JPS59216655A - 回転する基板上に一様な厚さの膜を形成させる塗布装置 - Google Patents
回転する基板上に一様な厚さの膜を形成させる塗布装置Info
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- JPS59216655A JPS59216655A JP9322983A JP9322983A JPS59216655A JP S59216655 A JPS59216655 A JP S59216655A JP 9322983 A JP9322983 A JP 9322983A JP 9322983 A JP9322983 A JP 9322983A JP S59216655 A JPS59216655 A JP S59216655A
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- film
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- glass substrate
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、回転する基板上に一様な厚さの膜を形成させ
うるようにした塗布装置に関する。
うるようにした塗布装置に関する。
(従来技術と問題点)
一様な厚さの膜が表面に形成されているような構成態様
を有する基板としては、例えば、各種の情報記録媒体円
盤のHllM、その他、所定なパターンを光学的な記録
手段によって形成させるようにした各種の基板が知られ
ている。
を有する基板としては、例えば、各種の情報記録媒体円
盤のHllM、その他、所定なパターンを光学的な記録
手段によって形成させるようにした各種の基板が知られ
ている。
そして、前記のように一様な厚さの膜が表面に形成され
ているような構成態様の基板を作る手段としでは、基板
上に形成させるべき膜の構成物質が溶媒に溶解されてい
る状態の液体の層を表面に付着させた基板を高速回転さ
せて、基板上に一様な厚さの膜を形成させるようにした
。いわゆるスピンナ法による蓉膜の形成が従来から広く
採用されて来ている。
ているような構成態様の基板を作る手段としでは、基板
上に形成させるべき膜の構成物質が溶媒に溶解されてい
る状態の液体の層を表面に付着させた基板を高速回転さ
せて、基板上に一様な厚さの膜を形成させるようにした
。いわゆるスピンナ法による蓉膜の形成が従来から広く
採用されて来ている。
さて、情報記録媒体円盤の原盤としては、鏡面状に研磨
されたガラス基板の表面上に、感光性高分子材料による
一様な厚さの膜を形成させた栂成態様のものが使用され
るが、前記した情報記録媒体円盤の原盤が、光学的情報
記録媒体円盤の原盤であった場合には、光学的情報記録
媒体円盤に形成されるべきピットの深さが良好な一様性
を示すものとなるように、光学的情報記録媒体円盤の原
盤におけるガラス基板上に形成させるべき感光性高分子
材料による膜は、その厚さが例えば1100オングスト
ロームというように薄い状態で、しかも、一段と一様性
に優れているものであることが必要とされる。
されたガラス基板の表面上に、感光性高分子材料による
一様な厚さの膜を形成させた栂成態様のものが使用され
るが、前記した情報記録媒体円盤の原盤が、光学的情報
記録媒体円盤の原盤であった場合には、光学的情報記録
媒体円盤に形成されるべきピットの深さが良好な一様性
を示すものとなるように、光学的情報記録媒体円盤の原
盤におけるガラス基板上に形成させるべき感光性高分子
材料による膜は、その厚さが例えば1100オングスト
ロームというように薄い状態で、しかも、一段と一様性
に優れているものであることが必要とされる。
ところで、回転する基板上に一様な厚さの膜を形成させ
る塗布装置としては、従来、第1図に示すような構成の
装置が使用されていた。
る塗布装置としては、従来、第1図に示すような構成の
装置が使用されていた。
すなわち、従来の塗布装置を示す第1図の縦断側面図に
おいて、lは容器、2は上蓋、3は中蓋、4.5は中蓋
3を上蓋2に取付けるための取付部材、6はターンテー
ブル、7はガラス基板、8は回転軸1Mは駆動用モータ
、9は空気孔であって、ターンテーブル6上のガラス基
板7は、前記した空気孔9と管10とを介して真空ポン
プ11で吸引される空気によってターンテーブル6と強
固に固着される。
おいて、lは容器、2は上蓋、3は中蓋、4.5は中蓋
3を上蓋2に取付けるための取付部材、6はターンテー
ブル、7はガラス基板、8は回転軸1Mは駆動用モータ
