JPS60103830U - 回転現像装置 - Google Patents

回転現像装置

Info

Publication number
JPS60103830U
JPS60103830U JP19613583U JP19613583U JPS60103830U JP S60103830 U JPS60103830 U JP S60103830U JP 19613583 U JP19613583 U JP 19613583U JP 19613583 U JP19613583 U JP 19613583U JP S60103830 U JPS60103830 U JP S60103830U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor material
developing device
photosensitizer
rotary developing
developing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP19613583U
Other languages
English (en)
Inventor
憲一 山本
Original Assignee
株式会社東芝
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 株式会社東芝 filed Critical 株式会社東芝
Priority to JP19613583U priority Critical patent/JPS60103830U/ja
Publication of JPS60103830U publication Critical patent/JPS60103830U/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図ａおよびｂは従来の回転現像装置の構成を示す平
面図および側面図、第２図ａおよびｂは本考案に係る回
転現像装置の一実施例の構成を示す平面図および側面図
、第３図は同実施例の作用を従来装置と比較して説明す
るために、半導体材料の径方向距離と解像度との関係を
示した線図である。 １・・・半導体材料としての半導体ウェファ、２・・・
回転板、１１・・・現像ノズル、１２・・・洗浄ノズル
、１３・・・周辺現像ノズル、２１．２２．　２３・・
・電磁弁。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 １　平面部に感光剤が塗布された半導体材料を、該感光
    剤の塗布面が略同一平面上を移動するように回転させる
    と共に、該感光剤の塗布面に対向配置された現像ノズル
    により、回転中心から径方向に帯状に延び、且つ、回転
    半径よりも長いスプレィパターンを形成させて現像を行
    う回転現像装置において、回転中心から離隔した部位に
    現像剤のスプレィパターンを形成させ、前記半導体材料
    の周辺部を現像する周辺現像ノズルを設けたことを特徴
    とする回転現像装置。 ２　前記周辺現像ノズルは径方向に帯状に延びるスプレ
    ィパターンを形成させる実用新案登録請求の範囲第１項
    記載の回転現像装置。 ３　前記半導体材料は円板状をなし、該半導体材料の略
    中心部を回転中心とする実用新案登録請求の範囲第１項
    または第２項記載の回転現像袋　　　　。 置。
JP19613583U 1983-12-20 1983-12-20 回転現像装置 Pending JPS60103830U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19613583U JPS60103830U (ja) 1983-12-20 1983-12-20 回転現像装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19613583U JPS60103830U (ja) 1983-12-20 1983-12-20 回転現像装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS60103830U true JPS60103830U (ja) 1985-07-15

Family

ID=30420968

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP19613583U Pending JPS60103830U (ja) 1983-12-20 1983-12-20 回転現像装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS60103830U (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60179957A (ja) * 1984-02-27 1985-09-13 Hitachi Ltd 光ディスクのスピン現像方法及び装置
JPH01302819A (ja) * 1988-05-31 1989-12-06 Fujitsu Ltd スプレィ現像装置

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54102123A (en) * 1978-01-27 1979-08-11 Matsushita Electric Ind Co Ltd Developing method
JPS5817444A (ja) * 1981-07-24 1983-02-01 Hitachi Ltd フオトレジスト現像装置
JPS5846643A (ja) * 1981-09-12 1983-03-18 Mitsubishi Electric Corp ウエハ処理法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54102123A (en) * 1978-01-27 1979-08-11 Matsushita Electric Ind Co Ltd Developing method
JPS5817444A (ja) * 1981-07-24 1983-02-01 Hitachi Ltd フオトレジスト現像装置
JPS5846643A (ja) * 1981-09-12 1983-03-18 Mitsubishi Electric Corp ウエハ処理法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60179957A (ja) * 1984-02-27 1985-09-13 Hitachi Ltd 光ディスクのスピン現像方法及び装置
JPH01302819A (ja) * 1988-05-31 1989-12-06 Fujitsu Ltd スプレィ現像装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS60103830U (ja) 回転現像装置
JPS5842052U (ja) 活字ホイ−ル
JPH0298655U (ja)
JPS58132573U (ja) 回転塗布装置
JPS62140725U (ja)
JPS61140535U (ja)
JPH01164034A (ja) ウェハース周辺部膜厚均一化機構
JPH0632673Y2 (ja) レジスト塗布装置
JPS6411541U (ja)
JPS6088338U (ja) フオトマスク
JPS6096821U (ja) 半導体製造装置
JPS58184837U (ja) スピンコ−タ
JPH0321848U (ja)
JPS59173341U (ja) 回転塗布装置
JPH0411721A (ja) レジスト塗布装置
JPS6379646U (ja)
JPS59173339U (ja) 半導体装置製造用回転ステ−ジの支持装置
JPS58175543U (ja) スピンナ装置
JPS6376473U (ja)
JPS60193552U (ja) レジスト現像装置
JPS6094660U (ja) レジスト塗布装置
JPS59192835U (ja) スピンナ
JPS63100825U (ja)
JPS60117034U (ja) 半導体真空回転チヤツク
JPS61131270U (ja)