JPH06180866A - 光ディスク原盤の製造方法 - Google Patents
光ディスク原盤の製造方法Info
- Publication number
- JPH06180866A JPH06180866A JP35335892A JP35335892A JPH06180866A JP H06180866 A JPH06180866 A JP H06180866A JP 35335892 A JP35335892 A JP 35335892A JP 35335892 A JP35335892 A JP 35335892A JP H06180866 A JPH06180866 A JP H06180866A
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- JP
- Japan
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- area
- recording
- bit
- monitor
- pit
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- Optical Recording Or Reproduction (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 狭小のトラックピッチを有する高密度光ディ
スクで高精度のピット形状の制御を行う。 【構成】 感光剤を塗布した原盤にレーザ光を照射して
ピットを記録する原盤記録で、情報記録領域外に、記録
信号の中心周波数に相当する単一周波数を記録するモニ
タ領域を設け、このモニタ領域に記録したピット列とラ
ンド部を径方向で直線上に整列させると共に、モニタ領
域にレーザビームを照射して前記ピット列の接線方向に
生じる回折光を受光し、現像時間の制御，処理を行う。
スクで高精度のピット形状の制御を行う。 【構成】 感光剤を塗布した原盤にレーザ光を照射して
ピットを記録する原盤記録で、情報記録領域外に、記録
信号の中心周波数に相当する単一周波数を記録するモニ
タ領域を設け、このモニタ領域に記録したピット列とラ
ンド部を径方向で直線上に整列させると共に、モニタ領
域にレーザビームを照射して前記ピット列の接線方向に
生じる回折光を受光し、現像時間の制御，処理を行う。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、再生専用型光ディスク
原盤の製造方法に関し、特に高密度の光ディスク原盤の
製造方法に関するものである。
原盤の製造方法に関し、特に高密度の光ディスク原盤の
製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】コンパクトディスク，レーザーディスク
等の音楽，画像情報を記録した再生専用型光ディスク
は、フォトレジストを塗布したガラス原盤にレーザ光を
照射し露光した後、現像処理によってピットを形成して
いる。次に前記原盤よりスタンパ金型を作成し、射出成
型により大量のディスクを作製している。この様に光デ
ィスク原盤のピット形状は、ディスク品質に寄与するこ
とから、より正確な露光あるいは現像処理が要求され
る。
等の音楽，画像情報を記録した再生専用型光ディスク
は、フォトレジストを塗布したガラス原盤にレーザ光を
照射し露光した後、現像処理によってピットを形成して
いる。次に前記原盤よりスタンパ金型を作成し、射出成
型により大量のディスクを作製している。この様に光デ
ィスク原盤のピット形状は、ディスク品質に寄与するこ
とから、より正確な露光あるいは現像処理が要求され
る。
【０００３】一般に、露光量の変動や現像液濃度及びレ
ジスト感度のばらつき等によって生じるピットの形状変
化を防止するために、自動現像による処理が行われてい
る。図４の概略構成図によって説明すると、記録後のガ
ラス原盤１の情報領域２にＨｅ−Ｎｅレーザ５の様な光
源から、レジスト層を感光しない波長を有するビームを
照射し、現像中に生じる半径方向の回折光９をモニタ
し、その光強度の値を測定して現像時間を制御すること
により、正確なピット形状を得ようとするものである。
ジスト感度のばらつき等によって生じるピットの形状変
化を防止するために、自動現像による処理が行われてい
る。図４の概略構成図によって説明すると、記録後のガ
