WO2007040159A1 - 特定の表面形状と物性を有する構造体及びその構造体形成用の（メタ）アクリル系重合性組成物 - Google Patents

特定の表面形状と物性を有する構造体及びその構造体形成用の（メタ）アクリル系重合性組成物 Download PDF

Info

Publication number
WO2007040159A1
WO2007040159A1 PCT/JP2006/319380 JP2006319380W WO2007040159A1 WO 2007040159 A1 WO2007040159 A1 WO 2007040159A1 JP 2006319380 W JP2006319380 W JP 2006319380W WO 2007040159 A1 WO2007040159 A1 WO 2007040159A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
meth
acrylate
urethane
polymerizable composition
structure according
Prior art date
Application number
PCT/JP2006/319380
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Tsukasa Matsumoto
Original Assignee
The Inctec Inc.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by The Inctec Inc. filed Critical The Inctec Inc.
Priority to US12/064,478 priority Critical patent/US7897243B2/en
Priority to KR1020087006649A priority patent/KR101362637B1/ko
Priority to CN2006800320018A priority patent/CN101253227B/zh
Priority to JP2007538736A priority patent/JP4938675B2/ja
Priority to TW096103176A priority patent/TWI443130B/zh
Publication of WO2007040159A1 publication Critical patent/WO2007040159A1/ja

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/118—Anti-reflection coatings having sub-optical wavelength surface structures designed to provide an enhanced transmittance, e.g. moth-eye structures
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C43/00—Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor
    • B29C43/22—Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor of articles of indefinite length
    • B29C43/222—Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor of articles of indefinite length characterised by the shape of the surface
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C43/00—Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor
    • B29C43/22—Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor of articles of indefinite length
    • B29C43/28—Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor of articles of indefinite length incorporating preformed parts or layers, e.g. compression moulding around inserts or for coating articles
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F283/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G
    • C08F283/12—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G on to polysiloxanes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F290/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F290/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
    • C08F290/02—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups on to polymers modified by introduction of unsaturated end groups
    • C08F290/06—Polymers provided for in subclass C08G
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F290/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
    • C08F290/02—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups on to polymers modified by introduction of unsaturated end groups
    • C08F290/06—Polymers provided for in subclass C08G
    • C08F290/061—Polyesters; Polycarbonates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F290/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
    • C08F290/02—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups on to polymers modified by introduction of unsaturated end groups
    • C08F290/06—Polymers provided for in subclass C08G
    • C08F290/064—Polymers containing more than one epoxy group per molecule
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F290/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
    • C08F290/02—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups on to polymers modified by introduction of unsaturated end groups
    • C08F290/06—Polymers provided for in subclass C08G
    • C08F290/065—Polyamides; Polyesteramides; Polyimides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F299/00—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/30—Low-molecular-weight compounds
    • C08G18/32—Polyhydroxy compounds; Polyamines; Hydroxyamines
    • C08G18/3203—Polyhydroxy compounds
    • C08G18/3206—Polyhydroxy compounds aliphatic
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/40—High-molecular-weight compounds
    • C08G18/42—Polycondensates having carboxylic or carbonic ester groups in the main chain
    • C08G18/4236—Polycondensates having carboxylic or carbonic ester groups in the main chain containing only aliphatic groups
    • C08G18/4238—Polycondensates having carboxylic or carbonic ester groups in the main chain containing only aliphatic groups derived from dicarboxylic acids and dialcohols
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/67—Unsaturated compounds having active hydrogen
    • C08G18/671—Unsaturated compounds having only one group containing active hydrogen
    • C08G18/672—Esters of acrylic or alkyl acrylic acid having only one group containing active hydrogen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/70—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the isocyanates or isothiocyanates used
    • C08G18/72—Polyisocyanates or polyisothiocyanates
    • C08G18/74—Polyisocyanates or polyisothiocyanates cyclic
    • C08G18/75—Polyisocyanates or polyisothiocyanates cyclic cycloaliphatic
    • C08G18/751—Polyisocyanates or polyisothiocyanates cyclic cycloaliphatic containing only one cycloaliphatic ring
    • C08G18/752—Polyisocyanates or polyisothiocyanates cyclic cycloaliphatic containing only one cycloaliphatic ring containing at least one isocyanate or isothiocyanate group linked to the cycloaliphatic ring by means of an aliphatic group
    • C08G18/753—Polyisocyanates or polyisothiocyanates cyclic cycloaliphatic containing only one cycloaliphatic ring containing at least one isocyanate or isothiocyanate group linked to the cycloaliphatic ring by means of an aliphatic group containing one isocyanate or isothiocyanate group linked to the cycloaliphatic ring by means of an aliphatic group having a primary carbon atom next to the isocyanate or isothiocyanate group
    • C08G18/755—Polyisocyanates or polyisothiocyanates cyclic cycloaliphatic containing only one cycloaliphatic ring containing at least one isocyanate or isothiocyanate group linked to the cycloaliphatic ring by means of an aliphatic group containing one isocyanate or isothiocyanate group linked to the cycloaliphatic ring by means of an aliphatic group having a primary carbon atom next to the isocyanate or isothiocyanate group and at least one isocyanate or isothiocyanate group linked to a secondary carbon atom of the cycloaliphatic ring, e.g. isophorone diisocyanate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
    • C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
    • C08G65/32—Polymers modified by chemical after-treatment
    • C08G65/329—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds
    • C08G65/331—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing oxygen
    • C08G65/332—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing oxygen containing carboxyl groups, or halides, or esters thereof
    • C08G65/3322—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing oxygen containing carboxyl groups, or halides, or esters thereof acyclic
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L75/00—Compositions of polyureas or polyurethanes; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L75/04—Polyurethanes
    • C08L75/14—Polyurethanes having carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • C08L75/16—Polyurethanes having carbon-to-carbon unsaturated bonds having terminal carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/111—Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/0006—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 with means to keep optical surfaces clean, e.g. by preventing or removing dirt, stains, contamination, condensation
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C43/00—Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor
    • B29C43/32—Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
    • B29C43/44—Compression means for making articles of indefinite length
    • B29C43/46—Rollers
    • B29C2043/461—Rollers the rollers having specific surface features
    • B29C2043/463—Rollers the rollers having specific surface features corrugated, patterned or embossed surface
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C43/00—Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor
    • B29C43/02—Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor of articles of definite length, i.e. discrete articles
    • B29C43/04—Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor of articles of definite length, i.e. discrete articles using movable moulds
    • B29C43/06—Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor of articles of definite length, i.e. discrete articles using movable moulds continuously movable in one direction, e.g. mounted on chains, belts
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
    • B29K2105/00—Condition, form or state of moulded material or of the material to be shaped
    • B29K2105/0002—Condition, form or state of moulded material or of the material to be shaped monomers or prepolymers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
    • B29K2105/00—Condition, form or state of moulded material or of the material to be shaped
    • B29K2105/25—Solid
    • B29K2105/253—Preform
    • B29K2105/256—Sheets, plates, blanks or films
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29L—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
    • B29L2011/00—Optical elements, e.g. lenses, prisms
    • B29L2011/0016—Lenses
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29L—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
    • B29L2031/00—Other particular articles
    • B29L2031/34—Electrical apparatus, e.g. sparking plugs or parts thereof
    • B29L2031/3475—Displays, monitors, TV-sets, computer screens
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T156/00—Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
    • Y10T156/10—Methods of surface bonding and/or assembly therefor
    • Y10T156/1002—Methods of surface bonding and/or assembly therefor with permanent bending or reshaping or surface deformation of self sustaining lamina
    • Y10T156/1028—Methods of surface bonding and/or assembly therefor with permanent bending or reshaping or surface deformation of self sustaining lamina by bending, drawing or stretch forming sheet to assume shape of configured lamina while in contact therewith
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24479—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including variation in thickness
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24479—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including variation in thickness
    • Y10T428/24612—Composite web or sheet

Definitions

  • Patent Document 8 Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2004-059822
  • the structure of the present invention has a convex portion having an average height of lOOnm to lOOOnm or a concave portion having an average depth of lOOnm to lOOOnm on at least one surface thereof.
  • the convex portion means a portion protruding from the reference surface
  • the concave portion means a portion recessed from the reference surface.
  • the structure of the present invention may have a convex portion or a concave portion on the surface thereof. Further, it may have both a convex part and a concave part, or may have a structure in which they are connected and waved.
  • the structure of the present invention has a storage elastic modulus of 0.5 GPa or more at 180 ° C or higher and at least one temperature in a range lower than the temperature at which the structure substantially starts thermal decomposition. It is essential.
  • storage modulus at 180 ° C. or higher may be simply abbreviated as “storage modulus”.
  • the storage elastic modulus is a physical property that does not depend on the shape and size of the measurement object.
  • V is a test piece cut out from a structure to about 5 mm X about 20 mm X about 100 m. Or measured with a test piece separately polymerized to this size.
  • the storage elastic modulus above 180 ° C is correlated with the mechanical strength at the general use temperature of the structure (for example, 25 ° C, which is room temperature). This is thought to be because the storage elastic modulus in such a region has a direct correlation with the crosslink density that controls the mechanical strength.
  • the structure of the tetrafunctional or higher functional urethane (meth) acrylate is not particularly limited, but the isocyanate group of the polyvalent isocyanate compound (a) has one hydroxyl group in the molecule and two or more (meta) It is preferable that the hydroxyl group of the compound (b) having an acryl group is reacted.
  • the polyvalent isocyanate compound (a) includes a compound having two or more isocyanate groups in the molecule without any particular limitation.
  • the compound having two isocyanate groups in the molecule include 1,5 naphthylene diisocyanate, 4,4'-diphenyl di-methane diisocyanate, hydrogenated di-phenol-methane diisocyanate, 1 , 3 Phylene diisocyanate, 1, 4 Phenyl diisocyanate, Tolylene diisocyanate, Butane —1, 4-Diisocyanate, Hexamethylene diisocyanate, 2, 2, 4 Trimethyl hex Samethylene diisocyanate, 2, 4, 4 Trimethylhexamethylene diisocyanate, cyclohexane 1,4-diisocyanate, xylylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, lysine diisocyanate , Dicyclohexylmethane 4,4'-
  • the powerful bifunctional urethane (meth) acrylate is not particularly limited, but the following are particularly preferable. That is, the diisocyanate compound (d) was reacted with both ends of a polymer or oligomer (c) having hydroxyl groups and amino groups at both ends, and the obtained “isocyanate at both ends was obtained. Particularly preferred are those obtained by reacting a polymer or oligomer having an nate group with a compound (e) having a hydroxyl group and a (meth) acrylic group in the molecule at both ends.
  • thermal polymerization initiator When the structure of the present invention is formed by thermal polymerization, a thermal polymerization initiator is preferably contained.
  • thermal polymerization initiator known forces conventionally used for radical polymerization can be used. Examples thereof include peroxides and diazo compounds.
  • FIG. 1 is a schematic view showing an example of a method for producing a structure according to the present invention.
  • FIG. 3 is a graph showing the temperature dependence of the storage modulus of structures (1), (3), (6) and (14) in Example 1 and Example 2.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

　光の反射防止性能、光の透過改良性能等を有する構造体に要求される表面形状と物性を見出し、特に表面耐傷性等を付与した構造体を提供し、また、かかる特定の構造と物性を有する構造体を形成させることができる組成物を提供し、更に、光の反射防止性能や透過改良性能がより優れたアスペクト比の大きい構造体を良好に形成することができる組成物を提供する。すなわち、表面に、平均高さ１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の凸部又は平均深さ１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の凹部を有し、その凸部又は凹部が、少なくともある一の方向に対し平均周期１００ｎｍ以上４００ｎｍ以下で存在する構造体であって、該構造体が、光照射、電子線照射及び／又は加熱によって、（メタ）アクリル系重合性組成物が重合したものであって、１８０°C以上における貯蔵弾性率が０．５ＧＰａ以上のものであることを特徴とする構造体である。

