WO2012114648A1 - 有機el表示パネルおよび有機el表示装置 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明の一態様に係る有機EL表示パネルは、基板と、前記基板上または前記基板内に形成された第1電極と、前記基板上または前記基板内に前記第1電極と離間して形成された補助配線と、前記第1電極の上方に形成され、少なくとも発光層を含む機能層と、前記機能層と前記第1電極との間に介在し前記機能層へのホール注入を行うホール注入層と、前記機能層の上方に形成された第2電極と、を具備し、前記ホール注入層および前記第2電極の各々は、前記第1電極の上方および前記補助配線の上方に連続して形成され、前記第2電極と前記補助配線とは、前記ホール注入層を介して電気接続され、前記ホール注入層は、酸化タングステンを含んで構成され、かつ、その電子状態において、価電子帯で最も低い結合エネルギーより1.8~3.6eV低い結合エネルギー領域内に占有準位を有している構成とした。
本発明者らは、金属酸化物からなるホール注入層の表面に、酸素欠陥に類する構造が形成するフェルミ面近傍の占有準位が存在すれば、当該ホール注入層と機能層との界面において、当該フェルミ面近傍の占有準位で最も低い結合エネルギーと、機能層の最高被占軌道の結合エネルギーとの差が小さくなることを、後述するような実験により確認した。
以下、本発明の一態様に係る有機EL表示パネルおよび有機EL表示装置を説明し、続いて各性能確認実験の結果と考察を述べる。なお、各図面における部材縮尺は、実際のものとは異なる。
図1は、本発明の一態様に係る有機EL表示パネルを説明するための図であって、図1(a)は、有機EL表示パネルの要部を説明する部分平面図、図1(b)は、図1(a)におけるA-A’線に沿って切断した要部断面図である。
基板10は、有機EL素子の基材となる部分であり、例えば、無アルカリガラス、ソーダガラス、無蛍光ガラス、燐酸系ガラス、硼酸系ガラス、石英、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエチレン、ポリエステル、シリコン系樹脂、またはアルミナ等の絶縁性材料のいずれかで形成することができる。
陽極20は、例えば、Alからなる厚さ400nmの金属膜に、ITOからなる厚さ20nmの透明導電膜を積層させて構成される。なお、陽極20の構成はこれに限定されず、例えばITO、IZOなどの透明導電膜、Al、Agなどの金属膜、APC(銀、パラジウム、銅の合金)、ARA(銀、ルビジウム、金の合金)、MoCr(モリブデンとクロムの合金)、NiCr(ニッケルとクロムの合金)などの合金膜の単層から構成されていてもよい。また、それら透明導電膜、金属膜および合金膜の中から選択した複数の膜を積層させて構成することもできる。
補助配線30は、例えば、Alからなる厚さ400nmの金属膜に、ITOからなる厚さ20nmの透明導電膜を積層させて構成される。なお、補助配線30の構成はこれに限定されず、例えばITO、IZOなどの透明導電膜、Al、Agなどの金属膜、APC(銀、パラジウム、銅の合金)、ARA(銀、ルビジウム、金の合金)、MoCr(モリブデンとクロムの合金)、NiCr(ニッケルとクロムの合金)などの合金膜の単層から構成されていてもよい。また、それら透明導電膜、金属膜および合金膜の中から選択した複数の膜を積層させて構成することもできる。
ホール注入層40は、例えば、酸化タングステン(組成式WOxにおいて、xは概ね2<x<3の範囲における実数)を用いた、少なくとも膜厚が2nm以上(ここでは一例として30nm)の層として構成される。膜厚が2nm未満であると、均一な成膜を行いにくく、また、画素部の陽極20とホール注入層40の間のショットキーオーミック接続を形成しにくいので、好ましくない。前記ショットキーオーミック接続は酸化タングステンの膜厚が2nm以上で安定して形成されるため、これ以上の膜厚でホール注入層40を形成すれば、画素部の陽極20からホール注入層40への安定したホール注入効率を期待できる。
バンク50は、例えば、絶縁性の有機材料(例えばアクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ノボラック型フェノール樹脂等)からなり、画素開口部45が複数の陽極20の各々に対応して形成された井桁構造、または、画素開口部45が複数配置された陽極20のラインごとに対応して形成されたストライプ構造をなすように形成されている。なお、バンク50は、本発明に必須の構成ではなく、有機EL素子を単体で使用する場合等には不要である。
