JP3412849B2 - 薄膜蒸着装置 - Google Patents
薄膜蒸着装置Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、レンズの表面に薄膜を
形成するための薄膜蒸着装置に関するものである。
形成するための薄膜蒸着装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】レンズの表面に薄膜を形成するための薄
膜蒸着装置は、複数のレンズを保持するレンズホルダを
蒸発源に対して回転させると同時に、各レンズをレンズ
ホルダに対して回転させることで、蒸着される薄膜の膜
厚を均一にする工夫がなされている。このような遊星回
転式蒸着装置の一例を図４および図５に基づいて説明す
る。
膜蒸着装置は、複数のレンズを保持するレンズホルダを
蒸発源に対して回転させると同時に、各レンズをレンズ
ホルダに対して回転させることで、蒸着される薄膜の膜
厚を均一にする工夫がなされている。このような遊星回
転式蒸着装置の一例を図４および図５に基づいて説明す
る。
【０００３】図示しない真空槽の内部で、蒸発源２１の
上方に配設されたレンズホルダ２２は、前記蒸発源２１
を中心とする略球面状に湾曲した傘形の本体２２ａを有
し、該本体２２ａ外周部分には、周方向に等間隔で複数
の環状のレンズヤトイ２３が回転自在に保持され、各レ
ンズヤトイ２３は、レンズ２４を着脱自在に保持する。
レンズホルダ２２の本体２２ａは、その中央部分に図示
しない回転軸を有し、図示しないモータによって、その
中心軸（Ａ0 −Ａ0 線で示す）のまわりに回転される。
上方に配設されたレンズホルダ２２は、前記蒸発源２１
を中心とする略球面状に湾曲した傘形の本体２２ａを有
し、該本体２２ａ外周部分には、周方向に等間隔で複数
の環状のレンズヤトイ２３が回転自在に保持され、各レ
ンズヤトイ２３は、レンズ２４を着脱自在に保持する。
レンズホルダ２２の本体２２ａは、その中央部分に図示
しない回転軸を有し、図示しないモータによって、その
中心軸（Ａ0 −Ａ0 線で示す）のまわりに回転される。
【０００４】各レンズヤトイ２３は、図示しない遊星歯
車機構あるいは同期モータ等によって、その中心軸（Ｂ
0 −Ｂ0 線で示す）のまわりに回転される。このように
蒸発源２１に対して各レンズ２４を遊星運動させること
により、蒸発源２１から発生する蒸発物質の流れ、（以
下、「蒸気流」という。）２１ａの濃度の不均一や、該
蒸気流２１ａが各レンズ２４に入射するときの入射角が
レンズホルダ２２の径方向に均一でないことによる膜厚
むらを軽減する。
車機構あるいは同期モータ等によって、その中心軸（Ｂ
0 −Ｂ0 線で示す）のまわりに回転される。このように
蒸発源２１に対して各レンズ２４を遊星運動させること
により、蒸発源２１から発生する蒸発物質の流れ、（以
下、「蒸気流」という。）２１ａの濃度の不均一や、該
蒸気流２１ａが各レンズ２４に入射するときの入射角が
レンズホルダ２２の径方向に均一でないことによる膜厚
むらを軽減する。
【０００５】また、各レンズ２４が凸面レンズの場合に
は、その表面２４ａに蒸着される蒸発物質の入射角が、
レンズ２４の中心から周辺に向うにつれて浅くなり、膜
厚むらの一因となる。これを防ぐために、蒸発源２１と
レンズホルダ２２の間に、蒸気流２１ａを部分的に遮断
する一対の平板状のマスク２６が設けられる。
は、その表面２４ａに蒸着される蒸発物質の入射角が、
レンズ２４の中心から周辺に向うにつれて浅くなり、膜
厚むらの一因となる。これを防ぐために、蒸発源２１と
レンズホルダ２２の間に、蒸気流２１ａを部分的に遮断
する一対の平板状のマスク２６が設けられる。
【０００６】各マスク２６は、図５に示すように、図示
しない真空槽の壁面等に支持部材２６ａによって固定さ
れた略菱形の板状体であり、その２つの対角線のうちの
