JPH06333807A - レジスト塗布装置とレジスト塗布方法 - Google Patents
レジスト塗布装置とレジスト塗布方法Info
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- JPH06333807A JPH06333807A JP14570993A JP14570993A JPH06333807A JP H06333807 A JPH06333807 A JP H06333807A JP 14570993 A JP14570993 A JP 14570993A JP 14570993 A JP14570993 A JP 14570993A JP H06333807 A JPH06333807 A JP H06333807A
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- Japan
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- resist
- master
- turntable
- resist solution
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Abstract
(57)【要約】
【目的】原盤におけるレジスト膜厚の均一性を向上する
ことができ、しかも原盤の品質の低下を防止し、簡単な
構成により容易にレジスト塗布をすることができるレジ
スト塗布装置を提供すること。 【構成】原盤２５を載せるターンテーブル２１と、上記
ターンテーブル２１上の上記原盤２５にレジスト液２７
を供給するレジスト供給源３７と、上記ターンテーブル
２１を回転するための駆動源２２を有し、レジスト液２
７が上記原盤２５に広がった後に、上記駆動源２２によ
り上記ターンテーブル２１を回転する。
ことができ、しかも原盤の品質の低下を防止し、簡単な
構成により容易にレジスト塗布をすることができるレジ
スト塗布装置を提供すること。 【構成】原盤２５を載せるターンテーブル２１と、上記
ターンテーブル２１上の上記原盤２５にレジスト液２７
を供給するレジスト供給源３７と、上記ターンテーブル
２１を回転するための駆動源２２を有し、レジスト液２
７が上記原盤２５に広がった後に、上記駆動源２２によ
り上記ターンテーブル２１を回転する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、たとえば光ディスクの
原盤を作るのに用いて最適なレジスト塗布装置とレジス
ト塗布方法に関するものである。
原盤を作るのに用いて最適なレジスト塗布装置とレジス
ト塗布方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】光ディスクのマスタリングにおいて、ガ
ラス原盤に対してフォトレジストをスピンコート法によ
って塗布するレジスト塗布装置がある。
ラス原盤に対してフォトレジストをスピンコート法によ
って塗布するレジスト塗布装置がある。
【０００３】図５に示す従来のレジスト塗布装置は、タ
ーンテーブル１の上にはガラス原盤５をのせて、モータ
２（Ｍ２）を駆動してターンテーブル１を回転するよう
になっている。このモータ２の回転速度は、速度制御回
路３と速度設定器４により設定できるようになってい
る。
ーンテーブル１の上にはガラス原盤５をのせて、モータ
２（Ｍ２）を駆動してターンテーブル１を回転するよう
になっている。このモータ２の回転速度は、速度制御回
路３と速度設定器４により設定できるようになってい
る。
【０００４】アーム保持用支柱６には吐出口保持用アー
ム１０が水平に取り付けられている。この吐出口保持用
アーム１０の先端にはレジスト突出口１３が設けられて
いる。
ム１０が水平に取り付けられている。この吐出口保持用
アーム１０の先端にはレジスト突出口１３が設けられて
いる。
【０００５】レジスト突出口１３はレジスト液供給用パ
イプ１１に接続されており、その途中にはレジスト吐出
用の電磁弁１２が設けられている。モータ７（Ｍ２）
は、アーム保持用支柱６を図６に示すように揺動するた
めのものであり、速度制御回路８と速度設定器９により
その駆動が制御される。