Description

明 細 書
特定の表面形状と物性を有する構造体及びその構造体形成用の (メタ） アクリル系重合性組成物
技術分野
[0001] 本発明は、特定の表面形状と物性を有する構造体に関するものであり、詳細には、 光の反射防止性能、光の透過改良性能、表面耐傷性能等を有する構造体に関する ものであり、更に詳細には、ディスプレイ等に良好な視認性を付与する表面層用の構 造体及びその構造体形成用の (メタ）アクリル系重合性組成物に関するものである。 背景技術
[0002] ディスプレイ等に使用する表面層は、（1)一般にドライ法と言われているもの、すな わち、誘電体多層膜を気相プロセスで作成し、光学干渉効果で低反射率を実現した もの、（2)—般にウエット法と言われているもの、すなわち、低屈折率材料を基板フィ ルム上にコーティングしたもの等が使用されてきた。また、これらとは原理的に全く異 なる技術として、（3)表面に微細構造を付与することにより、低反射率を発現させるこ とができることが知られて ヽる（特許文献 1〜特許文献 10)。
[0003] 一般にかかる表面層には、光の反射防止性能や光の透過性向上性能が必要であ るのみならず、実用化の際には摩耗や傷等に強い一定の機械的強度が必要であつ た。
[0004] し力しながら、上記（3)に記載した表面微細構造を利用した表面層につ 、ては、良 好な反射防止性能は得られるが、その一方で表面耐傷性等の機械的強度が不十分 であったため、摩耗し易ぐまた傷等がつき易ぐそのため実用化には至っていなか つた o
[0005] 例えば、特許文献 1な!、し特許文献 10には、力かる反射防止膜用の材料が列記さ れており、そこには、重合性榭脂として、（メタ)アタリレートイ匕合物が用いられることが 記載されている。し力しながら、そこに列記されている材料は、一般のポリマーフィル ム形成用として全く一般的なもので、 （3)に記載した特殊な表面微細構造を有する表 面層を、その材料面から、特に表面耐傷性等の機械的強度について実用性のあるも のにするという観点力も検討したものではなかった。
[0006] 更には、上記（3)表面に微細構造を有する反射防止膜は、反射を好適に防止する よう表面の特殊な微細構造を有するため、その材料に特殊な物性が要求されるが、 そのような要求物性にっ ヽても殆ど知られて 、なかった。
特許文献 1：特開昭 50— 070040号公報
特許文献 2：特開平 9— 193332号公報
特許文献 3 :特開 2003— 162205号公報
特許文献 4:特開 2003— 215314号公報
特許文献 5：特開 2003 - 240903号公報
特許文献 6：特開 2004 - 004515号公報
特許文献 7 :特開 2004— 059820号公報
特許文献 8 :特開 2004— 059822号公報
特許文献 9 :特開 2005— 010231号公報
特許文献 10：特開 2005— 092099号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0007] 液晶表示ディスプレイ（LCD)、プラズマディスプレイ（PDP)等のフラットパネルディ スプレイ (以下、「FPD」と略記する)等は、その視認性確保のために、反射防止膜の 装着は必須であり、力かる反射防止膜としては上記（1)又は（2)に示した無機又は有 機多層膜や、上記 (3)の表面微細構造による反射防止膜等が知られて 、た。
[0008] し力しながら、表面微細構造による反射防止膜にっ 、ては、その好まし!/、構造や反 射防止機能は知られている力 その構造を形成する材料の面については、 FPDの 最表面使用時の耐傷性等の機械的特性が不十分であり、実用化には至っていなか つた。そこで、耐傷性等の機械的特性に優れた表面微細構造反射防止膜が提供さ れれば、 FPD等の視認性の向上に寄与できる。
[0009] すなわち、本発明の課題は、光の反射防止性能、光の透過改良性能等を有する構 造体に要求される表面形状と物性を見出し、特に表面耐傷性等の機械的強度を付 与した構造体を提供することであり、また、力かる特定の表面形状と物性を有する構 造体を形成させることができる組成物を提供することにある。更に、光の反射防止性 能や透過改良性能がより優れたアスペクト比の大きい構造体を良好に形成すること ができる組成物を提供することにある。
課題を解決するための手段
[0010] 本発明者は上記課題を解決するために鋭意検討を行った結果、特定の表面形状 と物性を有する構造体を特定の組成物を重合させることによって形成すれば、上記 課題を解決できることを見出し本発明に到達した。また、特定の組み合わせ組成を有 する (メタ)アクリル系重合性組成物が、上記構造体形成用の材料として極めて好適 であることを見出し本発明に到達した。
[0011] すなわち、本発明は、表面に、平均高さ lOOnm以上 lOOOnm以下の凸部又は平 均深さ lOOnm以上 lOOOnm以下の凹部を有し、その凸部又は凹部が、少なくともあ る一の方向に対し平均周期 1 OOnm以上 400nm以下で存在する構造体であつて、 該構造体が、光照射、電子線照射及び Z又は加熱によって、（メタ)アクリル系重合 性組成物が重合したものであって、 180°C以上における貯蔵弾性率が 0. 5GPa以 上のものであることを特徴とする構造体を提供するものである。
[0012] また、本発明は、上記 (メタ)アクリル系重合性組成物力 ウレタン (メタ)アタリレート 及びエステル (メタ）アタリレートを含有するものである上記の構造体を提供するもの である。
[0013] また、本発明は、上記 (メタ)アクリル系重合性組成物力 更に、エポキシ (メタ)アタリ レートを含有するものである上記の構造体を提供するものである。また、本発明は、 更に、変性シリコーンオイルを含有する (メタ)アクリル系重合性組成物が重合したも のである上記の構造体を提供するものである。
[0014] また、本発明は、表面に、平均高さ lOOnm以上 lOOOnm以下の凹部又は平均深 さ lOOnm以上 lOOOnm以下の凸部を有し、その凹部又は凸部が、少なくともある一 の方向に対し平均周期 lOOnm以上 400nm以下で存在する型に、（メタ）アクリル系 重合性組成物を供給し、その上から基材を型の表面に対して斜めに着接させ、基材 側からローラー圧着し、（メタ)アクリル系重合性組成物を硬化後、型から剥離すること を特徴とする上記構造体の製造方法を提供するものである。 [0015] また本発明は、上記の構造体形成用の (メタ)アクリル系重合性組成物を提供する ものである。
発明の効果
[0016] 本発明によれば、光の反射防止性能、光の透過改良性能、表面耐傷性能等に優 れた構造体を提供することができる。また、力かる性能に優れた特定の構造と特定の 物性を有する構造体を形成することが可能な組成物を提供することができる。更に、 アスペクト比の大き 、構造体であっても、良好に形成することができる組成物を提供 することができる。具体的には、例えば FPD等の表面層等の反射防止膜、透過性改 良膜、表面保護膜等として優れた光学特性と機械的強度を有する構造体を提供する ことができる。
発明を実施するための最良の形態
[0017] [構造体表面の形状]
本発明の構造体は、少なくともその一の表面に、平均高さ lOOnm以上 lOOOnm以 下の凸部又は平均深さ lOOnm以上 lOOOnm以下の凹部を有していることが必須で ある。ここで凸部とは、基準となる面より出っ張った部分をいい、凹部とは、基準となる 面より凹んだ部分をいう。本発明の構造体は、その表面に凸部を有していても、凹部 を有していてもよい。また、凸部と凹部の両方を有していてもよぐ更に、それらが連 結して波打った構造を有して 、てもよ 、。
[0018] 凸部又は凹部は、構造体の両面に有していてもよいが、少なくとも一方の表面に有 していることが必須である。中でも、空気と接している最表面に有していることが好ま しい。空気は本発明の構造体とは屈折率が大きく異なり、互いに屈折率の異なる物 質の界面が、本発明の特定の構造になっていることによって、反射防止性能や透過 改良性能が良好に発揮されるからである。また、機械的外力を受け易い最表面に本 発明の構造が存することによって、後述する本発明の構造体必須の物性 (特定の貯 蔵弾性率)の効果が発揮されて、その表面の耐傷性等が改良されるからである。
[0019] 凸部又は凹部は、構造体の表面全体に均一に存在していることが、上記効果を奏 するために好ましい。凸部の場合には、基準となる面力ものその平均高さ力 ΙΟΟη m以上 lOOOnm以下であることが必須であり、凹部の場合にも、基準となる面からの その平均深さが、 lOOnm以上 lOOOnm以下であることが必須である。高さ又は深さ は一定でなくてもよぐその平均値が上記範囲に入っていればよいが、実質的に一 定の高さ又は一定の深さを有して 、ることが好まし 、。
[0020] 凸部の場合でも、凹部の場合でも、その平均高さ又は平均深さは、 150nm以上で あることが好ましぐ 200nm以上であることが特に好ましい。また、 600nm以下である ことが好ましぐ 500nm以下であることが特に好ましい。平均高さ又は平均深さが、小 さすぎると、良好な光学特性が発現されない場合があり、大きすぎると、製造が困難 になる等の場合がある。凸部と凹部が連結して波打った構造を有して 、る場合では、 最高部（凸部の上）と最深部（凹部の下）の平均長さは、 lOOnm以上 lOOOnm以下 であることが同様の理由力 好ましい。
[0021] 本発明の構造体は、その表面に、上記凸部又は凹部が、少なくともある一の方向の 平均周期が、 lOOnm以上 400nm以下となるように配置されて 、ることが必須である 。凸部又は凹部は、ランダムに配置されていてもよいし、規則性を持って配置されて いてもよい。また、何れの場合でも、上記凸部又は凹部は、構造体の表面全体に実 質的に均一に配置されて 、ることが反射防止性や透過改良性の点で好ま 、。また 、少なくとも、ある一の方向について、平均周期が、 lOOnm以上 400nm以下となるよ うに配置されていればよぐ全ての方向に、その平均周期が lOOnm以上 400nm以 下となって!/、る必要はな!/、。
[0022] 凸部又は凹部が、規則性を持って配置されている場合、上記のように、少なくともあ る一の方向の平均周期が、 lOOnm以上 400nm以下となるように配置されていれば よいが、最も周期が短い方向（以下「x軸方向」という）への周期が、 lOOnm以上 400 nm以下となるように配置されていることが好ましい。すなわち、ある一の方向として、 最も周期が短い方向をとつたときに、周期が上記範囲内になっていることが好ましい 。更にその際、 X軸方向に垂直な y軸方向についても、その周期が lOOnm以上 400 nm以下となるように配置されて 、ることが特に好ま 、。
[0023] 上記平均周期（凸部又は凹部の配置場所に規則性がある場合は「周期」）は、 120 nm以上が好ましぐ 150nm以上が特に好ましい。また、 250nm以下が好ましぐ 20 Onm以下が特に好ましい。平均周期が短すぎても長すぎても、反射防止効果が充分 に得られない場合がある。
[0024] 本発明の構造体は、表面に上記構造を有することが必須であるが、更に、一般に「 モスアイ構造 (蛾の眼構造)」と呼ばれる構造を有して 、ることが、良好な反射防止性 能を有している点で好ましい。また、特許文献 1ないし特許文献 10の何れかの文献 に記載の表面構造を有していることが、同じく良好な反射防止性能の点で好ましい。
[0025] 高さ又は深さを平均周期で割った値であるアスペクト比は特に限定はないが、 1以 上が光学特性の点で好ましぐ 1. 5以上が特に好ましぐ 2以上が更に好ましい。また 、 5以下が構造体製造プロセス上好ましぐ 3以下が特に好ましい。本発明における（ メタ)アクリル系重合性組成物を重合させることによって、初めてアスペクト比 1. 5以 上の構造体が形成できるようになった。従って、本発明における (メタ)アクリル系重合 性組成物の特徴を発揮させるためにも、アスペクト比は大きいほど好ましぐ 1. 5以上 が特に好ましぐ 2以上が更に好ましい。
[0026] 本発明の構造体は、表面に上記構造を付与することにより光の反射率を低減させ たり、光の透過性を向上させたりする。この場合の「光」は、少なくとも可視光領域の 波長の光を含む光である。
[0027] [構造体の貯蔵弾性率]
更に本発明の構造体は、 180°C以上における貯蔵弾性率が 0. 5GPa以上であるこ とが必須である。一般に、（メタ)アクリル系重合性組成物が重合した物質を、室温か ら昇温していくと貯蔵弾性率は下がり、ある温度 (約 150°C〜約 180°C)以上でほぼ 一定になりゴム弾性を示すようになる。 180°C以上における貯蔵弾性率は、かかるゴ ム領域での貯蔵弾性率である。なお当然に、高温にして (例えば 200°C以上）、構造 体が熱分解した場合にはその温度での測定値は「貯蔵弾性率」として採用されない。 また、貯蔵弾性率は 180°C以上ではほぼ一定値となる場合が多いが、「180°C以上 における」とは「180°C以上の少なくとも一の温度における」を意味する。