一つをレンズホルダ２２の径方向に平行に配設され、レ
ンズホルダ２２が一回転するごとに、各レンズ２４の中
央部分２４ｂがマスク２６によって蒸気流２１ａから遮
断される時間Ｔａを、各レンズ２４の外周部分２４ｃが
マスク２６によって蒸気流２１ａから遮断される時間Ｔ
ｂより長くすることにより、レンズホルダ２２が一回転
する間に、各レンズ２４の中央部分２４ｂに入射する蒸
発物質の量をその外周部分２４ｃに入射する蒸発物質の
量より低減し、各レンズ２４の径方向に蒸発物質の入射
角が変化することによる膜厚むらを防止するものであ
る。
しない真空槽の壁面等に支持部材２６ａによって固定さ
れた略菱形の板状体であり、その２つの対角線のうちの
一つをレンズホルダ２２の径方向に平行に配設され、レ
ンズホルダ２２が一回転するごとに、各レンズ２４の中
央部分２４ｂがマスク２６によって蒸気流２１ａから遮
断される時間Ｔａを、各レンズ２４の外周部分２４ｃが
マスク２６によって蒸気流２１ａから遮断される時間Ｔ
ｂより長くすることにより、レンズホルダ２２が一回転
する間に、各レンズ２４の中央部分２４ｂに入射する蒸
発物質の量をその外周部分２４ｃに入射する蒸発物質の
量より低減し、各レンズ２４の径方向に蒸発物質の入射
角が変化することによる膜厚むらを防止するものであ
る。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の技術によれば、前述のように蒸気流を部分的に遮断
するマスクによって蒸発物質の入射角の変化による膜厚
むらを防ぐには、レンズホルダに保持されるレンズがす
べて同一の曲率半径を有するものでなければならず、異
なる曲率半径をもつ複数のレンズを１個のレンズホルダ
に保持させて同時に成膜処理することは不可能である。
また、異なる曲率半径をもつ複数のレンズを同時に成膜
処理するために、レンズホルダの各レンズヤトイの近傍
に各レンズごとに形状の異なる平板状のマスクを設け、
各マスクをレンズホルダとともに回転させる方法も提案
されているが、各レンズとマスクの間の相対速度がレン
ズの中心に近づくにつれて小さくなるため、各レンズの
中心部分の成膜量を制御するのが難しい。
来の技術によれば、前述のように蒸気流を部分的に遮断
するマスクによって蒸発物質の入射角の変化による膜厚
むらを防ぐには、レンズホルダに保持されるレンズがす
べて同一の曲率半径を有するものでなければならず、異
なる曲率半径をもつ複数のレンズを１個のレンズホルダ
に保持させて同時に成膜処理することは不可能である。
また、異なる曲率半径をもつ複数のレンズを同時に成膜
処理するために、レンズホルダの各レンズヤトイの近傍
に各レンズごとに形状の異なる平板状のマスクを設け、
各マスクをレンズホルダとともに回転させる方法も提案
されているが、各レンズとマスクの間の相対速度がレン
ズの中心に近づくにつれて小さくなるため、各レンズの
中心部分の成膜量を制御するのが難しい。
【０００８】本発明は、上記従来の技術の有する未解決
の課題に鑑みてなされたものであり、異なる曲率半径を
もつ複数のレンズに同時にそれぞれ均一な膜厚を有する
薄膜を蒸着することのできる薄膜蒸着装置を提供するこ
とを目的とするものである。
の課題に鑑みてなされたものであり、異なる曲率半径を
もつ複数のレンズに同時にそれぞれ均一な膜厚を有する
薄膜を蒸着することのできる薄膜蒸着装置を提供するこ
とを目的とするものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明の薄膜蒸着装置は、蒸発源と、複数のレンズ
保持手段をそれぞれ自転自在に保持する回転自在なレン
ズホルダと、該レンズホルダを回転させるとともに前記
レンズ保持手段をそれぞれ自転させる遊星回転駆動装置
と、前記レンズホルダに固着されたマスクホルダと、該
マスクホルダに保持されて各レンズ保持手段と前記蒸発