ラス原盤１の情報領域２にＨｅ−Ｎｅレーザ５の様な光
源から、レジスト層を感光しない波長を有するビームを
照射し、現像中に生じる半径方向の回折光９をモニタ
し、その光強度の値を測定して現像時間を制御すること
により、正確なピット形状を得ようとするものである。
【０００４】一般に、ピットを矩形として仮定し、ピッ
ト長とランド長の比（ピットデューティ）が５０％で配
列している場合、ｎ次の回折強度は Ｉn＝Ｗ 2／Ｐ2・Ｓin ｃ2（ｎＷ／Ｐ）・〔１−ｃos（４
Ｄπ／λ）〕 で表される。ここでＷはピット幅，Ｐはトラックピッ
チ，Ｄはピット深さ，λはレーザ波長を示している。
ト長とランド長の比（ピットデューティ）が５０％で配
列している場合、ｎ次の回折強度は Ｉn＝Ｗ 2／Ｐ2・Ｓin ｃ2（ｎＷ／Ｐ）・〔１−ｃos（４
Ｄπ／λ）〕 で表される。ここでＷはピット幅，Ｐはトラックピッ
チ，Ｄはピット深さ，λはレーザ波長を示している。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】近年、再生用半導体レ
ーザの短波長化が図られ、従来以上の低線速，狭トラッ
クピッチでの記録による高密度光ディスクの再生が行わ
れている。ところで前記高密度光ディスク原盤におい
て、特に狭トラックピッチによる原盤では、前式よりト
ラックピッチが１μｍ以下、即ちレーザ波長に近くなっ
た場合、ピット幅、ピット長の変化に対する回折光強度
の変化量は少なく、むしろピット深さの変化量で左右さ
れることになる。更に実際の記録信号は、変調が行われ
ている為に種々のピットサイズが存在し、ビームの照射
位置によっては、回折強度に差異を生じる等、正確なピ
ット幅，ピットデューティの管理が行えないという欠点
を有していた。
ーザの短波長化が図られ、従来以上の低線速，狭トラッ
クピッチでの記録による高密度光ディスクの再生が行わ
れている。ところで前記高密度光ディスク原盤におい
て、特に狭トラックピッチによる原盤では、前式よりト
ラックピッチが１μｍ以下、即ちレーザ波長に近くなっ
た場合、ピット幅、ピット長の変化に対する回折光強度
の変化量は少なく、むしろピット深さの変化量で左右さ
れることになる。更に実際の記録信号は、変調が行われ
ている為に種々のピットサイズが存在し、ビームの照射
位置によっては、回折強度に差異を生じる等、正確なピ
ット幅，ピットデューティの管理が行えないという欠点
を有していた。
【０００６】
【課題を解決するための手段】そのため本発明では、情
報記録領域外に、単一周波数を記録したモニタ領域を設
け、現像処理時には、径方向に直線上に整列させたピッ
ト列とランド部によって接線方向に生じる回折光を受光
し、所定の強度で現像を停止させる様にしたものであ
る。
報記録領域外に、単一周波数を記録したモニタ領域を設
け、現像処理時には、径方向に直線上に整列させたピッ
ト列とランド部によって接線方向に生じる回折光を受光
し、所定の強度で現像を停止させる様にしたものであ
る。
【０００７】
【作用】従って本発明によれば、位相の揃った単一周波
数のピット列にレーザ光を照射するため、記録周波数に
相当する波長に対するピット長さ、即ち、ピットデュー
ティに対応した回折強度が得られる。
数のピット列にレーザ光を照射するため、記録周波数に
相当する波長に対するピット長さ、即ち、ピットデュー
ティに対応した回折強度が得られる。
【０００８】
【実施例】図１は、本発明の一実施例を示す概略構成図
であり、ガラス原盤１内にモニタ用の単一周波数を、角
速度一定（ＣＡＶ）の条件で情報領域２の外周に２〜３
ｍｍの幅でモニタ領域３に記録している。図２はモニタ
領域でのピット列４の拡大図を示している。原盤下部よ
りＨｅ−Ｎｅレーザ５（ビーム径約 ０.８ｍｍ）が照射
されており、現像液の適下により回折光が生じる。
であり、ガラス原盤１内にモニタ用の単一周波数を、角
速度一定（ＣＡＶ）の条件で情報領域２の外周に２〜３
ｍｍの幅でモニタ領域３に記録している。図２はモニタ
領域でのピット列４の拡大図を示している。原盤下部よ
りＨｅ−Ｎｅレーザ５（ビーム径約 ０.８ｍｍ）が照射
されており、現像液の適下により回折光が生じる。
【０００９】このモニタ領域３に記録した記録ピットの
ピット列４は単一周波数のため、ピット長，ランド長と
も揃っていて、隣接トラックのピットとも整列している
ので、ランド部６と共に径方向に直線上に整列する。そ