バッファ層60は、例えば、厚さ20nmのアミン系有機高分子であるTFB(poly(9,9-di-n-octylfluorene-alt-(1,4-phenylene-((4-sec-butylphenyl)imino)-1,4-phenylene))で構成されている。
発光層70は、例えば、厚さ70nmの有機高分子であるF8BT(poly(9,9-di-n-octylfluorene-alt-benzothiadiazole))で構成される。しかしながら、発光層70はこの材料からなる構成に限定されず、公知の有機材料を含むように構成することが可能である。たとえば特開平5-163488号公報に記載のオキシノイド化合物、ペリレン化合物、クマリン化合物、アザクマリン化合物、オキサゾール化合物、オキサジアゾール化合物、ペリノン化合物、ピロロピロール化合物、ナフタレン化合物、アントラセン化合物、フルオレン化合物、フルオランテン化合物、テトラセン化合物、ピレン化合物、コロネン化合物、キノロン化合物およびアザキノロン化合物、ピラゾリン誘導体およびピラゾロン誘導体、ローダミン化合物、クリセン化合物、フェナントレン化合物、シクロペンタジエン化合物、スチルベン化合物、ジフェニルキノン化合物、スチリル化合物、ブタジエン化合物、ジシアノメチレンピラン化合物、ジシアノメチレンチオピラン化合物、フルオレセイン化合物、ピリリウム化合物、チアピリリウム化合物、セレナピリリウム化合物、テルロピリリウム化合物、芳香族アルダジエン化合物、オリゴフェニレン化合物、チオキサンテン化合物、アンスラセン化合物、シアニン化合物、アクリジン化合物、8-ヒドロキシキノリン化合物の金属錯体、2-ビピリジン化合物の金属錯体、シッフ塩とIII族金属との錯体、オキシン金属錯体、希土類錯体等の蛍光物質等を挙げることができる。
本発明における機能層は、ホールを輸送するホール輸送層、注入されたホールと電子とが再結合することで発光する発光層、光学特性の調整または電子ブロックの用途に用いられるバッファ層等のいずれか、もしくはそれらの2層以上の組み合わせ、または全ての層を指す。本発明はホール注入層を対象としているが、有機EL素子はホール注入層以外に上記したホール輸送層、発光層等のそれぞれ所要機能を果たす層が存在する。機能層とは、本発明の対象とするホール注入層以外の、有機EL素子に必要な層を意味している。
電子注入層80は、例えば、厚さ5nmのバリウム層で構成されており、陰極90から発光層70に電子を注入する機能を有する。電子注入層80は、陽極20の上方および補助配線30の上方に連続して形成されており、陽極20の上方では陰極90と発光層70との間に介在し、補助配線30の上方では陰極90とホール注入層40との間に介在する。本実施の形態のように、光を上方に取り出す方式(トップ・エミッション方式)においては、電子注入層80は光透過性を有する必要があり、電子注入層を上記したように厚さ5nmのバリウム層で構成する場合には、光透過性を有する。なお、光を下方に取り出す方式(ボトムエミッション方式)においては、素子構造にも依存するが、電子注入層は必ずしも光透過性は求められない。
陰極90は、例えば、ITOからなる厚さ35nmの透明導電膜を積層させて構成される。なお、陰極90の構成はこれに限定されず、IZOなどの他の透明導電膜や、Al、Agなどの金属やAPC(銀、パラジウム、銅の合金)、ARA(銀、ルビジウム、金の合金)、MoCr(モリブデンとクロムの合金)、NiCr(ニッケルとクロムの合金)などの合金からなる薄膜で構成されていてもよい。また、それら透明導電膜、金属膜および合金膜の中から選択した複数の膜を積層させて構成することもできる。
図2に基づいて、本発明の一態様に係る有機EL表示装置について説明する。図2は、本発明の一態様に係る有機EL表示装置の全体構成を示す図である。
以下に、本実施の形態に係る有機EL表示パネルの製造方法について、図面を参照しながら詳細に説明する。
まず、基板10C上に例えばスパッタ法により銀からなる薄膜を形成し、当該薄膜を例えばフォトリソグラフィでパターニングすることにより、マトリックス状に陽極20Cおよび補助配線30Cを形成する(図5(a))。なお、当該薄膜は真空蒸着法等で形成しても良い。