イプ１１に接続されており、その途中にはレジスト吐出
用の電磁弁１２が設けられている。モータ７（Ｍ２）
は、アーム保持用支柱６を図６に示すように揺動するた
めのものであり、速度制御回路８と速度設定器９により
その駆動が制御される。
【０００６】図８を参照すると、従来の図５に示すレジ
スト塗布装置においては、ターンテーブル１を低速で回
転させた状態で（ステップＳ１）、レジスト吐出口保持
用アームを図６に示すように外周位置（スタート点Ａ）
に移動する（ステップＳ２）。
スト塗布装置においては、ターンテーブル１を低速で回
転させた状態で（ステップＳ１）、レジスト吐出口保持
用アームを図６に示すように外周位置（スタート点Ａ）
に移動する（ステップＳ２）。
【０００７】次に、電磁弁１２をオンして、吐出スター
トを行うと同時に、吐出口保持用アーム１０を図６の内
周へ移動する。すなわち吐出用保持用アーム１０は外周
位置Ａから内周（中心）位置Ｂに移動する（ステップＳ
３）。
トを行うと同時に、吐出口保持用アーム１０を図６の内
周へ移動する。すなわち吐出用保持用アーム１０は外周
位置Ａから内周（中心）位置Ｂに移動する（ステップＳ
３）。
【０００８】次に、吐出用保持用アームが中心位置Ｂに
ある状態で、電磁弁をオフして突出を停止する（ステッ
プＳ４）。次に、一定時間経過後ターンテーブル１を中
速回転して、レジストを振り切る（ステップＳ５）。そ
して、ターンテーブル１を高速回転してレジストを乾燥
する（ステップＳ６）。その後、ターンテーブル１の回
転を停止する（ステップＳ７）。
ある状態で、電磁弁をオフして突出を停止する（ステッ
プＳ４）。次に、一定時間経過後ターンテーブル１を中
速回転して、レジストを振り切る（ステップＳ５）。そ
して、ターンテーブル１を高速回転してレジストを乾燥
する（ステップＳ６）。その後、ターンテーブル１の回
転を停止する（ステップＳ７）。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】ところが、このような
従来のレジスト塗布方法においては、ある程度均一なレ
ジスト膜厚の分布を確保（プラスマイナス２０オングス
トロームのばらつき）することができた。しかし、より
ばらつきの少ないレジスト膜厚の分布の確保が望まれて
いた。
従来のレジスト塗布方法においては、ある程度均一なレ
ジスト膜厚の分布を確保（プラスマイナス２０オングス
トロームのばらつき）することができた。しかし、より
ばらつきの少ないレジスト膜厚の分布の確保が望まれて
いた。
【００１０】また、レジスト液内に気泡および微細な異
物が混入したような場合に、従来の方法では、気泡がレ
ジスト膜内に止まってしまうという現象が起こり、それ
はレジストガラス原盤の欠陥ということになる。このた
めにガラス原盤の品質を著しく損なう結果をもたらして
いた。
物が混入したような場合に、従来の方法では、気泡がレ
ジスト膜内に止まってしまうという現象が起こり、それ
はレジストガラス原盤の欠陥ということになる。このた
めにガラス原盤の品質を著しく損なう結果をもたらして
いた。
【００１１】その他に、レジスト液の吐出軌跡を、図６
のようにすると、ターンテーブル１の低速回転と吐出口
保持用アーム１０の旋回速度との関係を、微妙に調整す
る必要があった。
のようにすると、ターンテーブル１の低速回転と吐出口
保持用アーム１０の旋回速度との関係を、微妙に調整す
る必要があった。
【００１２】本発明は上記課題を解消するためになされ
たものであって、原盤におけるレジスト膜厚の均一性を
向上することができ、しかも原盤の品質の低下を防止
し、簡単な構成により容易にレジスト塗布をすることが
できる、レジスト塗布装置とレジスト塗布方法を提供す
ることを目的としている。
たものであって、原盤におけるレジスト膜厚の均一性を
向上することができ、しかも原盤の品質の低下を防止
し、簡単な構成により容易にレジスト塗布をすることが
できる、レジスト塗布装置とレジスト塗布方法を提供す
ることを目的としている。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上記目的は、本発明にあ
っては、原盤を載せるターンテーブルと、上記ターンテ