、9は空気孔であって、ターンテーブル6上のガラス基
板7は、前記した空気孔9と管10とを介して真空ポン
プ11で吸引される空気によってターンテーブル6と強
固に固着される。
第1図示の装置において、上M2と中蓋3とが一体的に
構成されている状態のMa体を取外ずしてから、低い回
転速度で回転しているターンテーブル6上のガラス基板
7の上面に、感光性高分子2材料を溶媒に溶解させた状
態の液体を供給し、次いで、容器1に上蓋2と中蓋3と
が一体的に構・成されている状態の蓋構体を取付けて容
器lを密封状態にし、ターンテーブル6によってガラス
基、板7を例えば300rpmのように高速回転させる
。
構成されている状態のMa体を取外ずしてから、低い回
転速度で回転しているターンテーブル6上のガラス基板
7の上面に、感光性高分子2材料を溶媒に溶解させた状
態の液体を供給し、次いで、容器1に上蓋2と中蓋3と
が一体的に構・成されている状態の蓋構体を取付けて容
器lを密封状態にし、ターンテーブル6によってガラス
基、板7を例えば300rpmのように高速回転させる
。
前記のようにガラス基板7が高速回転すると、ガラス基
板7上の液体は遠心力によってガラス基板7の内周から
外周の方向へと薄く押拡げられ、一部がガラス基板7の
外周から飛び出して容器1に衝突して反射する。
板7上の液体は遠心力によってガラス基板7の内周から
外周の方向へと薄く押拡げられ、一部がガラス基板7の
外周から飛び出して容器1に衝突して反射する。
ガラス基板7の外周から飛び出した液体が容器1で反射
して再びガラス基板7上に振り掛かった場合には、ガラ
ス基板7上に形成されるべき感光性高分子材料による膜
の厚さが不均一なものとなるが、第1図示の塗布装置で
はガラス基板7の上面に対して、例えば数ミリメートル
というような僅かな間隙を隔てて中蓋3を設けているた
めに、前記の原因によってガラス基板7上に形成される
べき感光性高分子材料による暎の厚さが不均一になるよ
うなことはない。
して再びガラス基板7上に振り掛かった場合には、ガラ
ス基板7上に形成されるべき感光性高分子材料による膜
の厚さが不均一なものとなるが、第1図示の塗布装置で
はガラス基板7の上面に対して、例えば数ミリメートル
というような僅かな間隙を隔てて中蓋3を設けているた
めに、前記の原因によってガラス基板7上に形成される
べき感光性高分子材料による暎の厚さが不均一になるよ
うなことはない。
そして、前記した第1図示のような構成を有する塗布装
置では、ガラス基板上に形成させるべき感光性高分子材
料による膜が、比較的に厚いものであった場合には、ガ
ラス基板上に塗布する感光・性高分子材料の粘度と、ガ
ラス基板の回転速度とをそれぞれ所要のように設定する
ことにより、ガラス基板」二l\全体的に一様な厚さの
膜を形成させることも可能であったが、ガラス基板上に
形成させるべ!!!感光性高分子材料による膜が、例え
ば1100オングストロ一ム程度というように比較的に
薄いものであった場合には、ガラス基板上に塗布する感
光性高分子材料の粘度と、ガラス基板の回転速度との設
定により、ガラス基板の周辺部分に近い部分における感
光性高分子材料による膜の厚さは比較的容易に一様にす
ることができたが、感光性高分子材料の粘度と、ガラス
基板の回転速度との設定とをどのように行なっても、前
記したガラス基板の周辺部分に近い部分における感光性
高分子材料による暎の厚さに比べて、ガラス基板の中心
部分に近い部りにおける感光性高分子材料による膜の厚
さの方が小さくなり、結局、前記した2条件の設定の仕
)Jなどのようにしても、ガラフ曝(板上に形成さIし
る感光性高分子材fiににる膜ヲ。
置では、ガラス基板上に形成させるべき感光性高分子材
料による膜が、比較的に厚いものであった場合には、ガ
ラス基板上に塗布する感光・性高分子材料の粘度と、ガ
ラス基板の回転速度とをそれぞれ所要のように設定する
ことにより、ガラス基板」二l\全体的に一様な厚さの
膜を形成させることも可能であったが、ガラス基板上に
形成させるべ!!!感光性高分子材料による膜が、例え
ば1100オングストロ一ム程度というように比較的に
薄いものであった場合には、ガラス基板上に塗布する感
光性高分子材料の粘度と、ガラス基板の回転速度との設
定により、ガラス基板の周辺部分に近い部分における感
光性高分子材料による膜の厚さは比較的容易に一様にす
ることができたが、感光性高分子材料の粘度と、ガラス
基板の回転速度との設定とをどのように行なっても、前
記したガラス基板の周辺部分に近い部分における感光性
高分子材料による暎の厚さに比べて、ガラス基板の中心
部分に近い部りにおける感光性高分子材料による膜の厚