源との間に配設された多孔マスクからなり、前記多孔マ
スクが前記マスクホルダによって前記レンズホルダの本
体と一体的に設けられており、前記多孔マスクの単位面
積当りの開口部の面積が、前記多孔マスクの幅方向に変
化していることを特徴とする。
めに本発明の薄膜蒸着装置は、蒸発源と、複数のレンズ
保持手段をそれぞれ自転自在に保持する回転自在なレン
ズホルダと、該レンズホルダを回転させるとともに前記
レンズ保持手段をそれぞれ自転させる遊星回転駆動装置
と、前記レンズホルダに固着されたマスクホルダと、該
マスクホルダに保持されて各レンズ保持手段と前記蒸発
源との間に配設された多孔マスクからなり、前記多孔マ
スクが前記マスクホルダによって前記レンズホルダの本
体と一体的に設けられており、前記多孔マスクの単位面
積当りの開口部の面積が、前記多孔マスクの幅方向に変
化していることを特徴とする。
【００１０】
【作用】上記装置によれば、各レンズと、薄膜蒸着装置
との間に個別にレンズホルダに固着された多孔マスクが
配設されており、多孔マスクの開口部の面積の比率がそ
の幅方向に変化しているため、レンズ保持手段に保持さ
れたレンズに蒸着される蒸発物質の量をレンズの成膜面
に沿って変化させることができる。多孔マスクは各レン
ズごとに配設されており、多孔マスクの開口部の面積の
比率（有孔率）をレンズの曲率半径に基づいて変化させ
ることにより、異なる曲率半径を有するレンズに同時に
それぞれ均一な薄膜を蒸着できる。
との間に個別にレンズホルダに固着された多孔マスクが
配設されており、多孔マスクの開口部の面積の比率がそ
の幅方向に変化しているため、レンズ保持手段に保持さ
れたレンズに蒸着される蒸発物質の量をレンズの成膜面
に沿って変化させることができる。多孔マスクは各レン
ズごとに配設されており、多孔マスクの開口部の面積の
比率（有孔率）をレンズの曲率半径に基づいて変化させ
ることにより、異なる曲率半径を有するレンズに同時に
それぞれ均一な薄膜を蒸着できる。
【００１１】
【実施例】本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
【００１２】図１は、一実施例を示す模式断面図であっ
て、本実施例の薄膜蒸着装置Ｅ1 は、図示しない真空槽
の内部に設けられた蒸発源１と、その図示上方に配設さ
れたレンズホルダ２からなり、レンズホルダ２は、蒸発
源１を中心とする略球面状に湾曲した傘形の本体２ａを
有し、本体２ａの外周部分には周方向に等間隔で複数の
環状のレンズ保持手段であるレンズヤトイ３が回転自在
に保持され、各レンズヤトイ３はレンズ４を着脱自在に
保持する。レンズホルダ２の本体２ａは、その中央部分
に図示しない回転軸を有し、図示しないモータによっ
て、その中心軸（Ａ1 −Ａ1 線で示す）のまわりに回転
される。各レンズヤトイ３は、前記モータとともに遊星
回転駆動装置を構成する図示しない遊星歯車機構あるい
は同期モータ等によって、その中心軸（Ｂ1 −Ｂ1 線で
示す）のまわりに回転される。このように、蒸発源１に
対して各レンズ４を遊星運動させることによって、蒸発
源１から放射される蒸気流１ａの濃度の不均一や、該蒸
気流１ａが各レンズ４の成膜面である表面４ａに入射す
るときの入射角がレンズホルダ２の径方向に不均一にな
ることによる膜厚むらを軽減する。
て、本実施例の薄膜蒸着装置Ｅ1 は、図示しない真空槽
の内部に設けられた蒸発源１と、その図示上方に配設さ
れたレンズホルダ２からなり、レンズホルダ２は、蒸発
源１を中心とする略球面状に湾曲した傘形の本体２ａを
有し、本体２ａの外周部分には周方向に等間隔で複数の
環状のレンズ保持手段であるレンズヤトイ３が回転自在
に保持され、各レンズヤトイ３はレンズ４を着脱自在に
保持する。レンズホルダ２の本体２ａは、その中央部分
に図示しない回転軸を有し、図示しないモータによっ
て、その中心軸（Ａ1 −Ａ1 線で示す）のまわりに回転