[0028] すなわち、本発明の構造体は、 180°C以上で、構造体が実質的に熱分解を開始す る温度未満の範囲の中の少なくとも一の温度における貯蔵弾性率が 0. 5GPa以上 であることが必須である。以下、「180°C以上における貯蔵弾性率」を、単に「貯蔵弹 性率」と略記する場合がある。 [0029] 貯蔵弾性率は、測定物の形状や大きさには依存しない物性であるが、本発明にお V、ては、構造体から約 5mm X約 20mm X約 100 mに切り出したテストピースで測 定されるか、又は、別途この大きさになるように重合させたテストピースで測定される。 測定装置は、セイコーインスツルメント社製の動的粘弾性試験機 DMS6100を用い て、上記形状のテストピースを、 20mmの方向で挟み、—20°C〜200°Cの範囲で走 查し、 180°Cから分解温度手前まで (例えば 200°Cまで)の間の温度範囲の貯蔵弹 性率を測定する。
[0030] 一般に、この領域での貯蔵弾性率につ!ヽては、測定周波数依存性は小さ!ヽが、も し周波数依存性がある場合には、 10Hzで測定された貯蔵弾性率で特定される。
[0031] 本発明の構造体は、貯蔵弾性率が 0. 5GPa以上であることが必須である力 好まし くは 0. 6GPa以上、特に好ましくは 0. 7GPa以上である。貯蔵弾性率が低すぎる場 合は、使用温度 (例えば室温)での機械的強度が劣り、構造体の表面が摩耗し易くな つたり、表面に傷が付き易くなつたりする場合がある。
[0032] 180°C以上における貯蔵弾性率が、構造体の一般的使用温度 (例えば、室温であ る 25°C)での機械的強度と相関がある作用 ·原理については明らかではないが、か カゝる領域での貯蔵弾性率が、機械的強度を支配する架橋密度と直接相関があるから であると考えられる。
[0033] [構造体の構成、形成方法]
更に、本発明の構造体は、光照射、電子線照射及び Z又は加熱によって、（メタ） アクリル系重合性組成物が重合したものであることが必須である。すなわち、本発明 の構造体は、（メタ）アクリル系重合性組成物の (メタ)アクリル基の炭素 炭素間二重 結合が、光照射、電子線照射及び Z又は加熱によって反応してなるものであることが 必須である。本発明において、「(メタ)アクリル」とは、「アクリル」又は「メタクリル」を意 味し、以下同様である。また、「光照射、電子線照射及び Z又は加熱によって」とは、 光照射、電子線照射及び加熱力 なる群のうち、何れか 1つの処理によってでもよく 、そこ力も選ばれた 2つの処理の併用によってでもよぐ 3つの処理全ての併用によつ てでもよい。
[0034] 本発明の構造体は、（メタ)アクリル基の炭素 炭素二重結合が反応してなるもので あることが必須であり、その反応率は特に限定はないが、 85%以上であることが好ま しぐ 90%以上であることが特に好ましい。ここで「反応率」とは、露光前後の (メタ)ァ クリル系重合性組成物を赤外線分光法 (IR)、具体的にはフーリエ変換赤外分光光 度計 Spectrum One D (perkin Elmer社製）全反射法 (ATR法）で測定されるエステル 結合の炭素 酸素結合に帰属される 1720cm 1の吸光度と、炭素 炭素結合に帰 属される 811cm 1の吸光度の比率から求めたものである。反応率が低すぎると、機械 的強度の低下ゃ耐薬品性の低下をまねく場合がある。
[0035] 貯蔵弾性率を 0. 5GPa以上にするために、更に要すれば充分な反応率や硬化性 を得るためには、後述する本発明の構造体形成のための材料である (メタ)アクリル系 重合性組成物の組成 (例えば、（メタ)アタリレートイ匕合物の種類、配合量；重合開始 剤の種類、量等)、重合に用いる光や電子線の照射条件 (強度、露光時間、波長、酸 素の除去等)、重合に際しての加熱条件 (温度、加熱時間、酸素の除去等)、構造体 の形状 (厚さ等)等を調整する。
[0036] 本発明の構造体は、低反射率や高透過性が発現される特殊な表面構造を有する ため、その物性にも特殊な物性が要求される。本発明は、上記特殊な表面微細構造 に機械的損傷ができにくぐ表面耐傷性等の機械的強度に優れた構造体物性を見 出したことを特徴として 、る。
[0037] [構造体形成用材料]
上記したような特定の表面構造を有する本発明の構造体は、下記の材料から形成 したときに上記したような特定の物性を好適に付与できる。以下に、本発明の構造体 用の材料について詳述する。
[0038] 本発明の構造体は、（メタ)アクリル系重合性組成物が重合してなる重合体を含有し ていることが必須である。（メタ)アクリル系重合性組成物としては、上記構造が形成で きて、上記物性が得られるものであれば特に限定はないが、ウレタン (メタ)アタリレー ト及びエステル (メタ)アタリレートを含有することが好ま U、。「ウレタン (メタ)アタリレー ト」とは、分子中にウレタン結合を有する (メタ）アタリレートイ匕合物をいう。また、「エス テル (メタ）アタリレート」とは、分子中に、酸基 (酸無水物や酸クロライドを含む）と水酸 基との反応で得られたエステル結合を有し、ウレタン結合もシロキサン結合も有さな いものをいう。
[0039] 更に、本発明における (メタ)アクリル系重合性組成物は、エポキシ (メタ)アタリレー トを含有することが好ましい。「エポキシ (メタ)アタリレート」とは、エポキシ基に (メタ）ァ クリル酸が反応して得られる構造を有する (メタ)アタリレート化合物を ヽぅ。
[0040] 更に、本発明の構造体は、変性シリコーンオイルを含有する組成物が重合したもの であることが好ましい。「変性シリコーンオイル」とは、分子中にシロキサン結合を有し 、ケィ素原子 (Si)にメチル基以外の有機基も結合している化合物をいう。「変性シリコ ーンオイル」には、シリコン (メタ)アタリレートが含まれる。従って、本発明における (メ タ）アクリル系重合性組成物は、シリコン (メタ)アタリレートを含有することが好ましい。 「シリコン (メタ)アタリレート」とは、分子中にシロキサン結合を有する (メタ）アタリレート 化合物をいう。
[0041] [1] ウレタン (メタ）アタリレートについて
本発明に用いられるウレタン (メタ)アタリレートは特に限定はなぐ例えば、ウレタン 結合の位置や個数、（メタ)アクリル基の位置や個数は特に限定はな 、。
[0042] 本発明の構造体形成に用いられるウレタン (メタ)アタリレートの好ま U、化学構造と しては、（A)分子中に (好ましくは複数個の)イソシァネート基を有する化合物に対し て、分子中に水酸基と (好ましくは複数個の）（メタ)アクリル基を有する化合物を反応 させて得られるような構造をもつもの、（B)複数個の水酸基を有する化合物にジイソ シァネート化合物やトリイソシァネート化合物を反応させ、得られた化合物の未反応 イソシァネート基に、ヒドロキシェチル (メタ)アタリレート等のように分子中に水酸基と ( メタ)アクリル基を有する化合物を反応させて得られるような構造をもつものが挙げら れる。
[0043] 上記 (メタ）アタリレートイ匕合物力 ウレタン (メタ)アタリレートを含有することによって 、得られた構造体の硬化性、反応率が上がり、貯蔵弾性率が大きくなると共に柔軟性 が優れたものになる。本発明で「硬化性」とは、（メタ)アクリル系重合性組成物の硬く なり易さをいい、二重結合の残存率から求めた「反応率」が大きく影響するが、更に、 「反応率」には現れない微小な反応の進行も影響しているので、それらも含めた概念 である。 [0044] [1 - 1] 4官能以上のウレタン (メタ）アタリレートについて
ウレタン (メタ）アタリレートとしては、 4官能以上のウレタン (メタ）アタリレートを含有す るものであることが好ましい。すなわち、分子中に (メタ)アクリル基を 4個以上有する 化合物を含有することが好ましい。この場合のウレタン結合の位置や個数、（メタ）ァク リル基が分子末端にある力否か等は特に限定はな 、。分子中に (メタ)アクリル基を 6 個以上有する化合物が特に好ましぐ 10個以上有する化合物が更に好ましい。また 、分子中の (メタ)アクリル基の個数の上限は特に限定はないが、 15個以下が特に好 ましい。ウレタン (メタ）アタリレート分子中の (メタ）アクリル基の数が少なすぎると、得ら れた構造体の硬化性、反応率が低下し、貯蔵弾性率が小さくなる場合がある。一方、 ウレタン (メタ）アタリレート分子中の (メタ)アクリル基の数が多すぎると、重合による (メ タ)アクリル基の炭素間二重結合消費率、すなわち反応率が十分に上がらない場合 がある。
[0045] 4官能以上のウレタン (メタ)アタリレートの構造は特に限定はな 、が、多価イソシァ ネート化合物（a)のイソシァネート基に、分子中に 1個の水酸基と 2個以上の (メタ)ァ クリル基を有する化合物 (b)の水酸基が反応してなるものであることが好ま 、。
[0046] この場合の多価イソシァネートイ匕合物（a)としては特に限定はなぐ分子中に 2個以 上のイソシァネート基を有する化合物が挙げられる。分子中に 2個のイソシァネート基 を有する化合物としては、例えば、 1, 5 ナフチレンジイソシァネート、 4, 4'ージフエ 二ノレメタンジイソシァネート、水添ジフエ-ノレメタンジイソシァネート、 1, 3 フエ-レン ジイソシァネート、 1, 4 フエ二レンジイソシァネート、トリレンジイソシァネート、ブタン —1, 4ージイソシァネート、へキサメチレンジイソシァネート、 2, 2, 4 トリメチルへキ サメチレンジイソシァネート、 2, 4, 4 トリメチルへキサメチレンジイソシァネート、シク 口へキサン 1, 4ージイソシァネート、キシリレンジイソシァネート、イソホロンジイソシ ァネート、リジンジイソシァネート、ジシクロへキシルメタン 4, 4'ージイソシァネート、 1, 3 ビス（イソシァネートメチル）シクロへキサン、メチルシクロへキサンジイソシァネ ート、 m—テトラメチルキシリレンジイソシァネート等が挙げられる。また、分子中に 3個 のイソシァネート基を有する化合物としては、例えば、イソホロンジイソシァネート、トリ レンジイソシァネート、へキサメチレンジイソシァネート、キシリレンジイソシァネート等 を変性してなるトリメチロールプロパン付加ァダクト体、ビューレット体、イソシァヌレー ト体等が挙げられる。このうち、本発明には、イソホロンジイソシァネート、トリレンジィ ソシァネート、へキサメチレンジイソシァネート等が特に好まし!/、。
[0047] 分子中に 1個の水酸基と 2個以上の (メタ)アクリル基を有する化合物 (b)としては、 特に限定はな 、が、分子中に 3個以上 (p個とする）の水酸基を有する化合物 (b— 1) の水酸基に、（メタ）アクリル酸が (p— 1)個反応した化合物；グリシジル (メタ)アタリレ ートと (メタ)アクリル酸が開環反応したィ匕合物等が挙げられる。
[0048] ここで、「分子中に 1個の水酸基と 2個以上の (メタ)アクリル基を有する化合物 (b)」 には、該化合物が 2種以上の化合物を部分的に反応させて製造される場合に、分子 中に 2個以上の水酸基を有する化合物が混入する場合や、（メタ)アクリル基 1個を有 する化合物が混入する場合をも含むものとする。
[0049] 化合物 (b)のうち、「分子中に p個（pは 3以上の整数)の水酸基を有する化合物 (b — 1)に、（メタ)アクリル酸が (p— 1)個反応したィ匕合物」における、「分子中に 3個以 上の水酸基を有する化合物 (b— 1)」としては特に限定はないが、例えば、グリセリン 、トリメチローノレエタン、トリメチローノレプロパン、ペンタエリスリトーノレ、テトラメチローノレ ェタン、ジグリセリン、ジトリメチロールェタン、ジトリメチロールプロパン、ジペンタエリ スリトール、ジテトラメチロールェタン；これらのエチレンオキサイド変性化合物；これら のプロピレンオキサイド変性化合物；イソシァヌル酸のエチレンオキサイド変性化合物 、プロピレンオキサイド変性ィ匕合物、 ε一力プロラタトン変性ィ匕合物;オリゴエステル 等が挙げられる。
[0050] 化合物 (b— 1)における水酸基の数は、得られるウレタン (メタ）アタリレート中の官 能基の数を多くできる点で、 4個以上が特に好ましぐ 6個以上が更に好ましい。具体 的には例えば、ジグリセリン、ジトリメチロールェタン、ジトリメチロールプロパン、ジぺ ンタエリスリトール、ジテトラメチロールェタン等が特に好ましい。
