０１は、定速度回転する［−夕２７によって回転
駆動されるターンテーブル２５に載置、固定されている
。

この原盤１０１の任意の位置の上方には、現像液ノズル
２３が配設される。この現像液ノズル２３からの現像液
りの吐出量は、制御弁１３の開閉用によって変更される
。

原盤１０１の下面側の所定位置には、ビームスプリッタ
４がレーザ光源３から出力されたレーザ光３１の光軸上
に配設されており、水平方向から入射したレーザ光３１
を垂直に原１１０１の下面方向から上方に向けて照射す
る。

また原！１Ｊ１０１の上方の、前記ビームスプリッタ４
に対向でる位置には、複数の検出器７ａ１７ｂ、・・・
からなる検出部７が配設されて、ビームスプリッタ４で
反射されたレーデ光３３が原盤１０１の現像領域で回折
されて到達する０次の回折光、１次の回折光、・・・の
回折光強度をそれぞれ測定する。

尚、ビームスプリッタ４と検出器７の原ｌ！Ａ１０１の
中心からの水平距離は、例えば現像液ノズル２３の原盤
１０１の中心からの水平距離に略等しくなるように設定
される。

前記検出部７から出力される検出信号は、この検出部７
に接続される処理部９に出力される。

処理部９は、前記検出器７を構成する複数の検出素子７
ａ、７ｂ、・・・からの信号をパラレルに受けて、この
各検出素子７ａ　、７ｂ・・・から得られる検出信号か
ら回折光強度比を求めて、後段の制御部１１に出力する
。

制御部１１は処理部９から、回折光強度比に係る信号を
受けて、流鼠制御１部１３を制御すると共に、モータ２
７を制御して原！！１３１０１のスピン乾燥時における
ターンテーブル２５の高速回転駆動と洗浄、現像時にお
けるターンテーブル２５の定速度回転駆動を行なう。

また、前記流量制御部１３は、電磁弁を有し、制御部１
１からの信号に基づいて、原盤１０１に対して現像液ノ
ズル２３から現像液りを噴出する際の、噴出ｍを電磁弁
の開閉によって変更する。

次に本実施例の作用を第２図の回折光強度比の変動を概
略的に表わすグラフを参照して、現像処理工程に従って
説明する。

露光処理の施された原盤１０１を、ターンテーブル２５
上に載置した後、一定速度で回転駆動する。次に純水ノ
ズル２１の先端を原盤の半径方向に移動させながら、こ
の定速度回転する原盤１０１に純水ノズルから純水を吐
出させてブレリンスを約２分間行なう。この時の０次光
に対する１次光の回折光強度比を、第２図の区画△に示
す。

このプレリンスが終了した後に、現像液りを現像液ノズ
ル２３から吐出、あるいはスプレー状に噴出して、露光
によって形成された潜像部分のフＡトレジスト１０５の
除去を行なう。この現像処理の進行状況は、原盤１０１
に照射したレーザ光３３による回折光強度比（第２図の
区画Ｂに示ず）をモニタすることによって監視される。

すなわら、現像液ノズル２３から噴出される現像液りの
噴出噴は、当該現像液ノズル２３に対応する位首に配設
される検出器７で監視される現像処理の進行状況に応じ
て制御され、例えば概ね４０秒間後に予め設定される基
準強度比を越えたときに噴出が停止される。

次にこの現像液りを洗浄するために、純水ノズル２１か
ら純水を３〜５分間（第２図区間Ｃ）、吐出してポスト
リンスを実施する。

最後にこの洗浄の終了した原盤１０１のスピン乾燥を行
なうためにターンテーブル２５の高速回転駆動を行なう
。第２図区間りに示すように、原盤１０１の表面の水分
の減少と共に回折光強度比も増大し、乾燥すると区画Ｅ
に示すように急激に回折光強度比が激増するので、この
ときｉｉ制御部１１からモータ２７にモータ２７の回転
停止信号を出力しそターンテーブル２７の回転を停止す
る。

このようにして、回折光強度比を観察することによって
原盤１０１の乾燥をスピン乾燥を断続した状態ぐ適確に
判別することができるので、作業性の効率化と共に乾燥
時間の短縮を計ることもできる。　尚、本実施例におい
ては乾燥手段としては原盤１０１を高速回転するスピン
乾燥を例に説明したが、窒素ガスの噴出による乾燥にお
いても同様に行なうことができる。

［発明の効果］ 本発明における現ｍ装置においては、被現像体の乾燥状
態を、光学的に観察して、判別することができるので乾
燥作業を中断することなく短時間で乾燥処理を終了する
ことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の一実施例を示す概略ＭＩｔＩＲ図、
第２図は第１図に係る回折光強度比の一例を示すグラフ
、第３図は光ディスクの製造工程を説明する図、第４図
は従来の装置の概略構成図である。 ３・・・レーザ光源 ７・・・検出部 ９・・・処理部 １１・・・制御部 １３・・・流化制御部 ２３・・・現像液ノズル ２７・・・モータ 代理人ノＩＪ上士、Ｅ　　好１呆男

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 被現像体に形成される潜像に現像処理を施す現像装置に
   おいて、 前記被現像体を洗浄後、当該被現像体を乾燥する乾燥手
   段と、 前記被現像体に光ビームを投射すると共に、この光ビー
   ムの投射によって得られる検出光を受光する観察手段と
   、 この観察手段から出力される検出信号に基づいて前記乾
   燥手段の制御を行なつて、乾燥処理の制御を行なう制御
   手段と、 を有することを特徴とする現像装置。