のため記録ピット列４とランド部６によって接線方向に
生じた回折光７を原盤上部の接線方向に配置した光検出
器８により回折光強度を測定し、所定のピットデューテ
ィに対応した値で現像を停止する。例えば、トラックピ
ッチ０.８μｍ，線速度約１.２５ｍ／ｓとなる角速度一
定（ＣＡＶ）の条件で５００ＫＨｚの単一周波数を記録
した場合、図３の特性図に示すように、ピットデューテ
ィが５０％で最大となる１次回折光を得ることができ
る。
ピット列４は単一周波数のため、ピット長，ランド長と
も揃っていて、隣接トラックのピットとも整列している
ので、ランド部６と共に径方向に直線上に整列する。そ
のため記録ピット列４とランド部６によって接線方向に
生じた回折光７を原盤上部の接線方向に配置した光検出
器８により回折光強度を測定し、所定のピットデューテ
ィに対応した値で現像を停止する。例えば、トラックピ
ッチ０.８μｍ，線速度約１.２５ｍ／ｓとなる角速度一
定（ＣＡＶ）の条件で５００ＫＨｚの単一周波数を記録
した場合、図３の特性図に示すように、ピットデューテ
ィが５０％で最大となる１次回折光を得ることができ
る。
【００１０】
【発明の効果】本発明によれば、１μｍ以下の狭小トラ
ックピッチを有する高密度光ディスクにおいても、ピッ
トデューティに対応した回折強度が得られるため、高精
度のピット形状の制御ができる。
ックピッチを有する高密度光ディスクにおいても、ピッ
トデューティに対応した回折強度が得られるため、高精
度のピット形状の制御ができる。
【図１】本発明の一実施例を示す概略構成図。
【図２】図１の拡大図。
【図３】本発明を説明する特性図。
【図４】従来例を示す概略構成図。
１ ガラス原盤 ２ 情報領域 ３ モニタ領域 ４ ピット列 ５ Ｈｅ−Ｎｅレーザ ６ ランド部 ７ 接線方向の回折光 ８ 光検出器 ９ 径方向の回折光
Claims (1)
- 【請求項１】 感光剤を塗布した原盤にレーザ光を照射
してピットを記録する原盤記録において、情報記録領域
外に、記録信号の中心周波数に相当する単一周波数を記
録するモニタ領域を設け、該モニタ領域に記録したピッ
ト列とランド部を径方向で直線上に整列させると共に、
前記モニタ領域にレーザビームを照射して前記ピット列
の接線方向に生じる回折光を受光し、現像時間の制御，
処理を行うことを特徴とする光ディスク原盤の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35335892A JPH06180866A (ja) | 1992-12-11 | 1992-12-11 | 光ディスク原盤の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35335892A JPH06180866A (ja) | 1992-12-11 | 1992-12-11 | 光ディスク原盤の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06180866A true JPH06180866A (ja) | 1994-06-28 |
Family
ID=18430298
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35335892A Withdrawn JPH06180866A (ja) | 1992-12-11 | 1992-12-11 | 光ディスク原盤の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06180866A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100466064C (zh) * | 2005-01-18 | 2009-03-04 | 索尼株式会社 | 原版盘制作设备、原版盘制作方法 |
-
1992
- 1992-12-11 JP JP35335892A patent/JPH06180866A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100466064C (zh) * | 2005-01-18 | 2009-03-04 | 索尼株式会社 | 原版盘制作设备、原版盘制作方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000307 |