JPS60169850A - 自動現像機 - Google Patents
自動現像機Info
- Publication number
- JPS60169850A JPS60169850A JP2511584A JP2511584A JPS60169850A JP S60169850 A JPS60169850 A JP S60169850A JP 2511584 A JP2511584 A JP 2511584A JP 2511584 A JP2511584 A JP 2511584A JP S60169850 A JPS60169850 A JP S60169850A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diffracted light
- development
- developer
- primary diffracted
- disk
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03D—APPARATUS FOR PROCESSING EXPOSED PHOTOGRAPHIC MATERIALS; ACCESSORIES THEREFOR
- G03D5/00—Liquid processing apparatus in which no immersion is effected; Washing apparatus in which no immersion is effected
- G03D5/04—Liquid processing apparatus in which no immersion is effected; Washing apparatus in which no immersion is effected using liquid sprays
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は情報円盤の自動現像機に関する。
ビデオディスクやディジタルオーディオディスクなど高
密度情報円盤の製造工程ではフォトレジスト’にガラス
円盤上に塗布した後レーザー記録。
密度情報円盤の製造工程ではフォトレジスト’にガラス
円盤上に塗布した後レーザー記録。
現Ｉ１１！を行う方法が用いられている。この現像工程
ではレーザー記録された原盤に例えばアルカリ性の現像
液を滴下して露光した部分のフォトレジストを溶解させ
記録ピッ）ｔ−成形する。この現ｆ象工程をモニタする
ために現像中のガラス原盤にレーザー光を照射し１．成
形されたピットで生じる回折光を測定する方法が良く用
いられている。こめことはＶｉｄｅｏ Ｄｉｓｃ Ｔｅ
ｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｏｖｅｒｖｉｅｗ、 ｇｌｅｃｔｒ
ｏ／８１２５に詳しく述べられており、一定の形状のビ
ラトラ持つ情報円盤は一定の回折光量をもっていること
が示されている。
ではレーザー記録された原盤に例えばアルカリ性の現像
液を滴下して露光した部分のフォトレジストを溶解させ
記録ピッ）ｔ−成形する。この現ｆ象工程をモニタする
ために現像中のガラス原盤にレーザー光を照射し１．成
形されたピットで生じる回折光を測定する方法が良く用
いられている。こめことはＶｉｄｅｏ Ｄｉｓｃ Ｔｅ
ｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｏｖｅｒｖｉｅｗ、 ｇｌｅｃｔｒ
ｏ／８１２５に詳しく述べられており、一定の形状のビ
ラトラ持つ情報円盤は一定の回折光量をもっていること
が示されている。
第１図は従来用いられてきた自動現像器の構成を示す図
である。ガラス原盤１１は現像液滴下ノズル１２から現
像液の滴下を受けると同時に、回転モータ１３により回
転しているので、現像液はガラス原盤全面にわたって均
等に流れる。 一方Ｈｅ Ｎ ｅレーザ１４から発射さ
れた光ビームはガラス原盤１１ヲ照射し、その−次回折
光は光検出器１５で検出される。現像が進むに従って記
録がビット状に成形され１次回折光量が大きくなり規定
のレベルに達すると、比較器１６によって現像液制御バ
ルブ１７ヲ閉じて現ｆ象を終ｒさせる。また同時に純水
パルプ１８が開い〔ガラス原盤の洗浄が始まる。＄２図