[0051] ジグリセリンを例にとると、ジグリセリンの 4個の水酸基のうちの 3個の水酸基に (メタ） アクリル酸が反応することによって、分子中に 1個の水酸基と 2個以上の（この場合は 3個の）（メタ)アクリル基を有する化合物 (b)が合成される。更に、多価イソシァネート 化合物（a)力 イソホロンジイソシァネートである場合を例にとると、イソホロンジイソシ ァネートの 2個のイソシァネート基に、上記水酸基を 1個と 2個以上の (メタ）アクリル基 を有する化合物 (b)が 2個反応し、「4官能以上のウレタン (メタ)アタリレート」が合成さ れる。このとき、分子中に 1個の水酸基と 3個の (メタ)アクリル基を有する化合物 (b)が イソホロンジイソシァネートに反応すれば、結果として、分子中に (メタ)アクリル基を 6 個有する「4官能以上のウレタン (メタ）アタリレート」が合成される。
[0052] [1 - 2] 3官能以下のウレタン (メタ）アタリレートについて
ウレタン (メタ）アタリレートには、上記 4官能以上のウレタン (メタ)アタリレートに加え て、 3官能以下のウレタン (メタ)アタリレートが含有されていてもよい。かかる 3官能以 下のウレタン (メタ)アタリレートの化学構造には特に限定はなぐ公知のものが使用で きる。
[0053] 3官能以下のウレタン (メタ）アタリレートの重量平均分子量は、 1000以上 30000以 下であることが好ましぐ 2000以上 10000以下であることが特に好ましい。分子量が 小さすぎると、柔軟性が低下する場合があり、分子量が大きすぎると、貯蔵弾性率の 低下をまねく場合がある。
[0054] [1 - 2- 1] 2官能ウレタン (メタ）アタリレートについて
「3官能以下のウレタン (メタ)アタリレート」は、分子の両末端にそれぞれ 1個ずつの (メタ)アクリル基を有する 2官能ウレタン (メタ)アタリレートを含有することが好ま 、。 更に、「3官能以下のウレタン (メタ）アタリレート」の全て力 「分子の両末端にそれぞ れ 1個ずつの (メタ)アクリル基を有する 2官能ウレタン (メタ)アタリレート」であることが 特に好ましい。上記 2官能ウレタン (メタ)アタリレートを含有させることによって、硬化 性、反応率を向上させつつ、構造体の柔軟性を向上させることができる。
[0055] 力かる 2官能ウレタン (メタ)アタリレートの化学構造には特に限定はなぐその重量 平均分子量は、 1000以上 30000以下であること力好ましく、 2000以上 5000以下 であることが特に好ましい。分子量が小さすぎると、柔軟性が低下する場合があり、分 子量が大きすぎると、貯蔵弾性率の低下をまねく場合がある。
[0056] 力かる 2官能ウレタン (メタ）アタリレートとしては特に限定はないが、以下のものが特 に好ましい。すなわち、両末端が水酸基、アミノ基等のポリマー若しくはオリゴマー（c )の両末端に、ジイソシァネートイ匕合物（d)を反応させ、得られた「両末端にイソシァ ネート基を有するポリマー若しくはオリゴマー」に、更に、分子中に水酸基と (メタ)ァク リル基を有する化合物 (e)を、その両末端に反応させたものが特に好ましい。
[0057] 両末端が水酸基のポリマー若しくはオリゴマー（c)としては特に限定はないが、例え ば、エステルオリゴマー、エステルポリマー、ウレタンオリゴマー、ウレタンポリマー、ポ リエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等が挙げられる。このうち、特に好まし くは、エステルオリゴマーやエステルポリマーが挙げられる。かかるオリゴマーやポリ マーの分子量は特に限定はないが、重量平均分子量として、 1000〜5000の範囲 が硬化性の点で好ましぐ 2000〜3000力特に好ま U、。
[0058] 上記エステルのジオール成分としては特に限定はないが、エチレングリコール、プ ロピレングリコール、 1, 4 ブタンジオール、 1, 6 へキサンジオール、ジエチレング リコール、トリエチレングリコール、テトラエチレンダリコール、 2, 2，ーチオジェタノ一 ル等が挙げられる。特に好ましくは、 1, 4 ブタンジオール、 1, 6 へキサンジォー ル等である。
[0059] 上記エステルのジカルボン酸成分としては特に限定はな 、が、蓚酸、コハク酸、マ レイン酸、アジピン酸等のアルキレンジカルボン酸；テレフタル酸、フタル酸等の芳香 族ジカルボン酸等が挙げられる。特に好ましくは、アジピン酸、テレフタル酸等である
[0060] 力かるポリマー又はオリゴマーの両末端に反応させるジイソシァネートイ匕合物（d)と しては、特に限定はなぐ上記の多価イソシァネートイ匕合物（a)の項目で記載したうち のジイソシァネートイ匕合物と同様のものが使用できる。特に好ましくは、イソホロンジィ ソシァネート等が挙げられる。
[0061] 更に、上記で得られた両末端にイソシァネート基を有するポリマー若しくはオリゴマ 一の両末端に反応させる、「分子中に水酸基と (メタ)アクリル基を有する化合物 (e)」 としては特に限定はないが、例えば、 2—ヒドロキシェチル (メタ)アタリレート、 2—ヒド ロキシプロピル（メタ）アタリレート、エチレングリコールモノ（メタ）アタリレート、プロピレ ングリコールモノ (メタ）アタリレート等が挙げられる。
[0062] [1]ウレタン (メタ）アタリレート中の [1— 1]4官能以上のウレタン (メタ）アタリレートと
[1 - 2 - 2] 2官能ウレタン (メタ)アタリレートの重量含有比率は、特に限定はな 、が、 4官能以上のウレタン (メタ)アタリレート 100重量部に対して、 2官能ウレタン (メタ)ァ タリレートが、 0〜300重量部が好ましぐ 1〜200重量部が特に好ましぐ 2〜： LOO重 量部が更に好ましい。 2官能ウレタン (メタ)アタリレートが多すぎると、貯蔵弾性率が 低下して、 0. 5GPa以上の貯蔵弾性率を有する構造体が得られない場合があり、上 記特殊な表面形状を有する本発明の構造体に、表面耐傷性等の機械的強度を充分 に付与できない場合がある。
[0063] 2. エステル (メタ）アタリレートについて
本発明の構造体を形成させるための (メタ）アクリル系重合体は、ウレタン (メタ)ァク リレートに加え、エステル (メタ)アタリレートを含有することが好ましい。このエステル（ メタ)アタリレートを含有させることによって、構造体が軟らかくなり、本発明における特 殊な構造を有する表面の機械的強度が良好になる。また、硬化性等を向上させるた めに使用した 4官能以上のウレタン (メタ)アタリレートにより構造体の柔軟性が悪ィ匕す るのを防ぐことが可能となる。このエステル (メタ)アタリレートを含有せず、 2官能ウレタ ン (メタ)アタリレートの含有のみでは、構造体が軟らかくなりすぎ、機械的強度が劣る 場合がある。
[0064] エステル (メタ)アタリレートとしては特に限定はなぐ 2官能以上の (メタ)アタリレート 化合物が好ま 、ものとして挙げられる。
[0065] 2官能 (メタ）アタリレートとしては、例えば、 1, 4—ブタンジオールジ (メタ）アタリレー ト、 1, 6—へキサンジオールジ (メタ）アタリレート、 1, 9—ノナンジオールジ (メタ）ァク リレート等の直鎖アルカンジオールジ (メタ）アタリレート；
[0066] ジエチレングリコールジ (メタ）アタリレート、トリエチレングリコールジ (メタ）アタリレー ト、テトラエチレングリコールジ (メタ）アタリレート、ポリエチレングリコール # 200ジ (メ タ）アタリレート、ポリエチレングリコール # 300ジ (メタ）アタリレート、ポリエチレンダリ コール # 400ジ (メタ）アタリレート、ポリエチレングリコール # 600ジ (メタ）アタリレート 、ジプロピレングリコールジ (メタ）アタリレート、トリプロピレングリコールジ (メタ）アタリレ ート、テトラプロピレングリコールジ (メタ）アタリレート、ポリプロピレングリコール # 400 ジ (メタ）アタリレート、ポリプロピレングリコール # 700ジ (メタ）アタリレート等のアルキ レングリコールジ（メタ）アタリレート； [0067] ペンタエリスリトールジ (メタ）アタリレート、ペンタエリスリトールジ (メタ）アタリレートモ ノステアレート、ペンタエリスリトールジ (メタ）アタリレートモノべンゾエート等の 3価以 上のアルコールの部分 (メタ）アクリル酸エステル；
[0068] ビスフエノール Aジ (メタ）アタリレート、 EO変性ビスフエノール Aジ（メタ）アタリレート 、 PO変性ビスフエノール Aジ（メタ）アタリレート、水素化ビスフエノール Aジ（メタ）ァク リレート、 EO変性水素化ビスフエノール Aジ (メタ）アタリレート、 PO変性水素化ビスフ ェノール Aジ (メタ）アタリレート、ビスフエノール Fジ (メタ）アタリレート、 EO変性ビスフ ェノール Fジ (メタ）アタリレート、 PO変性ビスフエノール Fジ (メタ）アタリレート、 EO変 性テトラブロモビスフエノール Aジ (メタ）アタリレート等のビスフエノール系ジ (メタ）ァク リレート；
[0069] ネオペンチルグリコールジ (メタ）アタリレート、ネオペンチルグリコール PO変性ジ (メ タ）アタリレート；ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステルジ（メタ）アタリレ ート、ヒドロキシビバリン酸ネオペンチルグリコールエステルの力プロラタトン付力卩物ジ (メタ）アタリレート； 1 , 6 へキサンジオールビス (2-ヒドロキシ 3 アタリロイルォ キシプロピル）エーテル；トリシクロデカンジメチロールジ (メタ）アタリレート、イソシァヌ ル酸 EO変性ジ (メタ）アタリレート等のジ (メタ）アタリレート等が挙げられる。
[0070] 3官能 (メタ）アタリレートとしては、例えば、グリセリン PO変性トリ (メタ)アタリレート、 トリメチロールプロパントリ（メタ）アタリレート、トリメチロールプロパン EO変性トリ（メタ） アタリレート、トリメチロールプロパン PO変性トリ（メタ）アタリレート、イソシァヌル酸 EO 変性トリ (メタ)アタリレート、イソシァヌル酸 EO変性 ε—力プロラタトン変性トリ（メタ)ァ タリレート、 1, 3, 5 トリアタリロイルへキサヒドロ一 s トリァジン、ペンタエリスリトール トリ（メタ）アタリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アタリレートトリプロピオネート等 が挙げられる。
[0071] 4官能以上の (メタ)アタリレートとしては、例えば、ペンタエリスリトールテトラ (メタ)ァ タリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アタリレートモノプロピオネート、ジペン タエリスリトールへキサ (メタ）アタリレート、テトラメチロールエタンテトラ (メタ）アタリレ ート、オリゴエステルテトラ (メタ)アタリレート等が挙げられる。
[0072] これらは、 1種又は 2種以上混合して用いられる力 2官能エステル (メタ)アタリレー トを少なくとも含有することが硬化性、反応率を上げるために好ましい。更に、 2官能 エステル (メタ）アタリレートと 3官能以上のエステル (メタ)アタリレートとを併用すること 1S 硬化性と貯蔵弾性率とのバランスをとるために特に好まし 、。
[0073] [2- 1] 2官能エステル (メタ）アタリレートについて
上記エステル (メタ)アタリレートは、 2官能エステル (メタ)アタリレートを含有すること 1S 硬化性を上げるため、機械的強度向上等の点で好ましいが、 2官能 (メタ）アタリ レートの中でも、アルキレングリコール鎖を有し、分子の両末端にそれぞれ 1個ずつ の (メタ)アクリル基を有する 2官能エステル (メタ)アタリレートを含有することが、更に 硬化性を上げるために好ま U、。力かるものとして具体的には上記したようなアルキレ ングリコールジ (メタ）アタリレートが挙げられる。特に好ましくは、トリエチレングリコー ルジ (メタ）アタリレート、テトラエチレングリコールジ (メタ）アタリレート、トリプロピレング リコールジ (メタ）アタリレート、テトラプロピレングリコールジ (メタ）アタリレート等のアル キレングリコールオリゴマーのジ (メタ）アタリレートイ匕合物；ポリエチレングリコール # 2 00ジ (メタ）アタリレート、ポリエチレングリコール # 400ジ（メタ）アタリレート、ポリェチ レングリコール # 600ジ (メタ）アタリレート等のアルキレングリコールポリマーのジ (メタ
)アタリレートイ匕合物等が挙げられる。
[0074] [2- 2] 3官能以上のエステル (メタ）アタリレートについて
上記エステル (メタ)アタリレートが、更に、 3官能以上のエステル (メタ)アタリレートを 含有するものであることが、貯蔵弾性率を上げるために特に好ましい。具体的には例 えば、上記した 3官能 (メタ)アタリレート又は 4官能以上の (メタ)アタリレートが挙げら れる。官能基の数は、 4以上が特に好ましぐ 5以上が更に好ましい。官能基は多い 方力 硬化性が良好となる。特に好ましくは、ジペンタエリスリトールへキサアタリレー ト等が挙げられる。