ーブル上の上記原盤にレジスト液を供給するレジスト供
給源と、上記ターンテーブルを回転するための駆動源を
有し、レジスト液が上記原盤に広がった後に、上記駆動
源により上記ターンテーブルを回転する構成としたレジ
スト塗布装置により、達成される。
っては、原盤を載せるターンテーブルと、上記ターンテ
ーブル上の上記原盤にレジスト液を供給するレジスト供
給源と、上記ターンテーブルを回転するための駆動源を
有し、レジスト液が上記原盤に広がった後に、上記駆動
源により上記ターンテーブルを回転する構成としたレジ
スト塗布装置により、達成される。
【００１４】本発明では、好ましくは前記レジスト供給
源は、前記原盤の中心付近にレジスト液を供給する。ま
た、本発明では、好ましくは前記原盤は、光ディスクの
ガラス原盤である。
源は、前記原盤の中心付近にレジスト液を供給する。ま
た、本発明では、好ましくは前記原盤は、光ディスクの
ガラス原盤である。
【００１５】また、上記目的は、本発明にあっては、原
盤にレジスト液を塗布するレジスト塗布方法において上
記原盤を停止状態にして、上記原盤の中心付近にレジス
ト液を供給し、上記原盤にレジスト液が広がった後に、
上記原盤を回転させることで前記原盤にレジスト膜を生
成するレジスト塗布方法により、達成される。
盤にレジスト液を塗布するレジスト塗布方法において上
記原盤を停止状態にして、上記原盤の中心付近にレジス
ト液を供給し、上記原盤にレジスト液が広がった後に、
上記原盤を回転させることで前記原盤にレジスト膜を生
成するレジスト塗布方法により、達成される。
【００１６】
【作用】停止状態の原盤の中心付近にレジスト液を供給
し、原盤にレジスト液が広がった後に、原盤を回転させ
で、原盤にレジスト膜を生成する。
し、原盤にレジスト液が広がった後に、原盤を回転させ
で、原盤にレジスト膜を生成する。
【００１７】
【実施例】以下、本発明の好適な実施例を添付図面に基
づいて詳細に説明する。尚、以下に述べる実施例は、本
発明の好適な具体例であるから、技術的に好ましい種々
の限定が付されているが、本発明の範囲は、以下の説明
において特に本発明を限定する旨の記載がない限り、こ
れらの態様に限られるものではない。
づいて詳細に説明する。尚、以下に述べる実施例は、本
発明の好適な具体例であるから、技術的に好ましい種々
の限定が付されているが、本発明の範囲は、以下の説明
において特に本発明を限定する旨の記載がない限り、こ
れらの態様に限られるものではない。
【００１８】図１は、本発明のレジスト塗布装置の好ま
しい実施例を示している。図１において、円形のターン
テーブル２１は、主軸を介してモータ２２（Ｍ）により
回転できるようになっている。このモータ２２は、速度
制御回路２３と速度設定器２４により、所定の回転速度
が設定できるようになっている。
しい実施例を示している。図１において、円形のターン
テーブル２１は、主軸を介してモータ２２（Ｍ）により
回転できるようになっている。このモータ２２は、速度
制御回路２３と速度設定器２４により、所定の回転速度
が設定できるようになっている。
【００１９】ターンテーブル２１の上にはガラス原盤２
５を載せることができる。このガラス原盤は、たとえば
光ディスクのマスタリングにおいて用いられるガラス原
盤である。
５を載せることができる。このガラス原盤は、たとえば
光ディスクのマスタリングにおいて用いられるガラス原
盤である。
【００２０】固定部に対してアーム保持用支柱６が立て
て固定されている。このアーム保持用支柱２６の上端に
は、吐出口保持用アーム３０の一端が固定されている。
この吐出口保持用アーム３０の他端には、レジスト吐出
口３３が設けられている。このレジスト吐出口３３は、
レジスト液供給用パイプ３１を介してレジスト液供給源
３７に接続されている。このレジスト液供給用パイプ３
１の途中には、レジスト吐出用の電磁弁３２が設けられ
ている。
て固定されている。このアーム保持用支柱２６の上端に
は、吐出口保持用アーム３０の一端が固定されている。
この吐出口保持用アーム３０の他端には、レジスト吐出
口３３が設けられている。このレジスト吐出口３３は、
レジスト液供給用パイプ３１を介してレジスト液供給源
３７に接続されている。このレジスト液供給用パイプ３
