CN101253227B - 具有特定的表面形状与物性的结构体及用于形成该结构体的(甲基)丙烯酸系聚合性组合物 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及具有特定的表面形状与物性的结构体及用于形成该结构体的(甲基)丙烯酸系聚合性组合物。本发明中发现了具有抗光反射性能、光透过改良性能等的结构体所要求的表面形状与物性，特别是提供出赋予了耐表面损伤性的结构体，并提供了可形成具有所述特定结构与物性的结构体的组合物，进一步提供了可良好地形成抗光反射性能与光透过改良性能更优越且具有较大高宽比的结构体的组合物。即，本发明的结构体为表面具有平均高度100nm～1000nm的凸部或平均深度100nm～1000nm的凹部且该凸部或凹部按照相对于至少某一方向的平均周期为100nm～400nm的方式存在的结构体，该结构体的特征在于，其是利用光照射、电子射线照射和/或加热使(甲基)丙烯酸系聚合性组合物进行聚合而得到的结构体，该结构体在180℃以上的储存模量为0.5GPa以上。

Description

具有特定的表面形状与物性的结构体及用于形成该结构体的(甲基)丙烯酸系聚合性组合物
技术领域
本发明涉及具有特定的表面形状与物性的结构体，详细地说，本发明涉及具有抗光反射性能、光透过改良性能、耐表面损伤性能等的结构体，更详细地说，本发明涉及能对显示器等赋予良好的辨认性的表面层用结构体及用于形成该结构体的(甲基)丙烯酸系聚合性组合物。 
背景技术
显示器等所使用的表面层已知可使用下述物质：(1)一般称为干式法的表面层，即，采用气相工序制作电介质多层膜，并利用光学干涉效应实现低反射率而得到的表面层；(2)一般称为湿式法的表面层，即，将低折射率材料涂布于基板薄膜上而成的表面层等。此外，作为与上述的原理完全不同的技术，已知有(3)通过对表面赋予微细结构，使之可显现出低反射率(专利文献1～专利文献10)。 
一般，该表面层不仅需要抗光反射性能、光透过性提高性能，而且在实用化时还需要对磨损、损伤等具有较强的一定的机械强度。 
然而，对于上述(3)中所记载的利用表面微细结构的表面层，虽可获得良好的抗反射性能，但是由于其耐表面损伤性等机械强度不足，因而较容易磨损，或容易受到损伤等，因此尚未达到实用化。 
例如在专利文献1至专利文献10中记载有所述抗反射膜用的材料，其中作为聚合性树脂使用(甲基)丙烯酸酯化合物。然而，此处所记载的材料完全为一般性的聚合物薄膜形成用材料，对于(3)中所记载的具有特殊表面微细结构的表面层，从材料方面、特别是从耐表面损伤性等机械强度的实用性观点的方面并未进行任何探讨。 
再者，上述(3)表面具有微细结构的抗反射膜，因为表面具有能适当 防止反射的特殊微细结构，因而要求该材料具有特殊的物性，但是关于这种所要求的物性却几乎未知。 
专利文献1：日本专利特开昭50-070040号公报 
专利文献2：日本专利特开平9-193332号公报 
专利文献3：日本专利特开2003-162205号公报 
专利文献4：日本专利特开2003-215314号公报 
专利文献5：日本专利特开2003-240903号公报 
专利文献6：日本专利特开2004-004515号公报 
专利文献7：日本专利特开2004-059820号公报 
专利文献8：日本专利特开2004-059822号公报 
专利文献9：日本专利特开2005-010231号公报 
专利文献10：日本专利特开2005-092099号公报 
发明内容
对于液晶显示器(LCD)、等离子显示器(PDP)等平板显示器(以下简称为FPD)等，为确保辨认性而必须装设抗反射膜，该抗反射膜已知有如上述(1)或(2)所示的无机或有机多层膜以及上述(3)的利用表面微细结构所形成的抗反射膜等。 