(陽極および補助配線形成工程からバンク形成工程までの別の工程例)
次に図8、9を用いて、陽極および補助配線形成工程からバンク形成工程までのプロセスの別例を説明する。なお、当該プロセスでは、基板10Cの表面に平坦化膜17Cを形成する構成を例示している。
[ドライエッチング条件]
処理対象;酸化タングステン膜
エッチングガス;フッ素系ガス(SF6、CF4CHF3)
混合ガス;O2、N2
混合ガス比;CF4:O2=160:40
供給パワー;Source 500W、Bias 400W
圧力;10~50mTorr
エッチング温度;室温
上記ドライエッチング処理を実施後、ホール注入層40Dが形成される。その後はO2ガスでアッシング処理を行うことで、次のウェットエッチング(W/E)処理におけるレジストパターンRの剥離を容易にしておく。
[ウェットエッチング条件]
処理対象;IZO薄膜及びAl合金薄膜
エッチャント;リン酸、硝酸、酢酸の混合水溶液
溶剤の混合比率;任意(一般的な条件で混合可能)
エッチング温度;室温よりも低くする。
<各種実験と考察>
(酸化タングステンの成膜条件について)
本実施の形態では、ホール注入層を構成する酸化タングステンを所定の成膜条件で成膜することで、ホール注入層に前記したフェルミ面近傍の占有準位を存在させ、ホール注入層とバッファ層との間のホール注入障壁を低減して、有機EL表示パネル110を低電圧駆動できるようにしている。
作製した各ホールオンリー素子1Bを直流電源DCに接続し、電圧を印加した。このときの印加電圧を変化させ、電圧値に応じて流れた電流値を素子の単位面積当たりの値(電流密度)に換算した。以降、「駆動電圧」とは、電流密度10mA/cm2のときの印加電圧とする。
また、図12の(a)~(c)は、各ホールオンリー素子1Bの駆動電圧の成膜条件依存性をまとめたグラフである。図12(a)中の各点は、左から右に向かって、素子No.4、10、2の駆動電圧を表す。図12(b)中の各点は、左から右に向かって、素子No.13、10、1の駆動電圧を表す。さらに図12(c)中の各点は、左から右に向かって、素子No.14、2、8の駆動電圧を表す。
本実施の形態の有機EL表示パネル110のホール注入層を構成する酸化タングステンには、前記フェルミ面近傍の占有準位が存在している。このフェルミ面近傍の占有準位は、先の実験で示した成膜条件の調整により形成されるものである。詳細を以下に述べる。
バイアス :なし
出射角 :基板法線方向
測定点間隔:0.05eV
図17に、サンプルAの酸化タングステン層12のUPSスペクトルを示す。横軸の結合エネルギーの原点は導電性シリコン基板11のフェルミレベルとし、左方向を正の向きとした。
この組成比から、サンプルA、B、Cのいずれにおいても、酸化タングステン層12は少なくとも表面から深さ数nm以内の範囲において、三酸化タングステンを基本とする原子配置、つまり6つの酸素原子が1つのタングステン原子に対し8面体配位で結合し、8面体が互いに頂点の酸素原子を共有する構造を基本構造に持つと考えられる。したがって、図17における領域(x)は、三酸化タングステン結晶、あるいはその結晶の秩序が乱れた(ただし結合は切れておらず、上記基本構造が保たれている)アモルファス構造が持つ、上記基本構造に由来する占有準位であり、いわゆる価電子帯に対応する領域である。なお、本願発明者は酸化タングステン層12のX線吸収微細構造(XAFS)測定を行い、サンプルA、B、Cのいずれにおいても、上記基本構造が形成されていることを確認した。
酸化タングステンからなるホール注入層において、UPSスペクトル等でフェルミ面近傍の隆起構造として確認できるフェルミ面近傍の占有準位が、ホール注入層から機能層へのホール注入効率に作用する原理は、以下のように考えることができる。
次に、陽極と、本発明の酸化タングステンからなるホール注入層との間に形成される、ショットキーオーミック接続、およびその安定性(陽極の材料や表面状態に対する依存性)について説明する。
まず、陽極と機能層を直接積層した従来構成の有機EL素子における、陽極と機能層との界面付近におけるエネルギーダイアグラムを、図25~28にそれぞれ示す。なお、ここでは機能層としてα-NPDを用いた。また、図中の縦軸の結合エネルギーは、陽極のフェルミレベルを原点とした絶対値表記にしている。