は１次回折光量が現像進行によっＣ変化する様子を示し
たものである。
である。ガラス原盤１１は現像液滴下ノズル１２から現
像液の滴下を受けると同時に、回転モータ１３により回
転しているので、現像液はガラス原盤全面にわたって均
等に流れる。 一方Ｈｅ Ｎ ｅレーザ１４から発射さ
れた光ビームはガラス原盤１１ヲ照射し、その−次回折
光は光検出器１５で検出される。現像が進むに従って記
録がビット状に成形され１次回折光量が大きくなり規定
のレベルに達すると、比較器１６によって現像液制御バ
ルブ１７ヲ閉じて現ｆ象を終ｒさせる。また同時に純水
パルプ１８が開い〔ガラス原盤の洗浄が始まる。＄２図
は１次回折光量が現像進行によっＣ変化する様子を示し
たものである。
しかし現像液の滴下全土めても現１象の進行はすぐには
停止しない。このことが従来の自動現像装置では現像し
た原盤の一次回折光量全一定にしない原因となっＣいた
。
停止しない。このことが従来の自動現像装置では現像し
た原盤の一次回折光量全一定にしない原因となっＣいた
。
この発明は上述した従来装置の欠点全改良したもので、
一定した回折光ｔｔ−持つ情報円盤の自動現像装置を提
供することを目的とする。
一定した回折光ｔｔ−持つ情報円盤の自動現像装置を提
供することを目的とする。
この発明は情報円盤の現１象時に、情報円盤に照射した
光ビームの回折光量が規定の約９０にに達した時点から
、濃度の低い現像液を情報円盤に流し、現像速度を低く
して、回折光量が規定の値に達して現像が終了した後に
も現１象が進行する現象を低減したものである。
光ビームの回折光量が規定の約９０にに達した時点から
、濃度の低い現像液を情報円盤に流し、現像速度を低く
して、回折光量が規定の値に達して現像が終了した後に
も現１象が進行する現象を低減したものである。
この発明により現１象後一定の１次回折光量金持つ情報
円盤を製作できる。また現像速度が遅くなるため、−次
回折光量の測定も正確に行うことが可能となる。
円盤を製作できる。また現像速度が遅くなるため、−次
回折光量の測定も正確に行うことが可能となる。
以下この発明を図面を参照して詳細に説明する。
第３図はこの発明の一実施例を示すものである。
現像が開始されるとガラス原盤３１は現像液滴下ノズル
３２から現１象液の滴下を受ける。またガラス原盤は回
転モータ３３により回転しているので現像液はガラス原
盤全面にわたっＣ均等に流れる。
３２から現１象液の滴下を受ける。またガラス原盤は回
転モータ３３により回転しているので現像液はガラス原
盤全面にわたっＣ均等に流れる。
一方ＨｅＮｅレーザ３４から発射された光ビームはガラ
ス原盤３１ヲ照射し、その−次回折光は光検出器３５で
検出され、現像状態がモニタされる。
ス原盤３１ヲ照射し、その−次回折光は光検出器３５で
検出され、現像状態がモニタされる。
現像が進行し１次回折光量が規定の約９０πになると、
現隊制御装［３６は純水パルプ３７ヲ開く。
現隊制御装［３６は純水パルプ３７ヲ開く。
純水は混合器３８で現ｒ象嵌と混合され低濃度現像液と
なってノズル３２からガラス原盤３１に滴下される。現
像液の濃度が低下すると現１象速度も低下し、１次回折
光量の増加速度も小さくなる。
なってノズル３２からガラス原盤３１に滴下される。現
像液の濃度が低下すると現１象速度も低下し、１次回折
光量の増加速度も小さくなる。
従って、１次回折光量の測定も正確に行うことができる
。また１次回折光量が規定の値に達し現像液の滴下全停
止した後に起こる現１象の進行は非常に少なくなる。１
次回折光量が規定値に達すると現ｆ象制御装置３６は現
（象嵌バルブ３９を閉める。
。また１次回折光量が規定の値に達し現像液の滴下全停
止した後に起こる現１象の進行は非常に少なくなる。１
次回折光量が規定値に達すると現ｆ象制御装置３６は現
（象嵌バルブ３９を閉める。
それと同時に純水パルプ４０ヲ開き洗浄を開始する。
第４図は現１象の進行と１次回折光量を示す図である。
現像が進むにつれ″〔１次回折光量は増加しＣいく。１
次回折光量が規定値の９０にに達すると現像液濃度が低
下し、−次回折光量の増加速度は小さくなる。−次回折
光量が規定値に達すると現像液の滴下は停止され純水の
洗浄が始まる。現１象液の滴下が停止された後の現１象
進行は直前の現ｆ象速度が低いため非常に少なくなる。