[0075] エステル (メタ）アタリレート中の 2官能エステル (メタ）アタリレートと 3官能以上のエス テル (メタ）アタリレートの質量含有比率は特に限定はな!、が、 2官能エステル (メタ）ァ タリレート 100重量部に対して、 3官能以上のエステル (メタ）アタリレートが、 0-100 重量部が好ましぐ 0〜80重量部が特に好ましぐ 1〜50重量部が更に好ましい。 3 官能以上のエステル (メタ)アタリレートが多すぎると、硬化膜等の形成された構造体 が脆くなる場合がある。
[0076] [3] エポキシ (メタ）アタリレートについて
本発明の構造体を形成させるための (メタ）アクリル系重合体は、ウレタン (メタ)ァク リレート及びエステル (メタ)アタリレートにカ卩え、エポキシ (メタ)アタリレートを含有する ことが好ましい。このエポキシ (メタ）アタリレートを含有させることによって、構造体が 更に強靭になり、本発明における特殊な構造を有する表面の耐傷性等の機械的強 度が更に良好になる。
[0077] 上記「エポキシ (メタ)アタリレート」としては特に限定はないが、具体的には例えば、 エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテ ル、トリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジル エーテル、ジプロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジ グリシジルエーテル等のアルキレングリコールのジグリシジルエーテル類；グリセリン ジグリシジノレエーテノレ等のグリセリングリシジノレエーテノレ類；ビスフエノール Aジグリシ ジルエーテル、水添ビスフエノール Aジグリシジルエーテル、ビスフエノール Aの PO 変性ジグリシジルエーテル、ビスフエノール Fジグリジルエーテル等のビスフエノール 系化合物のジグリシジルエーテル類等に、（メタ)アクリル酸を付加させた構造を有す るもの等が挙げられる。また、縮重合されたエポキシ榭脂に (メタ)アクリル酸を付加さ せた構造を有するものが挙げられる。更に、フエノールノボラック、クレゾールノボラッ ク等の縮重合物に、例えばェピクロロヒドリン等を反応させて得られた構造を有するェ ポキシ榭脂に対して、（メタ)アクリル酸を付加させた構造を有するもの等が挙げられ る。
[0078] [4] 変性シリコーンオイルについて
本発明の構造体を形成させるための (メタ）アクリル系重合体は、ウレタン (メタ)ァク リレート及びエステル (メタ)アタリレートにカ卩え、更に、変性シリコーンオイルを含有す ることが好ましい。（メタ)アタリレートイ匕合物力 変性シリコーンオイルを含有すること によって、得られた構造体の貯蔵弾性率が大きくなると共に、上記特殊な表面形状 に対し、耐傷性等の機械的強度が優れたものになる。なお、本発明の構造体形成に おいては、硬化させた構造体を型から剥離する工程を有するので、そのとき賦型性 が重要になる。し力しながら、本発明においては、該変性シリコーンオイルの使用は、 この賦型性の改良よりはむしろ表面耐傷性の改良に効果的である。
[0079] 本発明に用いられる変性シリコーンオイルの化学構造については、その分子中に シロキサン結合を有し、ケィ素原子 (Si)にメチル基以外の有機基も結合している化 合物であれば特に限定はないが、下記の式 (S1)〜（S4)を有するもの力 構造体表 面に耐傷性を付与する点で好ましい。式 (S1)は側鎖型、式 (S2)は両末端型、式 3)は片末端型、式 (S4)は側鎖両末端型変性シリコーンオイルである。
[0080] [化 1]
H*¾ し
H3C— Si— O-hSi— 0 ■Si— O -Si— CH3 (SI)
m n
CH 3 CH 3 R CH 3
Figure imgf000020_0001
CH 3 CH 3 CH3
I
H3C— Si— O— Si— O Si— R (S3)
I 丁 I J m
CH3 CH^ CH 3
(S4)
Figure imgf000020_0002
[式（S1)〜（S4)中、—Rは、互いに異なっていてもよい、—Y—OAc若しくは Y—
CFを表し（式中、 Yは炭素数 1 50のアルキレン基又はポリエーテル基を示し、 Ac
3
は（メタ）アタリロイル基を示す）、 mは 1 250の整数を表し、 nは 2 25の整数を表 す。 ]
[0081] 上記式中、 Yは炭素数 1 50のアルキレン基若しくはポリエーテル基を示す力 ァ ルキレン基の炭素数は 1 20が特に好ましぐ 1 3が更に好ましい。ポリエーテル基 としては、ポリエチレングリコール鎖又はポリプロピレングリコール鎖が好ましぐ - (C H O) 一（aは 1〜20の整数）、 - (C H O) 一（bは 1〜25の整数）又は一（C H O)
4 a 3 6 b 2 4
- (C H O) 一（aは 1〜20の整数、 bは 1〜25の整数）で表されるものが特に好まし a 3 6 b
い。
[0082] 式（SI)ないし式（S4)の何れの型でも、 mは 1〜250の整数を表すが、 m= 5〜18 0力 S好ましく、 m= 10〜130が特に好ましい。また、式（S1)ないし式（S4)の何れの 型でも、 nは 2〜25の整数を表す力 11= 2〜20カ 子ましく、 m= 2〜15が特に好まし V、。（特に)好まし 、mと nの値は以下を考慮して決められる。
[0083] 変性シリコーンオイルにおける、末端又は側鎖に存在する R部分と主鎖であるジメ チルシロキサン構造部分の質量比率は、側鎖型と側鎖末端型ではほぼ nZ (m+n) の値によって決まり、末端型では mの値によって決まる力 力かるジメチルシロキサン 構造部分の質量比率が大きくなると、耐汚染性は良くなる傾向があるが、ウレタン (メ タ）アタリレートやエステル (メタ)アタリレートとの相溶性が悪くなる場合がある。一方、 ジメチルシロキサン構造部分の質量比率が小さくなりすぎると、得られた構造体の耐 傷性が悪くなつたり、硬化工程において揮発しやすいため硬化塗膜中の含有量が低 下して、含有の効果を十分に奏することができなくなったりする場合がある。
[0084] 中でも、式（S1)又は式（S4)で示されるものであって、 Rがー Y— CFで Yが炭素
3 数 1〜3のアルキル基であるもの、又は、式（S1)〜式（S4)で示されるものであって、 mの値が、 10≤m≤200であるものは、上記耐傷性等の機械的強度に優れるのみな らず、耐汚染性も優れている。汚染性の点力も特に好ましくは、 15≤m≤150、 20≤ m≤ 100である。
[0085] 変性シリコーンオイルの数平均分子量としては、 400〜20000力 子ましく、 1000〜 15000が特に好ましい。数平均分子量が大きすぎるときには、他成分との相溶性が 悪化する場合があり、一方、数平均分子量が小さすぎるときには、表面耐傷性が劣る 場合がある。
[0086] [5] (メタ）アクリル系重合性組成物の組成
(メタ）アタリレート系重合性組成物中の、ウレタン (メタ)アタリレート、エステル (メタ） アタリレート、エポキシ (メタ）アタリレート及び変性シリコーンオイルの含有比率は特に 限定はないが、好ましい範囲を以下に示す。 [0087] ウレタン (メタ）アタリレート 100重量部に対して、エステル (メタ）アタリレート 10重量 部以上が好ましぐ 20重量部以上が特に好ましい。また、上限は、 400重量部以下 が好ましぐ 300重量部以下がより好ましぐ 200重量部以下が特に好ましぐ 100重 量部以下が最も好ましい。エステル (メタ)アタリレートが多すぎると、貯蔵弾性率が低 くなる場合があり、一方、少なすぎると、硬化膜等の形成された構造体が脆ぐ硬化収 縮が大きくなる場合がある。
[0088] また、ウレタン (メタ）アタリレート 100重量部に対して、エポキシ (メタ）アタリレート 0 〜 50重量部が好ましぐ 0〜 20重量部が特に好ましぐ 1〜 10重量部が更に好まし い。
[0089] また、ウレタン (メタ）アタリレート 100重量部に対して、変性シリコーンオイル 0〜10 重量部が好ましぐ 0. 02〜5重量部が特に好ましぐ 0. 05〜2重量部が更に好まし い。変性シリコーンオイルが多すぎると、構造体中で分離し不透明な構造体を形成す る場合があり、一方、少なすぎると、表面の耐傷性が劣る場合がある。
[0090] また、本発明の構造体は、全体で以下の組成の (メタ）アクリル系重合性組成物が 重合したものであることが好ましい。以下「％」は質量％を示す。
ウレタン (メタ）アタリレート 20%〜80%
エステル (メタ）アタリレート 10%〜80%
エポキシ (メタ）アタリレート 0%〜30%
変性シリコーンオイル 0%〜 8%
[0091] また、以下の組成の (メタ)アクリル系重合性組成物が重合したものであることが特に 好ましい。
ウレタン (メタ）アタリレート 30%〜60%
エステル (メタ）アタリレート 15%〜70%
エポキシ (メタ）アタリレート 0%〜12%
変性シリコーンオイル 0. 006%〜3%
[0092] 本発明の (メタ)アクリル系重合性ィ匕合物には、上記したもの以外に、その他の (メタ
)アタリレート、重合開始剤等を含有させることができる。
[0093] 本発明の構造体が、光照射によって形成される場合には、その材料となる (メタ)ァ クリル系重合性ィ匕合物中の光重合開始剤の有無は特に限定はないが、光重合開始 剤が含有されることが好ましい。光重合開始剤としては特に限定はないが、ラジカル 重合に対して従来用いられている公知のもの、例えば、ァセトフエノン類、ベンゾフエ ノン類、アルキルァミノべンゾフエノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、ベンゾインエー テル類、ベンジルジメチルァセタール類、ベンゾィルベンゾエート類、 α—ァシロキシ ムエステル類等のァリールケトン系光重合開始剤;スルフイド類、チォキサントン類な どの含硫黄系光重合開始剤；ァシルジァリールホスフィンォキシド等のァシルホスフィ ンォキシド類;アントラキノン類等が挙げられる。また、光増感剤を併用させることもで きる。
[0094] 前記光重合開始剤の配合量は、（メタ)アタリレートイ匕合物 100重量部に対して、通 常 0. 2〜10重量部、好ましくは 0. 5〜7重量部の範囲で選ばれる。
[0095] 本発明の構造体が、熱重合によって形成される場合には、熱重合開始剤が含有さ れることが好ましい。熱重合開始剤としては、ラジカル重合に対して従来用いられて いる公知のものが使用可能である力 例えば、過酸化物、ジァゾィ匕合物等が挙げら れる。
[0096] また、本発明の (メタ)アクリル系重合性組成物には、更に、バインダーポリマー、微 粒子、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、消泡剤、離型剤、潤滑剤、レべリング 剤等を配合することもできる。これらは、従来公知のものの中から適宜選択して用いる ことができる。
[0097] 本発明の構造体の製造方法は特に限定はないが、例えば下記の方法が好ましい。
すなわち、上記 (メタ）アクリル系重合性組成物を基材上に採取、バーコ一ター若しく はアプリケーター等の塗工機又はスぺーサーを用いて、均一膜厚になるように塗布 する。ここで、「基材」としては、ポリエチレンテレフタレート（以下、「ΡΕΤ」と略記する） 、トリァセチルセルロース等のフィルムが好適である。そして、上記表面構造をもった 型を貼り合わせる。貼り合わせた後、該フィルム面から紫外線照射若しくは電子線照 射及び Ζ又は熱により硬化させる。あるいは以下の方法も好ましい。すなわち、上記 表面構造をもった型の上に、直接 (メタ)アクリル系重合性組成物を採取、塗工機ゃス ぺーサ一等で均一膜厚の塗布膜を作成してもよい。その後、得られた硬化膜を該フ イルム又は型から剥離させて本発明の構造体を作成する。
[0098] また、特に好ましい構造体の製造方法は以下の通りである。すなわち、表面に、平 均高さ lOOnm以上 lOOOnm以下の凹部又は平均深さ lOOnm以上 lOOOnm以下 の凸部を有し、その凹部又は凸部が、少なくともある一の方向に対し平均周期 100η m以上 400nm以下で存在する型に、（メタ)アクリル系重合性組成物を供給し、その 上から基材を型の表面に対して斜めに着接させ、基材側からローラー圧着し、（メタ） アクリル系重合性組成物を硬化後、型から剥離することを特徴とする構造体の製造 方法である。
[0099] この製造方法を、更に図 1を用いて具体的に説明するが、本発明は図 1の具体的 態様に限定されるものではない。すなわち、型（2)に (メタ)アクリル系重合性組成物（
1)を適量供給又は塗布し (図 1 (a) )、ローラー部側を支点に基材 (3)を斜めから貼り 合せる（図 1 (b) )。型 (2)と (メタ)アクリル系重合性組成物（1)と基材 (3)がー体とな つた貼合体を、ローラー (4)へと移動し（図 1 (c) )、ローラー圧着させることにより、型（