１の途中には、レジスト吐出用の電磁弁３２が設けられ
ている。
【００２１】次に、図１のレジスト塗布装置における動
作例を説明する。図４を参照する。この図４には図１の
レジスト塗布装置の動作例が示されている。
作例を説明する。図４を参照する。この図４には図１の
レジスト塗布装置の動作例が示されている。
【００２２】まず、図１のターンテーブル２１は、回転
が停止状態にある（ステップＳ１１）。このターンテー
ブル２１が停止状態において、図２に示すように、レジ
スト液２７をガラス原盤２５の中心位置Ｂに吐出もしく
は供給するために、図１の電磁弁３２をオンする（ステ
ップＳ１２）。
が停止状態にある（ステップＳ１１）。このターンテー
ブル２１が停止状態において、図２に示すように、レジ
スト液２７をガラス原盤２５の中心位置Ｂに吐出もしく
は供給するために、図１の電磁弁３２をオンする（ステ
ップＳ１２）。
【００２３】図２に示すようにして、レジスト液２７は
ガラス原盤２５の中心位置Ｂから少しずつ外周方向に広
がり、図３に示すように、ほぼガラス原盤２５の面一杯
に広がったら、図１の電磁弁３２をオフしてレジスト液
２７の突出を停止する（ステップＳ１３）。
ガラス原盤２５の中心位置Ｂから少しずつ外周方向に広
がり、図３に示すように、ほぼガラス原盤２５の面一杯
に広がったら、図１の電磁弁３２をオフしてレジスト液
２７の突出を停止する（ステップＳ１３）。
【００２４】次に、図１のターンテーブル２１を、停止
状態から低速で回転し始める（ステップＳ１４）。この
場合に、モータ２２は、速度制御回路２３により制御さ
れ、しかも速度設定器２４に従って回転することにな
る。
状態から低速で回転し始める（ステップＳ１４）。この
場合に、モータ２２は、速度制御回路２３により制御さ
れ、しかも速度設定器２４に従って回転することにな
る。
【００２５】次に、ターンテーブル２１を中速回転にし
て、レジスト液２７の振り切りを行う（ステップＳ１
５）。さらに、ターンテーブル２１を高速回転して、レ
ジスト液２７の乾燥を行う（ステップＳ１６）。
て、レジスト液２７の振り切りを行う（ステップＳ１
５）。さらに、ターンテーブル２１を高速回転して、レ
ジスト液２７の乾燥を行う（ステップＳ１６）。
【００２６】このようにターンテーブル２１は、低速で
回転させた後に、中速そして高速と変化させてレジスト
液２７の振り切りおよび乾燥作業を行う。この場合のレ
ジスト膜厚のコントロールは、ターンテーブル２１の中
速の回転数と、その回転時間で行う。
回転させた後に、中速そして高速と変化させてレジスト
液２７の振り切りおよび乾燥作業を行う。この場合のレ
ジスト膜厚のコントロールは、ターンテーブル２１の中
速の回転数と、その回転時間で行う。
【００２７】具体的なレジスト液の塗布条件を示すと、
たとえば次のようになる。テーブル低速回転は、２ない
し５０ｒｐｍで、１ないし１５０秒間である。また、テ
ーブル中速回転は、４０ないし４００ｒｐｍで、３０な
いし２４０秒間である。さらに、テーブル高速回転は、
３００ないし１１００ｒｐｍで、３０ないし２４０秒間
である。
たとえば次のようになる。テーブル低速回転は、２ない
し５０ｒｐｍで、１ないし１５０秒間である。また、テ
ーブル中速回転は、４０ないし４００ｒｐｍで、３０な
いし２４０秒間である。さらに、テーブル高速回転は、
３００ないし１１００ｒｐｍで、３０ないし２４０秒間
である。
【００２８】このようにレジスト液の乾燥を行った後
に、ターンテーブル２１の回転を停止する（ステップＳ
１７）。
に、ターンテーブル２１の回転を停止する（ステップＳ
１７）。
【００２９】図１の実施例におけるレジスト液の塗布方
法によれば、レジスト膜厚の全周でのばらつきは、従来
プラスマイナス２０オングストロームであったものが、
プラスマイナス５オングストロームに大幅に改善され
る。
法によれば、レジスト膜厚の全周でのばらつきは、従来
プラスマイナス２０オングストロームであったものが、
プラスマイナス５オングストロームに大幅に改善され
る。
【００３０】さらに、従来問題であった気泡および微細
な異物の混入によるレジスト膜厚の品質の低下を、大幅
に低減できる。たとえばドロップアウト値がトータル値