される。各レンズヤトイ３は、前記モータとともに遊星
回転駆動装置を構成する図示しない遊星歯車機構あるい
は同期モータ等によって、その中心軸（Ｂ1 −Ｂ1 線で
示す）のまわりに回転される。このように、蒸発源１に
対して各レンズ４を遊星運動させることによって、蒸発
源１から放射される蒸気流１ａの濃度の不均一や、該蒸
気流１ａが各レンズ４の成膜面である表面４ａに入射す
るときの入射角がレンズホルダ２の径方向に不均一にな
ることによる膜厚むらを軽減する。
【００１３】レンズホルダ２は、各レンズヤトイ３の近
傍にマスクホルダ５を有し、各マスクホルダ５はレンズ
ホルダ２の本体２ａに固着され、レンズホルダ２ととも
にその中心軸Ａ1 −Ａ1 線の回りに回転する。各マスク
ホルダ５は、レンズヤトイ３に保持されたレンズ４と蒸
発源１の間に円板状の多孔マスク６を保持し、多孔マス
ク６は、蒸発源１からレンズ４に向って放射される蒸気
流１ａの一部分を遮断する。
傍にマスクホルダ５を有し、各マスクホルダ５はレンズ
ホルダ２の本体２ａに固着され、レンズホルダ２ととも
にその中心軸Ａ1 −Ａ1 線の回りに回転する。各マスク
ホルダ５は、レンズヤトイ３に保持されたレンズ４と蒸
発源１の間に円板状の多孔マスク６を保持し、多孔マス
ク６は、蒸発源１からレンズ４に向って放射される蒸気
流１ａの一部分を遮断する。
【００１４】各多孔マスク６は、図２に示すように、開
口部である複数の孔７を有し、該孔７の寸法が多孔マス
ク６の中心部６ａから外周縁６ｂに近づくにつれて大き
くなっており、多孔マスク６の単位面積当りの開口部の
面積（以下、「有孔率」という。）が多孔マスク６の幅
方向である径方向外方に向って大きくなるように設定さ
れている。また、前記有孔率は、各レンズヤトイ３に保
持されるレンズ４ごとに、その曲率半径に基づいて、レ
ンズ４の表面４ａに蒸着される蒸発物質の量が、該表面
４ａに沿って径方向外方へ向うにつれて所定の割合で増
加するように設定され、レンズ４の表面４ａに入射する
蒸気流１ａの入射角がレンズ４の外周縁に近づくにつれ
て浅くなることによる膜厚むらを軽減する。また、孔７
の寸法が多孔マスク６の中心に近づくにつれて縮小して
おり、このために、レンズ４の中心部分の成膜量を容易
に制御できる。
口部である複数の孔７を有し、該孔７の寸法が多孔マス
ク６の中心部６ａから外周縁６ｂに近づくにつれて大き
くなっており、多孔マスク６の単位面積当りの開口部の
面積（以下、「有孔率」という。）が多孔マスク６の幅
方向である径方向外方に向って大きくなるように設定さ
れている。また、前記有孔率は、各レンズヤトイ３に保
持されるレンズ４ごとに、その曲率半径に基づいて、レ
ンズ４の表面４ａに蒸着される蒸発物質の量が、該表面
４ａに沿って径方向外方へ向うにつれて所定の割合で増
加するように設定され、レンズ４の表面４ａに入射する
蒸気流１ａの入射角がレンズ４の外周縁に近づくにつれ
て浅くなることによる膜厚むらを軽減する。また、孔７
の寸法が多孔マスク６の中心に近づくにつれて縮小して
おり、このために、レンズ４の中心部分の成膜量を容易
に制御できる。
【００１５】本実施例によれば、各レンズヤトイごとに
多孔マスクを配設し、その孔の寸法をレンズヤトイに保
持されるレンズの曲率半径に基づいて設定することによ
り、異なる曲率半径をもつ複数のレンズに同時に均一な
膜厚を有する薄膜を蒸着することができる。
多孔マスクを配設し、その孔の寸法をレンズヤトイに保
持されるレンズの曲率半径に基づいて設定することによ
り、異なる曲率半径をもつ複数のレンズに同時に均一な
膜厚を有する薄膜を蒸着することができる。
【００１６】図３は、本実施例の一変形例を示すもの
で、本変形例は、径方向外方へ向けて孔７の寸法が拡大
する多孔マスク６の替わりに、均一な寸法の孔を均一に
分布させた多孔板を所定の外形の板状体に打ち抜くこと