次回折光量が規定値の９０にに達すると現像液濃度が低
下し、−次回折光量の増加速度は小さくなる。−次回折
光量が規定値に達すると現像液の滴下は停止され純水の
洗浄が始まる。現１象液の滴下が停止された後の現１象
進行は直前の現ｆ象速度が低いため非常に少なくなる。
したがっＣ現ｒ象後の情報円盤の一次回折光ｔは一定と
なり、ピットの成形状態が一定のガラス原盤を製作する
ことができる。
なり、ピットの成形状態が一定のガラス原盤を製作する
ことができる。
上記発明例では低濃度の現像液を作るために混合器３８
を用いたが、混合器を用いずに、直接純水をガラス原盤
上に滴下し、ガラス原盤上で直接濃度の低い現像液２作
るとともできる。
を用いたが、混合器を用いずに、直接純水をガラス原盤
上に滴下し、ガラス原盤上で直接濃度の低い現像液２作
るとともできる。
第１図は自動現（様器従来例の構成図、第２図は１次回
折光量と現像進行を示す図、第３図は本発明の構成図、
第４図は本発明における１次回折光量と現像進行を示す
図である。 １１〜ガラス原盤、１２〜現像液ノズル。 １３〜回転モータ、１４〜レーザ。 １５〜１次回折光量検出器、１６〜現像制御装置。 １７〜原像液パルプ、１８〜純水バルブ。 ３１〜ガラス原盤、３２〜現１象液ノズル。 ３３〜回転モータ、３４〜レーザ。 ３５〜１次回折光量検出器、３６〜現像制＠ｌ装置。 ３７〜純水バルブ、３８〜混合器。 ３９〜現ｌ象液パルプ、４０〜純水バルブ。 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 （ほか１名） 第 １ 図 第 ２ 図 第 ３ 図 第 ４ 図
折光量と現像進行を示す図、第３図は本発明の構成図、
第４図は本発明における１次回折光量と現像進行を示す
図である。 １１〜ガラス原盤、１２〜現像液ノズル。 １３〜回転モータ、１４〜レーザ。 １５〜１次回折光量検出器、１６〜現像制御装置。 １７〜原像液パルプ、１８〜純水バルブ。 ３１〜ガラス原盤、３２〜現１象液ノズル。 ３３〜回転モータ、３４〜レーザ。 ３５〜１次回折光量検出器、３６〜現像制＠ｌ装置。 ３７〜純水バルブ、３８〜混合器。 ３９〜現ｌ象液パルプ、４０〜純水バルブ。 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 （ほか１名） 第 １ 図 第 ２ 図 第 ３ 図 第 ４ 図
Claims (1)
- 現像液を情報円盤の原盤に滴下する手段と、前記現像液
より濃度の低い現像液を原盤に滴下する手段と、原盤に
光ビームを照射し光ビームの回折光量から現像の進行状
態を監視し前記現像液を原盤に滴下する手段並びに前記
濃度の低い現ｆ象液を原盤に滴下する手段を制御する手
段とを具備したことを特徴とする自動現１象機。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2511584A JPS60169850A (ja) | 1984-02-15 | 1984-02-15 | 自動現像機 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2511584A JPS60169850A (ja) | 1984-02-15 | 1984-02-15 | 自動現像機 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60169850A true JPS60169850A (ja) | 1985-09-03 |
Family
ID=12156926
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2511584A Pending JPS60169850A (ja) | 1984-02-15 | 1984-02-15 | 自動現像機 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60169850A (ja) |
-
1984
- 1984-02-15 JP JP2511584A patent/JPS60169850A/ja active Pending
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