さの方が小さくなり、結局、前記した2条件の設定の仕
)Jなどのようにしても、ガラフ曝(板上に形成さIし
る感光性高分子材fiににる膜ヲ。
それの厚さが全体的に一様な状態のものにすることがで
きないという点が問題になった。
きないという点が問題になった。
(問題点を解決するための手段)
本発明は、基板上に形成させるべき膜の構成物質が溶媒
に溶解されている状態の液体の層を表面に付着させた基
板上に間隔を隔てて配設される蓋部材の構成形態を特殊
なものとすることにより、基板の回転中における基体の
中心部分からの溶媒の蒸発速度を、他の部分の蒸発速度
よりも早くなるようにして、基板上に一様な厚さの膜を
形成させることができるようにした回転する基板上に一
様な厚さの膜を形成させる塗布装置を提供したものであ
る。
に溶解されている状態の液体の層を表面に付着させた基
板上に間隔を隔てて配設される蓋部材の構成形態を特殊
なものとすることにより、基板の回転中における基体の
中心部分からの溶媒の蒸発速度を、他の部分の蒸発速度
よりも早くなるようにして、基板上に一様な厚さの膜を
形成させることができるようにした回転する基板上に一
様な厚さの膜を形成させる塗布装置を提供したものであ
る。
(実施例)
以下、添付図面を参照して本発明の回転する基板上に一
様な厚さの膜を形成させる塗布装置の具体的な内容につ
いて詳絹に説明する。
様な厚さの膜を形成させる塗布装置の具体的な内容につ
いて詳絹に説明する。
第2図乃至第5図は、本発明の回転する基板上に一様な
厚さの膜を形成させる塗布装置の各界なる実施態様の縦
断側面図であって、第2図乃至第5図の各回において、
既述した第1図示の塗布装]fIの構成部分と対応する
構成部分には、第1図中に使用した図面符号と同一の図
面符号が付されている。
厚さの膜を形成させる塗布装置の各界なる実施態様の縦
断側面図であって、第2図乃至第5図の各回において、
既述した第1図示の塗布装]fIの構成部分と対応する
構成部分には、第1図中に使用した図面符号と同一の図
面符号が付されている。
第2図及び第3図における符号14と、第4図及び第5
図における符号16などはそれぞれ中蓋であり、前記の
中n1.4,16などは取付部材4,5によって上蓋2
に固着されることにより、それぞれ蓋購体を結成してい
る。
図における符号16などはそれぞれ中蓋であり、前記の
中n1.4,16などは取付部材4,5によって上蓋2
に固着されることにより、それぞれ蓋購体を結成してい
る。
蓋栢体における上蓋2と容器1とはtjs番13によっ
て連結されていて、蓋溝体は蝶番13を中心にして図中
の矢印R方向に回動自在に開閉動作を行なうことができ
る。そして、前記したTl’N体の開閉動作は、例えば
各図中に示されているワイヤ18によって行なわれるよ
うにすることができる。
て連結されていて、蓋溝体は蝶番13を中心にして図中
の矢印R方向に回動自在に開閉動作を行なうことができ
る。そして、前記したTl’N体の開閉動作は、例えば
各図中に示されているワイヤ18によって行なわれるよ
うにすることができる。
また、第2図乃至第5図中における符号12は、高速回
転する基板7から遠心力によって飛ばされる液体を反射
させる反射板であって、この反射板12に衝突して反射
する液体は、中蓋14(16)と基板7との間隙の方向
には向うことがないようにされるのである。
転する基板7から遠心力によって飛ばされる液体を反射
させる反射板であって、この反射板12に衝突して反射
する液体は、中蓋14(16)と基板7との間隙の方向
には向うことがないようにされるのである。
第2図及び第3図中に示されているM槽体における中蓋
14は、それの中心部付近の領域14aと基板70表面
との間隔が比較的大きな距離L1となされ、また、それ
の周辺部付近の領域14cと基板7の表面との間隔が、
前記した距離L1につ0てLL )Llの関係にある距
離L2となされており、さらに、前記したように基板7
の表面からの距離がLlであるような中心部付近の領域
14aと、基板7の表面からの距離がLlであるような
周辺部付近の領域14cとの中間の部分14bは、基板
7の表面との距離が次第に変化している傾斜面となされ
ている。
14は、それの中心部付近の領域14aと基板70表面
との間隔が比較的大きな距離L1となされ、また、それ
の周辺部付近の領域14cと基板7の表面との間隔が、
前記した距離L1につ0てLL )Llの関係にある距
離L2となされており、さらに、前記したように基板7
の表面からの距離がLlであるような中心部付近の領域
14aと、基板7の表面からの距離がLlであるような
周辺部付近の領域14cとの中間の部分14bは、基板