上記のように、本発明の酸化タングステンからなるホール注入層は、膜厚が2nm以上であれば、陽極との間に安定したショットキーオーミック接続を形成できる。このことを素子の特性によっても確認した。
膜厚0nmの素子の駆動電圧は相当に高くなっている。これは、本発明のホール注入層を持たないために、陽極とバッファ層との間に大きなホール注入障壁が生じているためと考えられる。一方、膜厚5nm、30nmの各素子1Bでは、駆動電圧が低く抑えられており、その値も膜厚に依存せず、ほぼ同じであることがわかる。これより、ホール注入層の膜厚が少なくとも5nm以上であるとき、陽極と本発明のホール注入層の間には、ほぼ一定のショットキーオーミック接続が形成され、陽極からホール注入層への良好なホール注入効率が実現していると考えられる。
駆動電圧はいずれも低く、良好である。素子の作製上必然的に生じる各層の膜厚のばらつきなどを考慮すれば、これらの駆動電圧は、膜厚に依存せず、十分に同等と見なせる。これより、ホールオンリー素子1Bの場合と同様に、当該有機EL素子1においても、ホール注入層の膜厚が2nm以上であるとき、陽極と本発明のホール注入層の間に、ほぼ一定のショットキーオーミック接続が形成されていると考えられる。
当該有機EL素子1は、表6で用いたものと同じ構成であり、ホール注入層の膜厚は2~30nmの範囲とし、また、比較のために、ホール注入層を省略した膜厚0nmの素子1も作製した。
これより、まず、膜厚0nmの素子1は輝度の低下が速く、つまり寿命が短いことがわかる。これは、本発明のホール注入層を持たないために、陽極とバッファ層との間に大きなホール注入障壁が生じ、定電流を流すためには駆動電圧を高くする必要があり、素子1への負荷が高くなることが大きく影響していると考えられる。
上記では、有機EL素子における陽極とホール注入層に関して考察するという観点から、キャリアとしてはホールと表現し、また電流は陽極からホール注入層への方向のみを議論した。しかしながら、陽極等の電極と本発明のホール注入層の間のショットキーオーミック接続は、電流の方向を電極からホール注入層のみに限定するものではない。
以上、本発明の一態様に係る有機EL表示パネル、および、有機EL表示装置を具体的に説明してきたが、上記実施の形態は、本発明の構成および作用・効果を分かり易く説明するために用いた例であって、本発明の内容は、上記の実施の形態に限定されない。例えば、理解を容易にするために挙げた各部のサイズや材料などは、あくまでも典型的な一例に過ぎず、本発明がそれらサイズや材料などに限定されるものではない。
1A 光電子分光測定用サンプル
1B ホールオンリー素子
2、20、20C 第1電極(陽極)
4、12、40、40C、40D ホール注入層(酸化タングステン層)
6A、60、60C バッファ層
6B、70、70C 発光層(有機層)
8A バリウム層
8B アルミニウム層
8C 陰極(Au)
9、95C 封止層
10、10C 基板
11 導電性シリコン基板
17C 平坦化膜
20X Al合金薄膜
25C ITO層
25D IZO層
25X IZO薄膜
30、30C 補助配線(配線)
35 接続開口部
40X 薄膜(酸化タングステン膜)
40a、40b 凹部
45 画素開口部
50、50C 隔壁(バンク)
50A フォトレジスト
50X バンク材料層
51 マスク
80、85C 金属層(電子注入層)
90、90C 第2電極(陰極)
95 発光部
95A 発光画素
100 有機EL表示装置
110、110C 有機EL表示パネル
110A 中間製品
120 駆動制御部
121~124 駆動回路
125 制御回路
Claims (35)
- 基板と、
前記基板上または前記基板内に形成された第1電極と、
前記基板上または前記基板内に前記第1電極と離間して形成された補助配線と、
前記第1電極の上方に形成され、少なくとも発光層を含む機能層と、
前記機能層と前記第1電極との間に介在し前記機能層へのホール注入を行うホール注入層と、
前記機能層の上方に形成された第2電極と、を具備し、
前記ホール注入層および前記第2電極の各々は、前記第1電極の上方および前記補助配線の上方に連続して形成され、
前記第2電極と前記補助配線とは、前記ホール注入層を介して電気接続され、
前記ホール注入層は、酸化タングステンを含んで構成され、かつ、その電子状態において、価電子帯で最も低い結合エネルギーより1.8~3.6eV低い結合エネルギー領域内に占有準位を有している
有機EL表示パネル。 - 前記第2電極は、透明電極である