として、平均１桁以内に抑えることが実験結果により明
らかとなった。このドロップアウト値としては、５μｍ
ないし２０μｍまでの欠陥である。このドロップアウト
とは、小さな領域での膜厚の変動のことをいう。
な異物の混入によるレジスト膜厚の品質の低下を、大幅
に低減できる。たとえばドロップアウト値がトータル値
として、平均１桁以内に抑えることが実験結果により明
らかとなった。このドロップアウト値としては、５μｍ
ないし２０μｍまでの欠陥である。このドロップアウト
とは、小さな領域での膜厚の変動のことをいう。
【００３１】また、本発明のレジスト塗布装置の実施例
では、ターンテーブルを停止中にレジスト液を塗布する
ので、条件出しを行う上で、調整が容易であるという大
きなメリットがある。本発明の実施例によれば、ガラス
原盤表面におけるレジスト膜厚の均一性を向上すること
ができる。あた、レジスト液内の気泡等の原因によるレ
ジストガラス原盤の品質の低下を防止できる。また、レ
ジスト液の吐出方法が簡単なので、条件出しが容易であ
る。しかも装置構造も簡単にすることができ、メンテナ
ンスが楽に行える。
では、ターンテーブルを停止中にレジスト液を塗布する
ので、条件出しを行う上で、調整が容易であるという大
きなメリットがある。本発明の実施例によれば、ガラス
原盤表面におけるレジスト膜厚の均一性を向上すること
ができる。あた、レジスト液内の気泡等の原因によるレ
ジストガラス原盤の品質の低下を防止できる。また、レ
ジスト液の吐出方法が簡単なので、条件出しが容易であ
る。しかも装置構造も簡単にすることができ、メンテナ
ンスが楽に行える。
【００３２】ところで本発明は上記実施例に限定される
ものではない。たとえば、図１においてレジスト液供給
用パイプ３１は、吐出口保持用アームの中に組込むよう
にしても良い。これにより装置を一段と小型化すること
ができる。また本発明のレジスト塗布装置は、光ディス
クのマスタリングのガラス原盤以外の他の領域の原盤に
対しても、レジストを塗布するのに用いることが可能で
ある。
ものではない。たとえば、図１においてレジスト液供給
用パイプ３１は、吐出口保持用アームの中に組込むよう
にしても良い。これにより装置を一段と小型化すること
ができる。また本発明のレジスト塗布装置は、光ディス
クのマスタリングのガラス原盤以外の他の領域の原盤に
対しても、レジストを塗布するのに用いることが可能で
ある。
【００３３】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、原
盤におけるレジスト膜厚の均一性を向上することがで
き、しかも原盤の品質の低下を防止し、簡単な構成によ
り容易にレジスト塗布をすることができるレジスト塗布
装置レジスト塗布装置を提供する。
盤におけるレジスト膜厚の均一性を向上することがで
き、しかも原盤の品質の低下を防止し、簡単な構成によ
り容易にレジスト塗布をすることができるレジスト塗布
装置レジスト塗布装置を提供する。
【図１】本発明のレジスト塗布装置の好ましい実施例を
示す図。
示す図。
【図２】図１のレジスト塗布装置において、ガラス原盤
に対してレジスト液が吐出されて、ガラス原盤上をレジ
スト液が広がり始める状態を示す平面図。
に対してレジスト液が吐出されて、ガラス原盤上をレジ
スト液が広がり始める状態を示す平面図。
【図３】ガラス原盤上にレジスト液がほぼ広がった状態
を示す図。
を示す図。
【図４】図１に示す本発明のレジスト塗布装置の動作例
を示すフロー図。
を示すフロー図。
【図５】従来のレジスト塗布装置を示す図。
【図６】従来のレジスト塗布装置における吐出口保持用
アームの動作を示す平面図。
アームの動作を示す平面図。
【図７】レジスト吐出口の軌跡を示す平面図。
【図８】図５の従来のレジスト塗布装置の動作を示すフ
ロー図。
ロー図。
２１ ターンテーブル ２２ モータ（駆動源） ２５ ガラス原盤 ２６ アーム保持用支柱 ２７ レジスト液 ３０ 吐出口保持用アーム ３１ レジスト液供給用パイプ ３２ レジスト突出用電磁弁 ３３ レジスト突出口 ３７ レジスト供給源
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｆ 7/16 ５０２ Ｇ１１Ｂ 7/26 ５０１ 7215−5Ｄ