7の表面との距離が次第に変化している傾斜面となされ
ている。
また、第4図中及び第5図中に示されている蓋構体にお
ける中蓋16は、それの中心部付近の領域16aと基板
7の表面との間隔が距離L1となされ、また、それの周
辺部16cと基板7の表面との間隔\2が、前記したL
lについて LL > Llの関係にある距11iL2
となされており、さらに、前記したように基板7の表面
からの距離がLlとなされている中心部付近の領域16
aと、基板7の表面からの距離がLlとなされている周
辺部16cとの中間、の部分16bは、基板70表面か
らの距離が次第に変化している傾斜面となされている。
ける中蓋16は、それの中心部付近の領域16aと基板
7の表面との間隔が距離L1となされ、また、それの周
辺部16cと基板7の表面との間隔\2が、前記したL
lについて LL > Llの関係にある距11iL2
となされており、さらに、前記したように基板7の表面
からの距離がLlとなされている中心部付近の領域16
aと、基板7の表面からの距離がLlとなされている周
辺部16cとの中間、の部分16bは、基板70表面か
らの距離が次第に変化している傾斜面となされている。
第3図中に示されている中蓋14にお(Jる中心部付近
L4aには孔15が穿設されており、また第5r2I中
に示さ4している中蓋16における中心部付近16aに
【よ孔17が穿設されている。
L4aには孔15が穿設されており、また第5r2I中
に示さ4している中蓋16における中心部付近16aに
【よ孔17が穿設されている。
第2図乃至第5図に示されている実施例では、中蓋14
.16における中心部付近の領域14a、16aが直径
1)10円形状であるとされており、また、第2図乃至
第5図(、ミーおいて、基@7の直径はI〕2であると
されでいる。
.16における中心部付近の領域14a、16aが直径
1)10円形状であるとされており、また、第2図乃至
第5図(、ミーおいて、基@7の直径はI〕2であると
されでいる。
中Bt4.tsにおける中心部付近の領域14a、16
aの直径l−)■は、仮に中蓋14,16が第1図に示
されでいる中蓋のように平坦な形状で、かつ、無孔のも
のであったとし、その中蓋が基板7の表面からの距離が
Llの位置に配置されていて基板7が高速回転された場
合に、基板7上に形成された膜の厚さが一定な厚さを示
す外周部分に比べて薄い股が形成される範囲に略々対応
するようにして定められてもよい。
aの直径l−)■は、仮に中蓋14,16が第1図に示
されでいる中蓋のように平坦な形状で、かつ、無孔のも
のであったとし、その中蓋が基板7の表面からの距離が
Llの位置に配置されていて基板7が高速回転された場
合に、基板7上に形成された膜の厚さが一定な厚さを示
す外周部分に比べて薄い股が形成される範囲に略々対応
するようにして定められてもよい。
第2図と第3図とに示す実施例装置で使用されている中
蓋14における周辺部付近の領域14cと基板7の表面
との間隔L2、及び第4図と第5回とに示す実施例装置
で使用さオしている中蓋1Gにおける周辺部14cと基
板7の表面との間隔L2は、基板7の上面から遠心力で
飛出した液体が反射板12に衝突して跳返っても、それ
が基板7上に尺るようなことがないようにするために、
例えば5 m mというように比較的に小さな値に設定
される。
蓋14における周辺部付近の領域14cと基板7の表面
との間隔L2、及び第4図と第5回とに示す実施例装置
で使用さオしている中蓋1Gにおける周辺部14cと基
板7の表面との間隔L2は、基板7の上面から遠心力で
飛出した液体が反射板12に衝突して跳返っても、それ
が基板7上に尺るようなことがないようにするために、
例えば5 m mというように比較的に小さな値に設定
される。
また、第2日乃至第5図示の実施例装置で使用されてい
る中1514 、16における中心部付近の領域14a
、16aと基板7の表面との1m Km L 1は、前
記した中蓋14における周辺部付近14cと基板7の表
面との間隔L2または中蓋IGにおける周辺部16cと
基板7の表面との間隔L2に比べて大きく設定されるの
であるが、既述もしたように、第2図及び第4図示の実
施例装置で使用される中F214.16の中心部付近の
領域14a、16aには孔が穿設されておらず、第3図
及び第5図示の実施例装置で使用されている中M14,
16の中心部付近の領域14a。
る中1514 、16における中心部付近の領域14a
、16aと基板7の表面との1m Km L 1は、前
記した中蓋14における周辺部付近14cと基板7の表
面との間隔L2または中蓋IGにおける周辺部16cと