然而，关于利用表面微细结构所形成的抗反射膜，其优选结构与抗反射功能虽属已知，但是对于形成该结构的材料的面来说，当其用于FPD的最外表面时，其耐损伤性等机械特性还不充分，并未达到实用化。因此，若能提供耐损伤性等机械特性优越的表面微细结构抗反射膜，将有助于FPD等的辨认性的提高。 
换言之，本发明的课题在于寻找到具有抗光反射性能、光透过改良性能等的结构体所要求的表面形状与物性，特别是提供出赋予了耐表面损伤性等机械强度的结构体；其课题还在于提供可形成具有所述特定表面形状与物性的结构体的组合物。本发明的课题进一步在于提供可良好地形成抗光反射性能与穿透改良性能更优越且具有较大高宽比的结构体的组合物。 
本发明人为解决上述问题进行了深入研究，结果发现，若利用特定的组合物进行聚合来形成具有特定表面形状与物性的结构体，则可解决上述问题，从而完成了本发明。此外，发明人还发现，具有特定组合的组成的(甲基)丙烯酸系聚合性组合物非常适合作为上述结构体形成用材料，从而完成了本发明。 
换言之，本发明所提供的结构体为表面具有平均高度为100nm～1000nm的凸部或平均深度为100nm～1000nm的凹部且该凸部或凹部按照相对于至少某一方向的平均周期为100nm～400nm的方式存在的结构体，该结构体的特征在于，其是利用光照射、电子射线照射和/或加热使(甲基)丙烯酸系聚合性组合物进行聚合而得到的结构体，该结构体在180℃以上的储存模量为0.5GPa以上。 
另外，本发明所提供的上述结构体中，上述(甲基)丙烯酸系聚合性组合物含有氨酯(甲基)丙烯酸酯及酯(甲基)丙烯酸酯。 
再者，本发明所提供的上述结构体中，上述(甲基)丙烯酸系聚合性组合物进一步含有环氧(甲基)丙烯酸酯。此外，本发明还提供利用含有改性硅油的(甲基)丙烯酸系聚合性组合物进行聚合而得到的上述结构体。 
再者，本发明还提供上述结构体的制造方法，该制造方法的特征在于，在表面具有平均高度为100nm～1000nm的凹部或平均深度为100nm～1000nm的凸部且该凹部或凸部按照相对于至少某一方向的平均周期为100nm～400nm的方式存在的模具中，供应(甲基)丙烯酸系聚合性组合物，从上方将基材斜向粘接至模具表面并从基材侧进行辊压接，将(甲基)丙烯酸系聚合性组合物固化后从模具上剥离。 
再者，本发明将提供用于形成上述结构体的(甲基)丙烯酸系聚合性组合物。 
根据本发明，能够提供抗光反射性能、光透过改良性能、耐表面损伤性能等均优越的结构体。此外，本发明还能提供可形成所述性能优越的具有特定结构与特定物性的结构体的组合物。进一步，本发明可提供即使结构体具有较大的高宽比也仍可良好地形成的组合物。具体而言，本发明可提供例如具有作为FPD等的表面层等的抗反射膜、穿透性改良 膜、表面保护膜等的优越光学特性与机械强度的结构体。 
附图说明
图1为本发明结构体的制造方法的一例的示意图。 
图2为用于说明本发明结构体的制造方法的连续制造装置的一例的示意图。 
图3为显示实施例1与实施例2中的结构体(1)、(3)、(6)及(14)的储存模量的温度依赖性的图。 
具体实施方式
[结构体表面的形状] 
本发明的结构体必须在其至少一个表面上具有平均高度为100nm～1000nm的凸部或平均深度为100nm～1000nm的凹部。此处所谓“凸部”是指较基准面突出的部分，而所谓“凹部”是指较基准面凹陷的部分。对于本发明的结构体来说，其表面可具有凸部，亦可具有凹部。此外，也可以兼具凸部与凹部这二者，并且也可以具有所述凸部与凹部连结而形成的波浪结构。 
凸部或凹部必须在结构体的至少一侧表面上设置，也可设置于结构体双面上。其中优选设置于与空气相接触的最外表面。这是由于空气与本发明的结构体在折射率方面具有很大的不同，而若利用本发明的特定结构，则折射率不同的物质的界面能够良好地发挥出抗反射性能与穿透改良性能。此外还由于，若在较易于受到机械外力的最外表面上存在本发明的结构，则可发挥后述的本发明结构体所必备的物性(特定储存模量)的效果，从而可改良该表面的耐损伤性等。 