Claims (4)
- 【請求項１】 原盤を載せるターンテーブルと、 上記ターンテーブル上の上記原盤にレジスト液を供給す
るレジスト供給源と、 上記ターンテーブルを回転するための駆動源を有し、 レジスト液が上記原盤に広がった後に、上記駆動源によ
り上記ターンテーブルを回転する構成としたことを特徴
とする、レジスト塗布装置。 - 【請求項２】 前記レジスト供給源は、前記原盤の中心
付近にレジスト液を供給する、請求項１に記載のレジス
ト塗布装置。 - 【請求項３】 前記原盤は、光ディスクのガラス原盤で
ある、請求項１または２に記載のレジスト塗布装置。 - 【請求項４】 原盤にレジスト液を塗布するレジスト塗
布方法において、 上記原盤を停止状態にして、 上記原盤の中心付近にレジスト液を供給し、 上記原盤にレジスト液が広がった後に、 上記原盤を回転させることで前記原盤にレジスト膜を生
成することを特徴とする、レジスト塗布方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14570993A JPH06333807A (ja) | 1993-05-25 | 1993-05-25 | レジスト塗布装置とレジスト塗布方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14570993A JPH06333807A (ja) | 1993-05-25 | 1993-05-25 | レジスト塗布装置とレジスト塗布方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06333807A true JPH06333807A (ja) | 1994-12-02 |
Family
ID=15391313
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14570993A Pending JPH06333807A (ja) | 1993-05-25 | 1993-05-25 | レジスト塗布装置とレジスト塗布方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06333807A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1990009671A1 (en) * | 1989-02-16 | 1990-08-23 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Laminated type grain boundary insulated semiconductor ceramic capacitor and method of producing the same |
| JP5931230B1 (ja) * | 2015-01-15 | 2016-06-08 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理方法、液処理装置、及び記録媒体。 |
-
1993
- 1993-05-25 JP JP14570993A patent/JPH06333807A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1990009671A1 (en) * | 1989-02-16 | 1990-08-23 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Laminated type grain boundary insulated semiconductor ceramic capacitor and method of producing the same |
| JP5931230B1 (ja) * | 2015-01-15 | 2016-06-08 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理方法、液処理装置、及び記録媒体。 |
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