基板7の表面との間隔L2に比べて大きく設定されるの
であるが、既述もしたように、第2図及び第4図示の実
施例装置で使用される中F214.16の中心部付近の
領域14a、16aには孔が穿設されておらず、第3図
及び第5図示の実施例装置で使用されている中M14,
16の中心部付近の領域14a。
16aには孔1.5,1.7が穿設されているから、第
2図乃至第5図示の実施例装置中で、中心部付近の領域
14a、16aに孔3.5 、17が穿設されていない
状態の中蓋14.16が使用されている第2図及び第4
図示の実施例装置における中蓋14.16の中心部付近
の領域14a、16aと基板7の表面との間隔L1の方
が、中心部付近の領域14a、16aに孔15.17が
穿設されている状態の中蓋14,16が使用されている
第3図及び第5図示の実施例装置の中M14.16にお
ける中心部イ、1近の領域14a、16aと基板7の表
面との間隔L1に比べて大きく設定される。
2図乃至第5図示の実施例装置中で、中心部付近の領域
14a、16aに孔3.5 、17が穿設されていない
状態の中蓋14.16が使用されている第2図及び第4
図示の実施例装置における中蓋14.16の中心部付近
の領域14a、16aと基板7の表面との間隔L1の方
が、中心部付近の領域14a、16aに孔15.17が
穿設されている状態の中蓋14,16が使用されている
第3図及び第5図示の実施例装置の中M14.16にお
ける中心部イ、1近の領域14a、16aと基板7の表
面との間隔L1に比べて大きく設定される。
実施例装置についC1実際の数111例を示すと次のと
おりである。DI−120mm、D2−355mrn。
おりである。DI−120mm、D2−355mrn。
Ll−15mm、L2−5mm、孔15,17の直径−
2mm 。
2mm 。
第2図乃至第5図示の実施例装置を用いて基板7(ガラ
ス基板7)の表面に一様な厚さの真を形成させるのには
、まず、上蓋2と中蓋14(または1G)とが一体的に
結合されている状態の蓋栂体を蛎番13により回動させ
て容器lを開放し、ターンテーブル6にガラス基板7を
結合する。
ス基板7)の表面に一様な厚さの真を形成させるのには
、まず、上蓋2と中蓋14(または1G)とが一体的に
結合されている状態の蓋栂体を蛎番13により回動させ
て容器lを開放し、ターンテーブル6にガラス基板7を
結合する。
次に、駆動用モータMによって低速回転されているター
ンテーブル6に結合されているガラス基板7上に、感光
性高分子材料をシンナーで稀釈することによって所定の
粘度にさ社た液体を図示されていないノズルから供給し
て、ガラス基′Fil上に前記した液体の被覆層を形成
させる。前記したノズルからの液体の供給を、ガラス基
Fi7の径方向にノズルを移動させながら行なうように
する゛ことは望ましい実施の態様である。
ンテーブル6に結合されているガラス基板7上に、感光
性高分子材料をシンナーで稀釈することによって所定の
粘度にさ社た液体を図示されていないノズルから供給し
て、ガラス基′Fil上に前記した液体の被覆層を形成
させる。前記したノズルからの液体の供給を、ガラス基
Fi7の径方向にノズルを移動させながら行なうように
する゛ことは望ましい実施の態様である。
前記のようにして、ガラス基板70′表面に液体の被覆
層が形成され終ったならば、ノズルを容器l外に退避さ
せた後に蓋溝体を喋番13で回動させると、容器Iは上
蓋2で密封状態にされる。この状態において、上蓋2に
取付部材4,5によって固着されている中蓋14(また
は16)は、それの各部がガラス基Fi7に対してそれ
ぞれ所定の間隔Ll。
層が形成され終ったならば、ノズルを容器l外に退避さ
せた後に蓋溝体を喋番13で回動させると、容器Iは上
蓋2で密封状態にされる。この状態において、上蓋2に
取付部材4,5によって固着されている中蓋14(また
は16)は、それの各部がガラス基Fi7に対してそれ
ぞれ所定の間隔Ll。
L2を示すような状態で配置されることになるから、駆
動用モータMを高速回転(例えば300rpm)させて
ターンテーブル6と一体的になさ九でいるガラス基板7
を高速回転させる。
動用モータMを高速回転(例えば300rpm)させて
ターンテーブル6と一体的になさ九でいるガラス基板7
を高速回転させる。
約1分間にわたってガラス基板7を高速回転させた後に
、駆動用モータMの回転数を低下させるとともに、蓋惜
体に開放した机態におい”C約数分間にわたっ゛CCシ
ラノ基板7を低速回転させてから駆動用モータMを停止
させる。
、駆動用モータMの回転数を低下させるとともに、蓋惜