凸部或凹部优选均匀存在于结构体的整体表面上，从而可达到上述效果。在凸部的情况下，从基准面凸出的平均高度必须在100nm～1000nm，在凹部的情况下，从基准面凹陷的平均深度也必须在100nm～1000nm。高度或深度并非为恒定值，只要其平均值在上述范围内即可，优选实质上具有恒定高度或恒定深度。 
不论是凸部的情况还是凹部的情况，其平均高度或平均深度优选均为150nm以上，更优选为200nm以上。此外，优选为600nm以下，更优选为500nm以下。若平均高度或平均深度过小，有可能不能表现出良好的光学特性，反之，若过大，则可能会出现难于制造的情况。当具有凸部与凹部连结形成的波浪结构时，出于同样的理由，优选最高部(凸部的上部)与最深部(凹部的下部)的平均长度在100nm～1000nm。 
在本发明结构体的表面上，必须将上述凸部或凹部按照至少某一方向的平均周期为100nm～400nm的方式进行配置。凸部或凹部可随意配置，亦可进行规则性配置。此外，不管何种情况，从抗反射性与穿透改良性的方面来看，优选上述凸部或凹部在结构体的整体表面实质上均匀地配置。另外，只要至少某一方向按照平均周期为100nm～400nm的状态进行配置即可，而不必所有方向的平均周期均为100nm～400nm。 
当对凸部或凹部进行规则性配置时，如上所述，只要至少某一方向按照平均周期为100nm～400nm进行配置即可，优选周期最短的方向(以下称“x轴方向”)上的周期配置成100nm～400nm的状态。换言之，当某一方向取周期最短的方向时，优选周期在上述范围内。特别是，此时若将与x轴方向相垂直的y轴方向亦配置成周期在100nm～400nm的状态，则是特别优选的。 
上述平均周期(在凸部或凹部的配置位置具有规则性的情况称为“周期”)优选为120nm以上，更优选为150nm以上。此外，优选为250nm以下，更优选为200nm以下。平均周期过短或过长均可能无法充分获得抗反射效果。 
对于本发明的结构体来说，其表面必须具有上述结构，但是从具有良好抗反射性能的方面考虑，更优选具有一般被称为“蛾眼结构(Moth-eye结构)”的结构。此外，同样地从良好抗反射性能的方面考虑，优选具有专利文献1至专利文献10中任一文献所记载的表面结构。 
高度或深度除以平均周期的值也即高宽比并无特别的限制，从光学特性的方面考虑，优选在1以上，特别优选在1.5以上，进一步优选在2以上。此外，从结构体制造工艺的方面考虑，优选在5以下，特别优选 在3以下。在本发明中，通过使(甲基)丙烯酸系聚合性组合物进行聚合，首先将可形成高宽比为1.5以上的结构体。因此，在本发明中，为了能发挥(甲基)丙烯酸系聚合性组合物的特征，高宽比越大越好，特别优选为1.5以上，进一步优选为2以上。 
本发明的结构体中，通过对表面赋予上述结构，可以减少光的反射率、或提高光的穿透性。该种情况下的“光”为至少包括可见光区域波长光的光。 
[结构体的储存模量] 
另外，对于本发明的结构体来说，其在180℃以上的储存模量必须为0.5GPa以上。一般来说，若将对(甲基)丙烯酸系聚合性组合物进行聚合而得到的物质从室温开始进行升温，则其储存模量将下降，当其达到某温度(约150℃～约180℃)以上时几乎呈一定的橡胶弹性。180℃以上的储存模量为该橡胶区域中的储存模量。另外，若在高温(例如200℃以上)时结构体进行热分解，则在这种情况下，该温度下的测定值也当然不能被用作“储存模量”。此外，多数情况下，储存模量在180℃以上时呈几乎一定值，而所谓“180℃以上”指的是“180℃以上的至少某一温度”。 