請求項1に記載の有機EL表示パネル。 - 前記透明電極は、ITOまたはIZOである
請求項2に記載の有機EL表示パネル。 - 前記第2電極は、AlまたはAgを主成分とする
請求項1に記載の有機EL表示パネル。 - 前記第1電極の上方および前記補助配線の上方に連続して形成された金属層を有し、
前記金属層は、
前記第1電極の上方では、前記第2電極と前記発光層との間に介在し、
前記補助配線の上方では、前記第2電極と前記ホール注入層との間に介在する
請求項1~4のいずれか1項に記載の有機EL表示パネル。 - 前記金属層は、前記第1電極の上方にて、前記第2電極から前記発光層に電子を注入する電子注入層である
請求項5に記載の有機EL表示パネル。 - 前記金属層がBaを含んでなる
請求項6に記載の有機EL表示パネル。 - 前記補助配線は、ITOまたはIZOである
請求項1~7のいずれか1項に記載の有機EL表示パネル。 - 前記第1電極の上方に形成されたホール注入層と同一層のホール注入層が、前記補助配線の上方に形成されている
請求項1~8のいずれか1項に記載の有機EL表示パネル。 - 少なくとも前記補助配線上に形成されるホール注入層の膜厚が4nm以上である
請求項1~9のいずれか1項に記載の有機EL表示パネル。 - 前記第1電極を露出させた開口部および前記補助配線を露出させた領域を有する隔壁が、前記ホール注入層上に形成され、
前記発光層は、前記第1電極の上方であって前記隔壁の開口部内に形成されている
請求項1~10のいずれか1項に記載の有機EL表示パネル。 - 前記第1電極は画素単位に複数配置され、
前記隔壁の開口部は、前記複数の第1電極の各々に対応して形成されている
請求項11に記載の有機EL表示パネル。 - 前記第1電極は画素単位に複数配置され、
前記隔壁の開口部は、前記複数配置された第1電極のラインごとに、対応して形成されている
請求項11に記載の有機EL表示パネル。 - 前記ホール注入層と前記第1電極との積層界面において、前記占有準位の結合エネルギーと前記第1電極の最高被占軌道の結合エネルギーの差が±0.3eV以内である
請求項1~13のいずれか1項に記載の有機EL表示パネル。 - 前記ホール注入層の膜厚は2nm以上である、
請求項1~14のいずれか1項に記載の有機EL表示パネル。 - 前記ホール注入層は、UPSスペクトルにおいて、価電子帯で最も低い結合エネルギーより1.8~3.6eV低い結合エネルギー領域内に、隆起した形状を有する
請求項1~15のいずれか1項に記載の有機EL表示パネル。 - 前記ホール注入層は、XPSスペクトルにおいて、価電子帯で最も低い結合エネルギーより1.8~3.6eV低い結合エネルギー領域内に、隆起した形状を有する
請求項1~16のいずれか1項に記載の有機EL表示パネル。 - 前記ホール注入層は、UPSスペクトルの微分スペクトルにおいて、価電子帯で最も低い結合エネルギーより2.0~3.2eV低い結合エネルギー領域に亘り、指数関数とは異なる関数として表される形状を有する
請求項1~17のいずれか1項に記載の有機EL表示パネル。 - 前記ホール注入層における前記占有準位は、価電子帯で最も低い結合エネルギーより2.0~3.2eV低い結合エネルギー領域内に存在している
請求項1~18のいずれか1項に記載の有機EL表示パネル。 - 前記占有準位の存在によって、前記ホール注入層と前記機能層との積層界面において、前記機能層の最高被占軌道の結合エネルギーが、前記占有準位の結合エネルギーの近傍に位置づけられている
請求項1~19のいずれか1項に記載の有機EL表示パネル。 - 前記ホール注入層と前記機能層との積層界面において、前記占有準位の結合エネルギーと前記機能層の最高被占軌道の結合エネルギーの差が±0.3eV以内である
請求項20に記載の有機EL表示パネル。 - 前記占有準位の存在によって、前記第1電極と前記ホール注入層との積層界面において、前記占有準位の結合エネルギーが前記第1電極のフェルミレベルの近傍に位置づけられている
請求項1~21のいずれか1項に記載の有機EL表示パネル。 - 前記第1電極と前記ホール注入層との積層界面において、前記占有準位の結合エネルギーと前記第1電極のフェルミレベルの差が±0.3eV以内である
請求項22に記載の有機EL表示パネル。 - 前記占有準位の存在によって、前記補助配線と前記ホール注入層との積層界面において、前記占有準位の結合エネルギーが前記補助配線のフェルミレベルの近傍に位置づけられている