によって作成される多孔マスク１６を用いたものであ
る。すなわち、各多孔マスク１６は、均一な寸法で均一
に分布する孔１７を有し、外周縁には孔１７とともに開
口部を構成する所定の形状および寸法の切欠１８が形成
され、これによって、多孔マスク１６の有孔率が径方向
外方へ向って増大し、レンズの外周部分に蒸着される蒸
発物質の量が内周部分より多くなるように構成されてい
る。切欠１８の形状および寸法は、レンズの曲率半径に
基づく膜厚むらを軽減するように設定される。本変形例
は、均一な孔を設けた多孔板を所定の形状に打ち抜くだ
けで、曲率半径の異なるレンズに対応する多孔マスクに
作成できるため、製造コストが低減できる利点を有す
る。
で、本変形例は、径方向外方へ向けて孔７の寸法が拡大
する多孔マスク６の替わりに、均一な寸法の孔を均一に
分布させた多孔板を所定の外形の板状体に打ち抜くこと
によって作成される多孔マスク１６を用いたものであ
る。すなわち、各多孔マスク１６は、均一な寸法で均一
に分布する孔１７を有し、外周縁には孔１７とともに開
口部を構成する所定の形状および寸法の切欠１８が形成
され、これによって、多孔マスク１６の有孔率が径方向
外方へ向って増大し、レンズの外周部分に蒸着される蒸
発物質の量が内周部分より多くなるように構成されてい
る。切欠１８の形状および寸法は、レンズの曲率半径に
基づく膜厚むらを軽減するように設定される。本変形例
は、均一な孔を設けた多孔板を所定の形状に打ち抜くだ
けで、曲率半径の異なるレンズに対応する多孔マスクに
作成できるため、製造コストが低減できる利点を有す
る。
【００１７】
【発明の効果】本発明は上述のとおり構成されているの
で、以下に記載するような効果を奏する。
で、以下に記載するような効果を奏する。
【００１８】異なる曲率半径をもつ複数のレンズに同時
にそれぞれ均一な膜厚を有する薄膜を蒸着することがで
きる。
にそれぞれ均一な膜厚を有する薄膜を蒸着することがで
きる。
【図１】一実施例を示す模式断面図である。
【図２】図１のＯ1 −Ｏ1 線からみた平面図である。
【図３】本実施例の一変形例を示す平面図である。
【図４】従来例を示す模式断面図である。
【図５】図４のＯ0 −Ｏ0 線からみた平面図である。
１ 蒸発源
２ レンズホルダ
３ レンズヤトイ
４ レンズ
５ マスクホルダ
６，１６ 多孔マスク
７，１７ 孔
１８ 切欠
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 昭60−211064（ＪＰ，Ａ)
特開 昭62−60859（ＪＰ，Ａ)
特開 昭63−257941（ＪＰ，Ａ)
実開 昭567−21670（ＪＰ，Ｕ)
実開 平２−57954（ＪＰ，Ｕ)
特公 昭63−56310（ＪＰ，Ｂ１)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C23C 14/00 - 14/58
G02B 1/10
Claims (4)
- 【請求項１】 蒸発源と、複数のレンズ保持手段をそれ
ぞれ自転自在に保持する回転自在なレンズホルダと、該
レンズホルダを回転させるとともに前記レンズ保持手段
をそれぞれ自転させる遊星回転駆動装置と、前記レンズ
ホルダに固着されたマスクホルダと、該マスクホルダに
保持されて各レンズ保持手段と前記蒸発源との間に配設
された多孔マスクからなり、前記多孔マスクが前記マス
クホルダによって前記レンズホルダの本体と一体的に設
けられており、前記多孔マスクの単位面積当りの開口部
の面積が、前記多孔マスクの幅方向に変化していること
を特徴とする薄膜蒸着装置。 - 【請求項２】 多孔マスクが大きさの異なる多数の孔を
有する円板状の多孔板であり、その外周縁に近づく程、
前記孔の大きさが増大していることを特徴とする請求項
１記載の薄膜蒸着装置。 - 【請求項３】 多孔マスクが均一な大きさの孔を有する