换言之，对于本发明的结构体来说，其在温度为180℃以上、且低于结构体实质上开始进行热分解的温度范围中的至少一个温度的储存模量必须达到0.5GPa以上。以下有时将“180℃以上的储存模量”简称为“储存模量”。 
储存模量为不依赖于测定物的形状和大小的物性，但在本发明中，是利用从结构体上切取约5mm×约20mm×约100μm的测试片进行测定的，或是利用另外聚合为该大小的测试片进行测定的。测定装置使用精工仪器公司制的动态粘弹性试验机DMS6100，将上述形状的测试片在20mm的方向夹置，并在-20℃～200℃范围内进行扫描，测定从180℃起至刚要分解前的温度(例如至200℃)之间的温度范围的储存模量。 
一般来说，对于该区域中的储存模量，测定的频率依赖性较小，但是在有频率依赖性的情况下，可依10Hz下所测得的储存模量进行确定。 
对于本发明的结构体来说，其储存模量必须为0.5GPa以上，优选为 0.6GPa以上，特别优选为0.7GPa以上。当储存模量过低时，使用温度(例如室温)下的机械强度会发生劣化，有可能导致结构体表面易于遭受磨损、表面易于遭受损伤等状况。 
180℃以上的储存模量与结构体的一般使用温度(例如室温25℃)下的机械强度之间具有相关性的作用原理仍未明确，但是据认为这是由于所述区域中的储存模量与支配着机械强度的交联密度间具有直接相关性。 
[结构体的结构、形成方法] 
另外，对于本发明的结构体来说，其必须是利用光照射、电子射线照射和/或加热使(甲基)丙烯酸系聚合性组合物进行聚合而得到的结构体。换言之，本发明的结构体中，(甲基)丙烯酸系聚合性组合物的(甲基)丙烯酸基的碳-碳双键必须利用光照射、电子射线照射和/或加热进行反应。本发明中，所谓“(甲基)丙烯酸”指的是“丙烯酸”或“甲基丙烯酸”，以下亦同。此外，所谓“利用光照射、电子射线照射和/或加热”是指可利用光照射、电子射线照射及加热组成的组中的任一种进行处理，亦可从中选择2种处理合并使用，亦可合并使用全部的3种处理。 
本发明的结构体中，(甲基)丙烯酸基的碳-碳双键必须要进行反应，其反应率并无特别的限制，优选在85％以上，特别优选在90％以上。此处所谓“反应率”是如下求得的：利用红外线分光法(IR)，具体而言，利用傅立叶转换红外分光光度计Spectrum One D(perkin Elmer公司制)全反射法(ATR法)对曝光前后的(甲基)丙烯酸系聚合性组合物进行测定，测得归属为酯键中的碳-氧键的1720cm-1的吸光度与归属为碳-碳键的811cm-1 的吸光度，由上述吸光度的比率求得上述的反应率。若反应率过低，则可能导致机械强度降低、耐化学性降低的情况。 
为使储存模量为0.5GPa以上，并且为了根据需要获得充分的反应率与固化性，需要对后述的作为用于形成本发明结构体的材料的(甲基)丙烯酸系聚合性组合物的组成(例如(甲基)丙烯酸酯化合物的种类、配合量；聚合引发剂的种类、量等)、聚合中所用的光、电子射线的照射条件(强度、曝光时间、波长、氧去除等)、聚合时的加热条件(温度、加热时间、氧去 除等)及结构体的形状(厚度等)等进行调整。 
对于本发明结构体来说，为了具有能够显现出低反射率与高穿透性的特殊表面结构，其物性亦要求特殊的物性。本发明的特征在于其发现了可以不易对上述特殊的表面微细结构造成机械性损伤且耐表面损伤性等机械强度优越的结构体物性。 
[结构体形成用材料] 
当采用下述材料来形成具有如上所述特定表面结构的本发明的结构体时，可适当地赋予其如上所述的特定物性。下面针对本发明结构体所用的材料进行详述。 
本发明的结构体必须含有对(甲基)丙烯酸系聚合性组合物进行聚合而成的聚合物。作为(甲基)丙烯酸系聚合性组合物，只要可形成上述结构且可获得上述物性，则对其并无特别的限制，优选含有氨酯(甲基)丙烯酸酯及酯(甲基)丙烯酸酯。所谓“氨酯(甲基)丙烯酸酯”是指分子中具有氨酯键的(甲基)丙烯酸酯化合物。此外，所谓“酯(甲基)丙烯酸酯”是指其分子中具有由酸基(包括酸酐与酰氯)与羟基进行反应所获得的酯键但不具有氨酯键也不具有硅氧烷键的(甲基)丙烯酸酯化合物。 