2)が有する特定の構造を (メタ)アクリル系重合性組成物（1)に転写、賦型させる（図 1 (d) )。これを硬化させた後、型 (2)力ら剥離することにより（図 1 (e) )、本発明の目 的とする構造体 (5)を得る。
[0100] 図 2は、連続的に構造体を製造する装置の一例の模式図であるが、本発明はこの 模式図に限定されるものではない。すなわち、型（2)に (メタ)アクリル系重合性組成 物（1)を付着させ、ローラー (4)により力を加え、基材 (3)を型に対して斜めの方向か ら貼り合せて、型（2)が有する特定の構造を (メタ)アクリル系重合性組成物（1)に転 写させる。これを、硬化装置 (6)を用いて硬化させた後、型 (2)から剥離することによ り、本発明の目的とする構造体 (5)を得る。支持ローラー（7)は、構造体 (5)を上部に 引き上げるためのものである。
[0101] ローラー (4)を用いて、斜め力 貼り合わせることによって、気泡が入らず欠陥のな い構造体（5)が得られる。また、ローラーを用いれば線圧をカ卩えることになるため圧 力を大きくでき、そのため大面積の構造体の製造が可能になり、また、圧の調節も容 易になる。また、基材と一体となった均一な膜厚と、所定の光学物性を有する構造体 の製造が可能になり、更に、連続的に製造できるため生産性に優れたものになる。 [0102] 本発明の構造体は、光照射、電子線照射及び Z又は加熱によって重合したもので あることが必須であるが、光照射の場合の光の波長については特に限定はない。可 視光線及び Z又は紫外線を含有する光であることが、要すれば光重合開始剤の存 在下で良好に (メタ)アクリル基の炭素間二重結合を重合させる点で好まし 、。特に 好ましくは紫外線を含有する光である。光源は特に限定はなぐ超高圧水銀灯、高圧 水銀灯、ハロゲンランプ、各種レーザー等公知のものが用いられ得る。電子線の照 射の場合、電子線の強度や波長には特に限定はなぐ公知の方法が用いられ得る。
[0103] 熱によって重合させる場合は、その温度は特に限定はないが、 80°C以上が好まし く、 100°C以上が特に好ましい。また、 200°C以下が好ましぐ 180°C以下が特に好 ましい。重合温度が低すぎる場合は重合が充分に進行しない場合があり、高すぎる 場合は重合が不均一になったり、基材の劣化が起こったりする場合がある。加熱時 間も特に限定はないが、 5秒以上が好ましぐ 10秒以上が特に好ましい。また、 10分 以下が好ましぐ 2分以下が特に好ましぐ 30秒以下が更に好ましい。
[0104] 特定の表面構造を有する本発明の構造体が特定の貯蔵弾性率を有するとき、更に は、特定の (メタ)アタリレート系重合性組成物が重合して特定の貯蔵弾性率を有する ようになった構造体が、優れた機械的強度を与え、表面耐傷性等の機械的強度に優 れるようになる作用 ·原理については、明らかではないが、高分子の力学物性を考慮 すると、凹凸 1個 1個の微細な部分の力学物性が特定の範囲の値になることにより、 構造体表面が外力に耐えられる性能を有するようになる力 であると考えられる。 実施例
[0105] 以下、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明はその要旨を越えな い限り、これらに限定されるものではない。
[0106] 実施例 1
<エポキシ (メタ)アタリレートも変性シリコーンオイルも含有しな ヽ (メタ)アクリル系重 合性組成物を硬化させて得た構造体 >
[構造体の製造]
表 1に示す (メタ)アタリレートイ匕合物と光重合開始剤を表 1に示した量で配合し、（メ タ）アクリル系重合性組成物を得、その適量を PETフィルム上に採取、バーコ一ター N028にて、均一な膜厚になるよう塗布した。その後、表面に、平均高さ 150nmの凸 部が平均周期 205nmで配置された構造をもった型を貼り合わせた。型全体が、（メタ
H
)アクリル 3
c H系重合性組成物に貼り合わされたことを確認して、フュージョン製 UV照射 装置によっ 73C/
て、 3. 6jZcm2の紫外線照射によって硬化させ、構造体（1)〜（6)を製 造した。なお、表 1
OM中の数字は重量部を示し、（メタ)アタリレートイ匕合物の合計量は、 100重量部になっている。
[表 1]
Figure imgf000026_0001
表 1中、化合物（1)は、下記の式（1)で示される化合物である c
[化 2]
NHCO-X OCCH = CH 2 ,
( 1 ) [式（1)中、 Xは、ジペンタエリスリトール (6個の水酸基を有する）残基を示す。 ] [0109] 表 1中、化合物（2)は、
2HEA IPDI （アジピン酸と 1, 6 へキサンジオールとの重量平均分子量 3
500の末端水酸基のポリエステル）—— IPDI—— 2HEA
で示される化合物である。
[0110] 表 1中、化合物（3)は、
2HEA IPDI （アジピン酸と 1, 4 ブタンジオールとの重量平均分子量 250
00の末端水酸基のポリエステル）—— IPDI—— 2HEA
で示される化合物である。
[0111] ここで、「2HEA」は、 2 ヒドロキシェチルアタリレートを示し、「IPDI」は、イソホロン ジイソシァネートを示し、「一一」は、イソシァネート基と水酸基の通常の下記の反応 による結合を示す。
-NCO + HO- → -NHCOO- [0112] 以下の測定方法で、構造体（1)〜（6)の物性を測定した。
<反応率>
赤外線分光法 (IR)による露光前後の吸光度測定を行い、（メタ)アクリル二重結合 吸光比から、二重結合消費率すなわち反応率を求めた。結果を併せて表 1に示す。
[0113] <貯蔵弾性率 >
上記で得られた構造体（1)〜（6)を、それぞれ 5mm X 20mmに切り出して、 5mm X 20mm X 100 μ mのテストピースを作成した。測定は、セイコーインスツルメント社 製の動的粘弾性試験機 DMS6100を用いて、上記テストピースを、 20mmの方向で 挟み、 10Hzの周波数の力を加え、— 20°C〜200°Cの範囲で測定し、それぞれのテ ストピースで、ゴム領域を与える温度範囲を見出した。図 3に、横軸に温度、縦軸に貯 蔵弾性率をとつた時の、構造体（1) (3) (6)のグラフを示す。約 150°C以上に現れる 平坦な部分がゴム領域である。全てのテストピースで、ほぼ、 180〜200°Cの範囲が ゴム領域だったので、全て 190°Cにおける貯蔵弾性率を測定した。結果を併せて表 1に示す。
[0114] 構造体（1)〜（6)について、以下の評価方法で評価を行った。 [反射率]
島津製作所製、自記分光光度計「UV— 3150」を用い、裏面に黒色テープを貼り 付け、裏面から 5° 入射絶対反射率を測定した。結果を表 2に示す。
[0115] [透過率]
スガ試験製、ヘイズメーター「HGM— 2DP」を用いて、可視光線の平均透過率を 測定した。結果を表 2に示す。
[0116] [表面耐傷性の評価]
上記構造体（1)〜 (6)の表面上を、新東科学 (株)社製の表面試験機ドライボギア TYPE— 14DRを用い、 25mm円柱の平滑な断面にスチールウール # 0000を均一 に貼り付け、荷重 400gをかけながら、速度 lOcmZ秒で 10往復させたときの傷の付 き具合を観察した。以下の基準で判定した。結果を表 2に示す。
[0117] (判定基準）
5 :引搔き傷なし
4 :数本の引搔き傷あり
3： 25mm円柱の半分の引搔き傷あり
2： 25mm円柱の 2 3の引搔き傷あり
1： 25mm円柱の全面の引搔き傷あり
[0118] [表 2]
Figure imgf000028_0001
[0119] 表 2の結果力 判るように、力かる構造を有する構造体は良好な反射防止性能と透 過改良性能を有しており、更に、貯蔵弾性率が 0. 5GPa以上の構造体（1)及び構造 体（2)は、表面耐傷性にも優れていた。一方、貯蔵弾性率が 0. 5GPa未満の構造体 (3)なレ、し構造体 (6)は、何れも表面耐傷性に劣ってレ、た。
[0120] 実施例 2
く更に、エポキシ (メタ）アタリレート及び Z又は変性シリコーンオイルを含有する（メタ )アクリル系重合性組成物を硬化させて得た構造体 >
[構造体の製造]
表 3に示す (メタ)アタリレートイ匕合物及び Z又は変性シリコーンオイル、並びに、光 重合開始剤である 1ーヒドロキシシクロへキシルフェニルケトンを表 3に示した量で配 合し、（メタ）アクリル系重合性組成物を得た。次いで、その適量を平均高さ 400nmの 凸部が平均周期 200nm (アスペクト比は 2. 0)で配置された構造をもった型に採取し 、ローラー部側を支点に、基材である PETフィルムを斜めから貼り合せた。貼り合せら れた貼合体をローラー（大成ラミネーター社製)で圧着し、型全体に均一な組成物が 塗布されたことを確認して、フュージョン製 UV照射装置によって、基材側から 1. OJ Zcm2の紫外線照射によって硬化させた。硬化後、型から剥離することにより構造体 (11)〜（24)を製造した。
[0121] 表 3中、化合物（1)、 (2)は実施例 1で前記したものと同じであり、使用した変性シリ コーンオイルの化学構造やメーカー等は表 4に示す。なお、表 3中の数字は重量部 を示し、（メタ)アクリル系重合性組成物の合計量は 100重量部になっている。表 3中 の含有量における空欄は、「0」すなわち含有されて 、な 、ことを示す。
[0122] 得られた構造体（11)〜（24)について、貯蔵弾性率、反射率及び透過率を実施例 1で前記した測定方法と同様の方法で測定した。また、表面耐傷性については、荷 重を上記した 400gだけではなぐ 200gにした方法でも測定し、同様の判定基準で 判定した。結果を表 2にまとめて示す。表 3で最上行の「（11)〜（24)」は構造体 No. を、すなわち「構造体（11)〜構造体 (24)」を示す。また、構造体（14)につ 、ては、 図 3に貯蔵弾性率の温度依存性を併せて示す。
[0123] [耐汚染性]
構造体表面に指紋を捺印し、水を染み込ませたティッシュペーパーで 5回拭 、た後 の汚れ具合を目視で観察し、以下の判定基準で判定した。結果を表 3に示す。
[0124] (判定基準）
5 :指紋汚れなし
4 :指紋汚れほとんどなし
3：指紋汚れが斜め力 ならば目視で観察できる 2：指紋汚れが正面からも目視で観察できる 1：指紋汚れが正面から目視ではつきり観察できる [表 3]
Figure imgf000030_0001
[表 4] 式 (S l )〜 (S4) 品名 メ一力一名 タイプ 変性
X における一 R
TegoRad2200N デグサ 側鎖型 メタクリ'レホ リエ -テル - (ホ°リエ-テル）- MAc
X-22- 164AS 信越シリ コーン 両末端型 メ夕クリルアルキル -R-OMAc
ί言越シリ コーン 両末端型 メタクリルアルキル -R-O Ac
X- 24- 8201 信越シリ コーン 片末端型 タクリルアルキル - C3H6- OMAc
X- 22- 2426 信越シリ コーン 片末端型 /タクリルアルキル - CH3 (CH2) 3- OMAc
X - 22 - 2404 ί言越シリ コーン 片末端型 メタクリルアルキル 下記の構造
FLI OO-lOOst ィ言越シリ コーン 側鎖型 フルォロアルキル -CH2CH2CF3
FL100-450s t 信越シリ コーン 側鎖型 フルォロアルキル - CH2CHつ CF3
[0127] 表 4中、「MAc」はメタクリロイル基を表し、「X— 22— 2404」は、以下の構造を有す る変性シリコーンオイルである。
[化 3]
Figure imgf000031_0001
[0128] 表 3から判るように、構造体（11)〜（24)の中で、構造体（23)のみ貯蔵弾性率が 0 . 20と小さぐ表面耐傷性に劣っていた力 それ以外は貯蔵弾性率が 0. 5GPa以上 であり、表面耐傷性が優れていた。更に、構造体（17) (18) (19) (21) (22)では、耐 汚染性にも優れていた。なお、耐汚染性は、判定基準「4」〜「5」が特に好ましいが、 耐汚染性が「1」のものであっても、用途さえ限定すれば問題なく好適に使用できるも のである。
産業上の利用可能性
[0129] 本発明の構造体は、光の反射防止性能、光の透過改良性能等に優れているので、 良好な視認性を付与する。また、優れた機械的強度 (表面耐傷性能や表面耐摩耗 性）を有するので、液晶表示ディスプレイ（LCD)、プラズマディスプレイ（PDP)、有 機 EL (OEL)、 CRT、フィールドェミッションディスプレイ（FED)等のフラットパネル ディスプレイ (FPD)等の表面に機械的外力が加わりやすい用途に特に広く好適に 利用されるものである。また、より一般に、反射防止膜、透過性改良膜、表面保護膜 等としても、広く好適に利用されるものである。
図面の簡単な説明
[図 1]本発明の構造体の製造方法の一例を示す模式図である。
[図 2]本発明の構造体の製造方法を説明するための連続製造装置の一例を示す模 式図である。
[図 3]実施例 1及び実施例 2における、構造体（1)、 （3)、 （6)及び（14)の貯蔵弾性 率の温度依存性を示すグラフである。