円板状の多孔板であり、その外周縁に切欠が設けられて
いることを特徴とする請求項１記載の薄膜蒸着装置。 - 【請求項４】 多孔マスクの有孔率がレンズ保持手段に
保持されるレンズの曲率に基づき各レンズごとに設定さ
れていることを特徴とする請求項１ないし３いずれか１
項記載の薄膜蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35963892A JP3412849B2 (ja) | 1992-12-25 | 1992-12-25 | 薄膜蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35963892A JP3412849B2 (ja) | 1992-12-25 | 1992-12-25 | 薄膜蒸着装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06192835A JPH06192835A (ja) | 1994-07-12 |
| JP3412849B2 true JP3412849B2 (ja) | 2003-06-03 |
Family
ID=18465529
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35963892A Expired - Fee Related JP3412849B2 (ja) | 1992-12-25 | 1992-12-25 | 薄膜蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3412849B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU741219B2 (en) * | 1997-05-16 | 2001-11-29 | Hoya Kabushiki Kaisha | Mechanism for imparting water repellency to both sides simultaneously |
| CN1239924C (zh) | 1997-05-16 | 2006-02-01 | Hoya株式会社 | 有抗反射膜的塑料光学器件和使抗反射膜厚度均一的机构 |
| US6264751B1 (en) * | 1998-05-18 | 2001-07-24 | Hoya Corporation | Mechanism for performing water repellency processing on both sides simultaneously |
| FR2783001B1 (fr) * | 1998-09-04 | 2000-11-24 | Essilor Int | Procede pour le traitement sous vide d'un quelconque substrat courbe, notamment un verre de lunettes, et cache propre a la mise en oeuvre d'un tel procede |
| JP5493824B2 (ja) * | 2009-12-21 | 2014-05-14 | 日本電気硝子株式会社 | 光学部品の製造方法及び光学部品 |
| JP6635492B1 (ja) * | 2019-10-15 | 2020-01-29 | サンテック株式会社 | 基板回転装置 |
-
1992
- 1992-12-25 JP JP35963892A patent/JP3412849B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06192835A (ja) | 1994-07-12 |
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