請求項1~23のいずれか1項に記載の有機EL表示パネル。 - 前記補助配線と前記ホール注入層との積層界面において、前記占有準位の結合エネルギーと前記補助配線のフェルミレベルの差が±0.3eV以内である
請求項24に記載の有機EL表示パネル。 - 前記占有準位の存在によって、前記ホール注入層と前記第2電極との積層界面において、前記占有準位の結合エネルギーが前記第2電極のフェルミレベルの近傍に位置づけられている
請求項1~25のいずれか1項に記載の有機EL表示パネル。 - 前記ホール注入層と前記第2電極との積層界面において、前記占有準位の結合エネルギーと前記第2電極のフェルミレベルの差が±0.3eV以内である
請求項26に記載の有機EL表示パネル。 - 前記占有準位の存在によって、前記ホール注入層と前記電子注入層との積層界面において、前記占有準位の結合エネルギーが前記電子注入層のフェルミレベルの近傍に位置づけられている
請求項1~27のいずれか1項に記載の有機EL表示パネル。 - 前記ホール注入層と前記電子注入層との積層界面において、前記占有準位の結合エネルギーと前記電子注入層のフェルミレベルの差が±0.3eV以内である
請求項28に記載の有機EL表示パネル。 - 基板と、
前記基板上または前記基板内に形成された第1電極と、
前記基板上または前記基板内に前記第1電極と離間して形成された配線と、
前記第1電極の上方に形成され、有機材料を含む有機層と、
前記有機層と前記第1電極との間に介在し、酸化タングステンを含む酸化タングステン層と、
前記有機層の上方に形成された第2電極と、を具備し、
前記酸化タングステン層および前記第2電極の各々は、前記第1電極の上方および前記配線の上方に連続して形成され、
前記第2電極と前記配線とは、前記酸化タングステン層を介して電気接続され、
前記酸化タングステン層は、その電子状態において、価電子帯で最も低い結合エネルギーより1.8~3.6eV低い結合エネルギー領域内に占有準位を有している
有機EL表示パネル。 - 請求項1~30のいずれか1項に記載の有機EL表示パネルを備える
有機EL表示装置。 - 基板上または基板内に第1電極を形成する第一の工程と、
前記基板上または前記基板内に前記第1電極と離間して補助配線を形成する第二の工程と、
前記第1電極の上方及び前記補助配線の上方に連続したホール注入層を形成する第三の工程と、
前記第1電極の上方に少なくとも発光層を含む機能層を形成する第四の工程と、
前記機能層の上方および前記補助配線上の前記ホール注入層の上方に連続した第2電極を形成する第五の工程と、を具備し、
前記第2電極と前記補助配線とは、前記ホール注入層を介して電気接続され、
前記ホール注入層は、酸化タングステンを含んで構成され、かつ、その電子状態において、価電子帯で最も低い結合エネルギーより1.8~3.6eV低い結合エネルギー領域内に占有準位を有している、
有機EL表示パネルの製造方法。 - 前記第三の工程と前記第四の工程との間に、前記第1電極を露出させた開口部及び前記補助配線を露出させた領域を有する隔壁を前記正孔注入層上に形成する工程を、さらに具備し、
前記第四の工程において、前記機能層は前記隔壁の前記開口部内に形成される、
請求項32に記載の有機EL表示パネルの製造方法。 - 前記第三の工程において、前記第1電極の上方に形成されたホール注入層と同一層のホール注入層が前記補助配線の上方に形成される
請求項32または33のいずれかに記載の有機EL表示パネルの製造方法。 - 基板上または基板内に第1電極を形成する第一の工程と、
前記基板上または前記基板内に前記第1電極と離間して配線を形成する第二の工程と、
前記第1電極の上方及び前記配線の上方に連続した酸化タングステンを含む酸化タングステン層を形成する第三の工程と、
前記第1電極の上方に有機材料を含む有機層を形成する第四の工程と、
前記有機層の上方および前記配線上の前記酸化タングステン層の上方に連続した第2電極を形成する第五の工程と、を具備し、
前記第2電極と前記配線とは、前記酸化タングステン層を介して電気接続され、
前記酸化タングステン層は、その電子状態において、価電子帯で最も低い結合エネルギーより1.8~3.6eV低い結合エネルギー領域内に占有準位を有している
有機EL表示パネルの製造方法。
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