体に開放した机態におい”C約数分間にわたっ゛CCシ
ラノ基板7を低速回転させてから駆動用モータMを停止
させる。
上記のようにしてガラス基板7の表面には、感光性高分
子材料にJこる一様な厚さのW膜が形成さJしるのであ
るが1次に、本発明装置によれはどのような理由によっ
てガラス基板7上に一様な厚さのJI寡が形成さ汎うる
のかを説明する。
子材料にJこる一様な厚さのW膜が形成さJしるのであ
るが1次に、本発明装置によれはどのような理由によっ
てガラス基板7上に一様な厚さのJI寡が形成さ汎うる
のかを説明する。
第1図示の従来例装置についての説明で明らかにしたよ
うに、第1図示の従来例装置によってガラス基板7−ヒ
に′M、膜を形成させようとした揚台には、ガラス基板
の周辺部分に近い部分におりる感光性高分子材料による
膜の厚さに比べC、ガラス基板7の中心部分に近い部分
における膜の厚さの方が小さくなっていたが、そALは
、感光性高分子材料を溶解さ仕るのに用いら扛てぃた溶
媒が、ガラス基板7の高速回転中に恭発してガスとなり
、前記したガラス基板7の表面と平坦な中蓋3との間の
狭い空隙内に充満することにより、溶媒の蒸発が抑圧さ
れて液状に保持されている期間がガラス基板7の中心部
分に近い部分になる程長くなるために、ガラス基@7の
中心部分に近い部分では液状に保持されている期間にわ
たり有効に働く遠心力の作用により膜の厚さが蒋くなる
ものと考えられる。
うに、第1図示の従来例装置によってガラス基板7−ヒ
に′M、膜を形成させようとした揚台には、ガラス基板
の周辺部分に近い部分におりる感光性高分子材料による
膜の厚さに比べC、ガラス基板7の中心部分に近い部分
における膜の厚さの方が小さくなっていたが、そALは
、感光性高分子材料を溶解さ仕るのに用いら扛てぃた溶
媒が、ガラス基板7の高速回転中に恭発してガスとなり
、前記したガラス基板7の表面と平坦な中蓋3との間の
狭い空隙内に充満することにより、溶媒の蒸発が抑圧さ
れて液状に保持されている期間がガラス基板7の中心部
分に近い部分になる程長くなるために、ガラス基@7の
中心部分に近い部分では液状に保持されている期間にわ
たり有効に働く遠心力の作用により膜の厚さが蒋くなる
ものと考えられる。
ところが、本発明の回転する基板上に一様な厚さの膜を
形成させる塗布装置では、基板の周辺部に近い部分の基
板の表面とのrlJ7隔が小さく、基板の中心部に近い
部力の基板の表面との間隔が大きくなさ九でいる如き構
成形態を有する蓋部材、すなわち、傘状の蓋部材を、膜
の構成物質が溶媒に溶解されている状態の液体の層が付
着さ九でいる基板の上方に配設したことにより、ガラス
基板′lの中心部に近い部分でも溶媒のガス化が抑圧さ
れることがなく、ガラス基板上には一様な厚さの高分子
材料によるnsiが容易に形成されうるのである。
形成させる塗布装置では、基板の周辺部に近い部分の基
板の表面とのrlJ7隔が小さく、基板の中心部に近い
部力の基板の表面との間隔が大きくなさ九でいる如き構
成形態を有する蓋部材、すなわち、傘状の蓋部材を、膜
の構成物質が溶媒に溶解されている状態の液体の層が付
着さ九でいる基板の上方に配設したことにより、ガラス
基板′lの中心部に近い部分でも溶媒のガス化が抑圧さ
れることがなく、ガラス基板上には一様な厚さの高分子
材料によるnsiが容易に形成されうるのである。
ガラス基板7上に一様な厚さの膜を形成させるのには、
前記した傘状の蓋部材における中心部付近の領域の大き
さDlや、傘状の蓋部材の中心部付近の領域におけるガ
ラス基板7の表面からの間隔L1などは、ガラス基板7
の大きさD2、ガラス基板7の表面に塗布される液体の
粘度、ガラス基板7の回転数、傘状の蓋部材における周
辺部付近の領域あるいは周辺部とガラス基板7の表面と
の間隔L2、などが、それぞれ、所定のように設定され
るべきものである。
前記した傘状の蓋部材における中心部付近の領域の大き
さDlや、傘状の蓋部材の中心部付近の領域におけるガ
ラス基板7の表面からの間隔L1などは、ガラス基板7
の大きさD2、ガラス基板7の表面に塗布される液体の
粘度、ガラス基板7の回転数、傘状の蓋部材における周
辺部付近の領域あるいは周辺部とガラス基板7の表面と
の間隔L2、などが、それぞれ、所定のように設定され
るべきものである。
また、傘状の蓋部材における中心部付近の領域に孔15
.17を穿設すると、その孔を通してガスが流通して、
ガラス基板7の中心部付近の溶媒が然発し易くなるため
に、前記した孔の径を適当なものにすると、ガラス基板
7上に形成される薄膜の厚さを一層均一なものとして作
ることができる。
.17を穿設すると、その孔を通してガスが流通して、