Claims

請求の範囲
[1] 表面に、平均高さ lOOnm以上 lOOOnm以下の凸部又は平均深さ lOOnm以上 10 OOnm以下の凹部を有し、その凸部又は凹部が、少なくともある一の方向に対し平均 周期 lOOnm以上 400nm以下で存在する構造体であって、該構造体が、光照射、電 子線照射及び Z又は加熱によって、（メタ）アクリル系重合性組成物が重合したもの であって、 180°C以上における貯蔵弾性率が 0. 5GPa以上のものであることを特徴と する構造体。
[2] 上記 (メタ）アクリル系重合性組成物が、ウレタン (メタ)アタリレート及びエステル (メ タ）アタリレートを含有するものである請求項 1記載の構造体。
[3] 上記ウレタン (メタ）アタリレートが、 4官能以上のウレタン (メタ)アタリレートを含有す るものである請求項 2記載の構造体。
[4] 上記 4官能以上のウレタン (メタ)アタリレートが、多価イソシァネート化合物の実質 的に全てのイソシァネート基に、分子中に 1個の水酸基と 2個以上の (メタ）アクリル基 を有する化合物の該水酸基が反応してなるものである請求項 3記載の構造体。
[5] 上記ウレタン (メタ）アタリレートが、更に、分子の両末端にそれぞれ 1個ずつの (メタ
)アクリル基を有する 2官能ウレタン (メタ)アタリレートを含有するものである請求項 3 又は請求項 4記載の構造体。
[6] 上記エステル (メタ)アタリレートが、アルキレングリコール鎖を有し、分子の両末端に それぞれ 1個ずつの (メタ）アクリル基を有する 2官能エステル (メタ）アタリレートを含 有するものである請求項 2ないし請求項 5の何れかの請求項記載の構造体。
[7] 上記エステル (メタ)アタリレートが、更に、 3官能以上のエステル (メタ)アタリレートを 含有するものである請求項 6記載の構造体。
[8] 上記 (メタ）アクリル系重合性組成物力 更に、エポキシ (メタ)アタリレートを含有す るものである請求項 2ないし請求項 7記載の構造体。
[9] 上記 (メタ）アクリル系重合性組成物が、更に、変性シリコーンオイルを含有するもの である請求項 2な 、し請求項 8記載の構造体。
[10] 光の反射防止用及び Z又は光の透過改良用である請求項 1ないし請求項 9の何れ かの請求項記載の構造体。
[11] 表面に、平均高さ lOOnm以上 lOOOnm以下の凹部又は平均深さ lOOnm以上 10 OOnm以下の凸部を有し、その凹部又は凸部が、少なくともある一の方向に対し平均 周期 lOOnm以上 400nm以下で存在する型に、（メタ）アクリル系重合性組成物を供 給し、その上力 基材を型の表面に対して斜めに着接させ、基材側からローラー圧 着し、（メタ)アクリル系重合性組成物を硬化後、型から剥離することを特徴とする請求 項 1な!、し請求項 10記載の構造体の製造方法。
[12] 請求項 1な!、し請求項 10の何れかの請求項記載の構造体形成用の (メタ)アクリル 系重合性組成物。
PCT/JP2006/319380 2005-10-04 2006-09-28 特定の表面形状と物性を有する構造体及びその構造体形成用の（メタ）アクリル系重合性組成物 WO2007040159A1 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US12/064,478 US7897243B2 (en) 2005-10-04 2006-09-28 Structure having specific surface shape and properties and (meth)acrylic polymerizable composition for formation of the structure
KR1020087006649A KR101362637B1 (ko) 2005-10-04 2006-09-28 특정한 표면 형상과 물성을 갖는 구조체 및 그 구조체형성용의 (메트)아크릴계 중합성 조성물
CN2006800320018A CN101253227B (zh) 2005-10-04 2006-09-28 具有特定的表面形状与物性的结构体及用于形成该结构体的(甲基)丙烯酸系聚合性组合物
JP2007538736A JP4938675B2 (ja) 2005-10-04 2006-09-28 特定の表面形状と物性を有する構造体及びその構造体形成用の（メタ）アクリル系重合性組成物
TW096103176A TWI443130B (zh) 2005-10-04 2007-01-29 (Meth) acrylic polymerizable composition having a specific surface shape and physical properties and a structure for forming the structure

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005291795 2005-10-04
JP2005-291795 2005-10-04

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2007040159A1 true WO2007040159A1 (ja) 2007-04-12

Family

ID=37906201

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2006/319380 WO2007040159A1 (ja) 2005-10-04 2006-09-28 特定の表面形状と物性を有する構造体及びその構造体形成用の（メタ）アクリル系重合性組成物

Country Status (6)

Country Link
US (1) US7897243B2 (ja)
JP (3) JP4938675B2 (ja)
KR (1) KR101362637B1 (ja)
CN (1) CN101253227B (ja)
TW (1) TWI443130B (ja)
WO (1) WO2007040159A1 (ja)

Cited By (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010041025A (ja) * 2008-07-10 2010-02-18 Fujifilm Corp ナノインプリント用硬化性組成物および硬化物
EP2169677A1 (en) * 2007-06-29 2010-03-31 DIC Corporation Ultraviolet-curable composition for light-transmitting layer and optical disk
EP2223174A1 (en) * 2007-11-27 2010-09-01 3M Innovative Properties Company Methods for forming sheeting with a composite image that floats and a master tooling
WO2010143503A1 (ja) * 2009-06-12 2010-12-16 シャープ株式会社 反射防止膜、表示装置及び透光部材
JP2011002759A (ja) * 2009-06-22 2011-01-06 Dnp Fine Chemicals Co Ltd 反射防止膜
EP2284205A1 (en) * 2008-05-30 2011-02-16 Omron Corporation Resin composition for manufacturing optical component and application thereof
JP2011128512A (ja) * 2009-12-21 2011-06-30 Sony Corp 光学体およびその製造方法
WO2012014961A1 (ja) * 2010-07-29 2012-02-02 株式会社日立ハイテクノロジーズ 微細構造転写用の光重合性樹脂組成物
JP2012057031A (ja) * 2010-09-08 2012-03-22 Dic Corp 活性エネルギー線硬化型樹脂組成物、コーティング剤
JP2012078438A (ja) * 2010-09-30 2012-04-19 Dainippon Printing Co Ltd 反射防止フィルム用組成物
JP2012163723A (ja) * 2011-02-04 2012-08-30 Sony Corp 光学素子およびその製造方法、表示装置、情報入力装置、ならびに写真
WO2012157717A1 (ja) * 2011-05-17 2012-11-22 株式会社Ｄｎｐファインケミカル 特定の表面形状を有する構造体及び該構造体の製造方法
JP2013508470A (ja) * 2009-10-16 2013-03-07 ポスコ 放射線硬化性樹脂組成物、及びこれを含む耐指紋性樹脂組成物
JP2013241503A (ja) * 2012-05-18 2013-12-05 Mitsubishi Rayon Co Ltd 多官能ウレタン（メタ）アクリレート、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物及び微細凹凸構造を表面に有する物品
JP2014114402A (ja) * 2012-12-11 2014-06-26 Taiyo Ink Mfg Ltd 光硬化性組成物および成型品
KR20150004245A (ko) 2012-04-27 2015-01-12 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 임프린트 재료
JP2015052787A (ja) * 2014-09-22 2015-03-19 デクセリアルズ株式会社 光学体およびその製造方法
JP2015079262A (ja) * 2014-11-28 2015-04-23 大日本印刷株式会社 反射防止フィルム
US9025250B2 (en) 2009-04-24 2015-05-05 Sharp Kabushiki Kaisha Antireflection film, method for manufacturing antireflection film, and display apparatus
WO2018043627A1 (ja) * 2016-09-01 2018-03-08 大日本印刷株式会社 光学フィルムおよび画像表示装置
JP2020007393A (ja) * 2018-07-03 2020-01-16 凸版印刷株式会社 樹脂成形体および樹脂成形体の製造方法
US10976475B1 (en) 2016-08-25 2021-04-13 Sharp Kabushiki Kaisha Antifouling film
US11309270B2 (en) 2014-02-04 2022-04-19 Dexerials Corporation Anisotropic conductive film and production method of the same

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20110318539A1 (en) * 2009-03-03 2011-12-29 Satoru Ozawa Process for producing film
JP5734954B2 (ja) * 2009-04-10 2015-06-17 三井化学株式会社 硬化可能な接着剤組成物
KR101820074B1 (ko) 2010-05-20 2018-01-18 히타치가세이가부시끼가이샤 감광성 수지 조성물, 감광성 필름, 리브 패턴의 형성 방법, 중공 구조와 그 형성 방법 및 전자 부품
CN104349892B (zh) * 2012-06-15 2017-06-09 三菱丽阳株式会社 层积体
KR101805278B1 (ko) * 2013-03-29 2017-12-05 미쯔비시 케미컬 주식회사 물품
US10259149B2 (en) * 2013-09-18 2019-04-16 Mitsubishi Chemical Corporation Structure, production method thereof, and article provided with said structure
JP6609402B2 (ja) * 2014-06-19 2019-11-20 デクセリアルズ株式会社 光学フィルム及びその製造方法
JP6684046B2 (ja) * 2014-07-30 2020-04-22 デクセリアルズ株式会社 透明積層体
JP6360764B2 (ja) * 2014-09-30 2018-07-18 富士フイルム株式会社 反射防止フィルム、反射防止フィルムの製造方法、反射防止フィルムと清掃用布を含むキット
JP2016204587A (ja) * 2015-04-28 2016-12-08 日本合成化学工業株式会社 光硬化性組成物および樹脂成形体
CN105676321B (zh) * 2016-03-14 2018-01-05 淮阴工学院 一种微透镜纳米孔混合阵列结构的制备方法
JP6711683B2 (ja) 2016-04-28 2020-06-17 シャープ株式会社 光学部材の製造方法、及び、光学部材

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003013215A (ja) * 2001-06-26 2003-01-15 Anelva Corp スパッタリング装置
JP2003053834A (ja) * 2001-08-21 2003-02-26 Kuraray Co Ltd 樹脂シートの製造方法
JP2003098304A (ja) * 2001-09-26 2003-04-03 Dainippon Printing Co Ltd 反射防止転写フィルム及びそれを用いた反射防止加工方法
JP2003147209A (ja) * 2001-11-09 2003-05-21 Dainippon Printing Co Ltd 光学素子用樹脂組成物、光学素子、およびプロジェクションスクリーン
JP2005250469A (ja) * 2004-03-05 2005-09-15 Arisawa Mfg Co Ltd レンズ、透過型スクリーン、及びレンズの製造方法
JP2006062240A (ja) * 2004-08-27 2006-03-09 Fuji Photo Film Co Ltd 防眩性反射防止フィルムの製造方法及び防眩性反射防止フィルム