ガラス基板7の中心部付近の溶媒が然発し易くなるため
に、前記した孔の径を適当なものにすると、ガラス基板
7上に形成される薄膜の厚さを一層均一なものとして作
ることができる。
なお、第3図及び第5図に示されている実施例装置のよ
うに、傘状の蓋部材における中心部付近の領域に孔を穿
設した場合には、第2図及び第4図に示されている実施
例装置のように、傘状の蓋部材における中心部付近の領
域に孔が穿設されていない場合に比べて、ガラス基板7
の中心部付近がらの溶媒の蒸発が容易になるため、傘状
の蓋部材における中心部付近の領域における孔の有無に
よって、ガラス基板7上に形成させる膜の厚さを均一に
するための条件が互に異なるものになることはいうまで
もない。
うに、傘状の蓋部材における中心部付近の領域に孔を穿
設した場合には、第2図及び第4図に示されている実施
例装置のように、傘状の蓋部材における中心部付近の領
域に孔が穿設されていない場合に比べて、ガラス基板7
の中心部付近がらの溶媒の蒸発が容易になるため、傘状
の蓋部材における中心部付近の領域における孔の有無に
よって、ガラス基板7上に形成させる膜の厚さを均一に
するための条件が互に異なるものになることはいうまで
もない。
(効果)
以上、詳紹に説明したところがら明らかなように、本発
明の回転する基板上に一様な厚さの膜を形成させる塗布
装置は、基板上に形成させるべき膜の構成物質が溶媒に
溶解されている状態の液体の層を表面に付着させた基板
を高速回転させて、基板上に一様な厚さの膜を形成させ
るようにした塗布装置において、基板の周辺部に近い部
分の基板の表面との間隔が小さく、基板の中心部に近い
部分の基板の表面との間隔が大きくなされている如き構
成形態を有する蓋部材を、膜の構成物質が溶媒に溶解さ
れている状態の液体の層が付着されている基板の上方に
配設させたり、前記のようにして配設される蓋部材とし
て、それの中心部付近に孔が穿設されているものを用い
て構成されている、回転する基板上に一様な厚さの暎を
形成させる塗布装置であるから、本発明装置によれば従
来例装置において問題となった欠点、すなわち、基板上
に均一な厚さのfJI n!5を形成させ得なかった点
を良好に解決して、基板上に均一な厚さの薄膜を容易に
形成させることができる。
明の回転する基板上に一様な厚さの膜を形成させる塗布
装置は、基板上に形成させるべき膜の構成物質が溶媒に
溶解されている状態の液体の層を表面に付着させた基板
を高速回転させて、基板上に一様な厚さの膜を形成させ
るようにした塗布装置において、基板の周辺部に近い部
分の基板の表面との間隔が小さく、基板の中心部に近い
部分の基板の表面との間隔が大きくなされている如き構
成形態を有する蓋部材を、膜の構成物質が溶媒に溶解さ
れている状態の液体の層が付着されている基板の上方に
配設させたり、前記のようにして配設される蓋部材とし
て、それの中心部付近に孔が穿設されているものを用い
て構成されている、回転する基板上に一様な厚さの暎を
形成させる塗布装置であるから、本発明装置によれば従
来例装置において問題となった欠点、すなわち、基板上
に均一な厚さのfJI n!5を形成させ得なかった点
を良好に解決して、基板上に均一な厚さの薄膜を容易に
形成させることができる。
!!81図は従来の塗布装置の一例槽成のものの縦断側
面図、第2図乃至第5回は本発明装置の容具なる実施態
様の縦断側面図である。 1・・・容器、2・・・上蓋、3,14.16・・・中
蓋、4゜5・・・中蓋3を上蓋2に取付けるための取付
部材、6・・・ターンテーブル、7・・・ガラス基板、
8・・・回転軸、M・・・駆動用モータ、9・・・空気
孔、10・・・管10.11・・・真空ポンプ、12・
・・反射板、13・・・t$、番、15.17・・・孔
、 代 理 人 弁理士 今 間 孝 生□・ r
・、 ・′
面図、第2図乃至第5回は本発明装置の容具なる実施態
様の縦断側面図である。 1・・・容器、2・・・上蓋、3,14.16・・・中
蓋、4゜5・・・中蓋3を上蓋2に取付けるための取付
部材、6・・・ターンテーブル、7・・・ガラス基板、
8・・・回転軸、M・・・駆動用モータ、9・・・空気
孔、10・・・管10.11・・・真空ポンプ、12・
・・反射板、13・・・t$、番、15.17・・・孔
、 代 理 人 弁理士 今 間 孝 生□・ r
・、 ・′
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、基板上に形成させるべき膜の構成物質が溶媒に溶解
されている状態の液体の層を表面に付着させた基板を高
速回転させて、基板上に一様な厚さの膜を形成させるよ
うにした塗布装置であって、基板の周辺部に近い部分の
基板の表面との間隔が小さく、基板の中心部に近い部分
の基板の表面との間隔が大きくなさJしている如き構成
形態を有する蓋部材を、膜の構成物質が溶媒に溶解さオ
tでいる状態の液体の層が付着されている基板の上方に
配設させてなる回転する基板上に一様な厚さの膜を形成
させる塗布装置 2、基板上に形成させるべき膜の構成物質が溶媒に溶解
され′Cいる状態の液体の層を表面に付着させた基板を
高速回転させて、基板上に一様な厚さの膜を形成させる
ようにした塗布装置であって、基板の周辺部に近い部分
の基板の表面との間隔が小さく、基板の中心部に近い部
分の基板の表面との間隔が大きくなされている如き構成
形態を有する蓋部材を、膜の構成物質が溶媒に溶解され
ている状態の液体の層が付着されている基板の上方に配
設させるとともに、前記した蓋部材の中心部付近に孔を
穿設してなる回転する基板上に一様な厚さの膜を形成さ
せる塗布装置
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9322983A JPS59216655A (ja) | 1983-05-26 | 1983-05-26 | 回転する基板上に一様な厚さの膜を形成させる塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9322983A JPS59216655A (ja) | 1983-05-26 | 1983-05-26 | 回転する基板上に一様な厚さの膜を形成させる塗布装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59216655A true JPS59216655A (ja) | 1984-12-06 |
JPS621547B2 JPS621547B2 (ja) | 1987-01-14 |
Family
ID=14076709
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9322983A Granted JPS59216655A (ja) | 1983-05-26 | 1983-05-26 | 回転する基板上に一様な厚さの膜を形成させる塗布装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59216655A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63198330A (ja) * | 1987-02-13 | 1988-08-17 | Tokyo Electron Ltd | レジスト塗布方法およびその装置 |
JPS63248471A (ja) * | 1987-04-03 | 1988-10-14 | Tokyo Electron Ltd | 塗布装置及びそれを用いた塗布方法 |
JPS64737A (en) * | 1987-03-27 | 1989-01-05 | Toshiba Corp | Applicator for resist |
JP2004095726A (ja) * | 2002-08-30 | 2004-03-25 | Ckd Corp | 液膜形成方法、または液膜形成装置 |
-
1983
- 1983-05-26 JP JP9322983A patent/JPS59216655A/ja active Granted
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63198330A (ja) * | 1987-02-13 | 1988-08-17 | Tokyo Electron Ltd | レジスト塗布方法およびその装置 |
JPS64737A (en) * | 1987-03-27 | 1989-01-05 | Toshiba Corp | Applicator for resist |
JPS63248471A (ja) * | 1987-04-03 | 1988-10-14 | Tokyo Electron Ltd | 塗布装置及びそれを用いた塗布方法 |
JP2004095726A (ja) * | 2002-08-30 | 2004-03-25 | Ckd Corp | 液膜形成方法、または液膜形成装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS621547B2 (ja) | 1987-01-14 |
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