Family Cites Families (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5525441A (en) * 1978-08-11 1980-02-23 Mitsubishi Petrochem Co Ltd Photo-setting acrylic urethane resin coating composition
JPS56120718A (en) * 1980-02-28 1981-09-22 Asahi Chem Ind Co Ltd Improved polyurethane type photosensitive resin composition
JP2790181B2 (ja) * 1987-06-30 1998-08-27 大日本印刷株式会社 レンズシートおよびその製造方法
JP2608440B2 (ja) * 1988-01-28 1997-05-07 大日本印刷株式会社 レンズシートの製造方法
JP2623279B2 (ja) * 1988-01-30 1997-06-25 大日本印刷株式会社 レンズシートの製造方法における樹脂塗布方法
JPH01201375A (ja) * 1988-02-05 1989-08-14 Asahi Chem Ind Co Ltd 活性エネルギー線硬化性塗料組成物
JPH0586152A (ja) * 1991-07-01 1993-04-06 Daihachi Chem Ind Co Ltd 活性エネルギー線硬化型被覆組成物
JPH10111660A (ja) * 1996-10-01 1998-04-28 Minnesota Mining & Mfg Co <3M> 再帰性反射シートおよびその製造方法
JPH1160656A (ja) * 1997-08-12 1999-03-02 Jsr Corp 注型重合用放射線硬化性樹脂組成物
JP3684796B2 (ja) * 1997-11-26 2005-08-17 富士ゼロックス株式会社 再生可能な画像支持体およびその製造方法
US6583198B2 (en) * 1997-11-28 2003-06-24 Hitachi Chemical Company, Ltd. Photo curable resin composition and photosensitive element
JP3931408B2 (ja) * 1997-12-25 2007-06-13 凸版印刷株式会社 防眩性ハードコートフィルム
JP4712944B2 (ja) * 2000-08-09 2011-06-29 大日本印刷株式会社 化粧シートの製造方法
JP2002097810A (ja) * 2000-09-26 2002-04-05 Bridgestone Corp 防汚性を付与したバスルーム内面部材
JP4736234B2 (ja) * 2001-05-09 2011-07-27 凸版印刷株式会社 反射防止積層体の製造方法
JP4467243B2 (ja) 2002-02-20 2010-05-26 大日本印刷株式会社 樹脂組成物および光学素子
JP2003240903A (ja) * 2002-02-20 2003-08-27 Dainippon Printing Co Ltd 反射防止物品
JP4324374B2 (ja) * 2002-03-29 2009-09-02 大日本印刷株式会社 微細凹凸パターン形成材料、微細凹凸パターン形成方法、転写箔、光学物品及びスタンパー
JP4414672B2 (ja) * 2002-04-23 2010-02-10 株式会社リコー 情報記録表示カード、及びそれに用いられるオーバーシート
JP2004143365A (ja) * 2002-10-28 2004-05-20 Sumitomo Chem Co Ltd 耐擦傷性アクリル系樹脂フィルム及びそれを用いた携帯型情報端末の表示窓保護板
EP1418448A1 (en) 2002-11-06 2004-05-12 Koninklijke DSM N.V. Preparation of a mechanically durable single layer coating with anti-reflective properties
JP2004205990A (ja) * 2002-12-26 2004-07-22 Dainippon Printing Co Ltd 反射防止性能を有する微細凹凸パターンの作製方法及び反射防止物品
JP2004322328A (ja) * 2003-04-21 2004-11-18 Polymatech Co Ltd フィルム一体成形品及びその製造方法
JP4275469B2 (ja) 2003-06-16 2009-06-10 大日本印刷株式会社 凹凸パターン形成材料、凹凸パターン受容体、凹凸パターン形成方法、転写箔、及び光学物品
JP4270968B2 (ja) * 2003-07-10 2009-06-03 オリンパス株式会社 反射防止面付光学素子を持つ光学系を備えた光学機器
WO2005022208A1 (ja) * 2003-08-28 2005-03-10 Sanyo Electric Co., Ltd. 表面微細構造をもつメタクリル系樹脂キャスト板及びその製造方法
JP4406553B2 (ja) 2003-11-21 2010-01-27 財団法人神奈川科学技術アカデミー 反射防止膜の製造方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003013215A (ja) * 2001-06-26 2003-01-15 Anelva Corp スパッタリング装置
JP2003053834A (ja) * 2001-08-21 2003-02-26 Kuraray Co Ltd 樹脂シートの製造方法
JP2003098304A (ja) * 2001-09-26 2003-04-03 Dainippon Printing Co Ltd 反射防止転写フィルム及びそれを用いた反射防止加工方法
JP2003147209A (ja) * 2001-11-09 2003-05-21 Dainippon Printing Co Ltd 光学素子用樹脂組成物、光学素子、およびプロジェクションスクリーン
JP2005250469A (ja) * 2004-03-05 2005-09-15 Arisawa Mfg Co Ltd レンズ、透過型スクリーン、及びレンズの製造方法
JP2006062240A (ja) * 2004-08-27 2006-03-09 Fuji Photo Film Co Ltd 防眩性反射防止フィルムの製造方法及び防眩性反射防止フィルム

Cited By (41)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2169677A1 (en) * 2007-06-29 2010-03-31 DIC Corporation Ultraviolet-curable composition for light-transmitting layer and optical disk
EP2169677A4 (en) * 2007-06-29 2011-01-05 Dainippon Ink & Chemicals ULTRAVIOLET CURABLE COMPOSITION FOR A TRANSLUCENT LAYER AND OPTICAL DATA CARRIER
EP2223174A1 (en) * 2007-11-27 2010-09-01 3M Innovative Properties Company Methods for forming sheeting with a composite image that floats and a master tooling
EP2223174A4 (en) * 2007-11-27 2014-05-28 3M Innovative Properties Co METHOD FOR FORMING SHEET MATERIALS WITH A COMPOSITE IMAGE SURFING AND MASTER TOOLING
EP2284205A4 (en) * 2008-05-30 2014-07-09 Soken Kagaku Kk RESIN COMPOSITION FOR PREPARING AN OPTICAL COMPONENT AND ITS APPLICATION
EP2284205A1 (en) * 2008-05-30 2011-02-16 Omron Corporation Resin composition for manufacturing optical component and application thereof
JP2010041025A (ja) * 2008-07-10 2010-02-18 Fujifilm Corp ナノインプリント用硬化性組成物および硬化物
US9025250B2 (en) 2009-04-24 2015-05-05 Sharp Kabushiki Kaisha Antireflection film, method for manufacturing antireflection film, and display apparatus
RU2489738C1 (ru) * 2009-06-12 2013-08-10 Шарп Кабусики Кайся Противоотражательная пленка, отображающее устройство и светопропускающий элемент
US8384998B2 (en) 2009-06-12 2013-02-26 Sharp Kabushiki Kaisha Antireflection film, display device and light transmissive member
EP2426520A1 (en) * 2009-06-12 2012-03-07 Sharp Kabushiki Kaisha Antireflection film, display device and light transmissive member
EP2428825A1 (en) * 2009-06-12 2012-03-14 Sharp Kabushiki Kaisha Antireflection film, display device and light transmissive member
US9158038B2 (en) 2009-06-12 2015-10-13 Sharp Kabushiki Kaisha Antireflection film, display device and light transmissive member
WO2010143503A1 (ja) * 2009-06-12 2010-12-16 シャープ株式会社 反射防止膜、表示装置及び透光部材
RU2493574C1 (ru) * 2009-06-12 2013-09-20 Шарп Кабусики Кайся Противоотражательная пленка, отображающее устройство и светопропускающий элемент
EP2426520A4 (en) * 2009-06-12 2012-11-14 Sharp Kk ANTIREFLECTION FILM, DISPLAY DEVICE, AND LIGHT TRANSMISSION ELEMENT
JP5250107B2 (ja) * 2009-06-12 2013-07-31 シャープ株式会社 反射防止膜、表示装置及び透光部材
JP2011002759A (ja) * 2009-06-22 2011-01-06 Dnp Fine Chemicals Co Ltd 反射防止膜
US9068085B2 (en) 2009-10-16 2015-06-30 Posco Radiation curable resin composition, and fingerprint-resistant resin composition containing same
JP2013508470A (ja) * 2009-10-16 2013-03-07 ポスコ 放射線硬化性樹脂組成物、及びこれを含む耐指紋性樹脂組成物
JP2011128512A (ja) * 2009-12-21 2011-06-30 Sony Corp 光学体およびその製造方法
WO2012014961A1 (ja) * 2010-07-29 2012-02-02 株式会社日立ハイテクノロジーズ 微細構造転写用の光重合性樹脂組成物
JP2012031240A (ja) * 2010-07-29 2012-02-16 Hitachi High-Technologies Corp 微細構造転写用の光重合性樹脂組成物
JP2012057031A (ja) * 2010-09-08 2012-03-22 Dic Corp 活性エネルギー線硬化型樹脂組成物、コーティング剤
JP2012078438A (ja) * 2010-09-30 2012-04-19 Dainippon Printing Co Ltd 反射防止フィルム用組成物
JP2012163723A (ja) * 2011-02-04 2012-08-30 Sony Corp 光学素子およびその製造方法、表示装置、情報入力装置、ならびに写真
WO2012157717A1 (ja) * 2011-05-17 2012-11-22 株式会社Ｄｎｐファインケミカル 特定の表面形状を有する構造体及び該構造体の製造方法
US9631081B2 (en) 2012-04-27 2017-04-25 Nissan Chemical Industries, Ltd. Imprint material
KR20150004245A (ko) 2012-04-27 2015-01-12 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 임프린트 재료
JP2013241503A (ja) * 2012-05-18 2013-12-05 Mitsubishi Rayon Co Ltd 多官能ウレタン（メタ）アクリレート、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物及び微細凹凸構造を表面に有する物品
JP2014114402A (ja) * 2012-12-11 2014-06-26 Taiyo Ink Mfg Ltd 光硬化性組成物および成型品
US11309270B2 (en) 2014-02-04 2022-04-19 Dexerials Corporation Anisotropic conductive film and production method of the same
JP2015052787A (ja) * 2014-09-22 2015-03-19 デクセリアルズ株式会社 光学体およびその製造方法
JP2015079262A (ja) * 2014-11-28 2015-04-23 大日本印刷株式会社 反射防止フィルム
US10976475B1 (en) 2016-08-25 2021-04-13 Sharp Kabushiki Kaisha Antifouling film
KR20190042637A (ko) * 2016-09-01 2019-04-24 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 광학 필름 및 화상 표시 장치
JPWO2018043627A1 (ja) * 2016-09-01 2019-06-24 大日本印刷株式会社 光学フィルムおよび画像表示装置
US10792901B2 (en) 2016-09-01 2020-10-06 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Optical film and image display device
KR102348582B1 (ko) 2016-09-01 2022-01-07 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 광학 필름 및 화상 표시 장치
WO2018043627A1 (ja) * 2016-09-01 2018-03-08 大日本印刷株式会社 光学フィルムおよび画像表示装置
JP2020007393A (ja) * 2018-07-03 2020-01-16 凸版印刷株式会社 樹脂成形体および樹脂成形体の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP5042386B2 (ja) 2012-10-03
JP2012036404A (ja) 2012-02-23
CN101253227A (zh) 2008-08-27
TW200831568A (en) 2008-08-01
US7897243B2 (en) 2011-03-01
KR101362637B1 (ko) 2014-02-12
TWI443130B (zh) 2014-07-01
JPWO2007040159A1 (ja) 2009-04-16
US20090246494A1 (en) 2009-10-01
JP4938675B2 (ja) 2012-05-23
JP2012052125A (ja) 2012-03-15
CN101253227B (zh) 2011-05-18
KR20080050423A (ko) 2008-06-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4938675B2 (ja) 特定の表面形状と物性を有する構造体及びその構造体形成用の（メタ）アクリル系重合性組成物
US20140065367A1 (en) Structure having specific surface shape and method for manufacturing said structure
JP2007030479A (ja) 活性エネルギー線硬化樹脂積層体およびその製造方法
JP2009013384A (ja) 易滑性アンチブロッキング光硬化性樹脂組成物、それを基材上に被覆硬化したアンチブロッキング性構造体およびその製法
JP2011002759A (ja) 反射防止膜
WO2015133535A1 (ja) 積層体
TWI796331B (zh) 用於透明複合膜之硬塗層組成物及方法以及包含該膜之可撓性顯示裝置
WO2014069266A1 (ja) 硬化性樹脂組成物、その硬化物、及びプラスチックレンズ
KR20170020344A (ko) 터치 패널용 자외선 경화형 수지 조성물, 그것을 사용한 첩합 방법 및 물품
JP5307511B2 (ja) 被膜形成用ラジカル重合性樹脂組成物
JP5616036B2 (ja) 基材、中間膜及び微細凹凸構造膜を積層してなる積層体
JP7330738B2 (ja) 低光沢な外観を呈する積層体及び表面コーティング剤
JPWO2014189075A1 (ja) 積層体
WO2022176660A1 (ja) 光学積層体、光学装置および光学積層体の製造方法
JP6364719B2 (ja) 硬化性樹脂組成物、硬化物、積層体、ハードコートフィルム及びフィルム積層体
JP2013238808A (ja) 特定の表面形状を有する構造体及び該構造体の製造方法
JPWO2018186241A1 (ja) 積層体、三次元曲面を有する反射防止物品、反射防止物品の製造方法
JP2019051692A (ja) 積層体
JP2005089657A (ja) 放射線硬化性組成物及びその用途
JP2012139899A (ja) （メタ）アクリレート系重合性組成物、それを用いた反射防止フィルム積層体及びその製造方法
JP2009091586A (ja) 活性エネルギー線硬化樹脂シート
WO2022270556A1 (ja) 光学積層体の製造方法および光学積層体
JP2016199617A (ja) 光硬化性組成物
CN116940869A (zh) 光学层叠体、光学装置以及光学层叠体的制造方法
JPWO2019065421A1 (ja) 反射防止フィルム、反射防止物品、偏光板、及び画像表示装置

Legal Events

Date Code Title Description
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 200680032001.8

Country of ref document: CN

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2007538736

Country of ref document: JP

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 12064478

Country of ref document: US

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 1020087006649

Country of ref document: KR

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 06798428

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1