另外，本发明的(甲基)丙烯酸系聚合性组合物优选含有环氧(甲基)丙烯酸酯。所谓“环氧(甲基)丙烯酸酯”是指具有(甲基)丙烯酸与环氧基进行反应所获得的结构的(甲基)丙烯酸酯化合物。 
此外，本发明的结构体优选为利用含有改性硅油的组合物进行聚合而得到的结构体。所谓“改性硅油”是指分子中具有硅氧烷键且硅原子(Si)上亦键合有除甲基之外的有机基的化合物。“改性硅油”中包括硅(甲基)丙烯酸酯。因而，本发明中的(甲基)丙烯酸系聚合性组合物优选含有硅(甲基)丙烯酸酯。所谓“硅(甲基)丙烯酸酯”是指分子中具有硅氧烷键的(甲基)丙烯酸酯化合物。 
关于氨酯(甲基)丙烯酸酯 
本发明中所使用的氨酯(甲基)丙烯酸酯并无特别的限制，例如氨酯键的位置及个数、(甲基)丙烯酸基的位置及个数等均无特别的限制。 
作为本发明的结构体形成时所使用的氨酯(甲基)丙烯酸酯的优选化 学结构，可举出例如具有下述结构：(A)使分子中具有(优选多个)异氰酸酯基的化合物与分子中具有羟基和(优选多个)(甲基)丙烯酸基的化合物进行反应而获得的结构；(B)使具有多个羟基的化合物与二异氰酸酯化合物或三异氰酸酯化合物进行反应并进一步使所得化合物中的未反应异氰酸酯基与(甲基)丙烯酸羟基乙酯等的分子中具有羟基和(甲基)丙烯酸基的化合物发生反应而获得的结构。 
上述(甲基)丙烯酸酯化合物通过含有氨酯(甲基)丙烯酸酯而使所得结构体的固化性及反应率得到提高、储存模量增大，且柔软性亦优越。本发明中所谓“固化性”是指(甲基)丙烯酸系聚合性组合物变硬的容易度，由于该“固化性”受到由双键残存率所求得的“反应率”的大幅影响，甚至在“反应率”中未浮现的微小反应的进行亦将对该固化性造成影响，因而该固化性亦为涵盖上述等的概念。 
[1-1]关于4官能以上的氨酯(甲基)丙烯酸酯 
作为氨酯(甲基)丙烯酸酯，优选含有4官能以上的氨酯(甲基)丙烯酸酯。换言之，优选为分子中具有4个以上的(甲基)丙烯酸基的化合物。这种情况下，氨酯键的位置与个数、分子末端是否有(甲基)丙烯酸基等均无特别的限制。特别优选分子中具有6个以上的(甲基)丙烯酸基的化合物，进一步优选具有10个以上的(甲基)丙烯酸基的化合物。此外，分子中的(甲基)丙烯酸基个数的上限并无特别的限制，特别优选为15个以下。若氨酯(甲基)丙烯酸酯分子中的(甲基)丙烯酸基的个数过少，则所得到的结构体的固化性与反应率可能会降低，储存模量可能会变小。反之，若氨酯(甲基)丙烯酸酯分子中的(甲基)丙烯酸基的个数过多，则聚合所致的(甲基)丙烯酸基的碳间双键消耗率(即反应率)可能无法充分提升。 
4官能以上的氨酯(甲基)丙烯酸酯的结构并无特别的限制，优选为使分子中具有1个羟基和2个以上(甲基)丙烯酸基的化合物(b)的羟基与多元异氰酸酯化合物(a)的异氰酸酯基进行反应而得到的结构。 
此时作为多元异氰酸酯化合物(a)并无特别的限制，可以举出分子中具有2个以上异氰酸酯基的化合物。作为分子中具有2个异氰酸酯基的化合物可举出例如：1，5-萘二异氰酸酯、4，4′-二苯基甲烷二异氰酸酯、氢 化二苯基甲烷二异氰酸酯、1，3-苯二异氰酸酯、1，4-苯二异氰酸酯、甲苯二异氰酸酯、丁烷-1，4-二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、2，2，4-三甲基六亚甲基二异氰酸酯、2，4，4-三甲基六亚甲基二异氰酸酯、环己烷-1，4-二异氰酸酯、苯二亚甲基二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、赖氨酸二异氰酸酯、二环己基甲烷-4，4′-二异氰酸酯、1，3-双(异氰酸酯甲基)环己烷、甲基环己烷二异氰酸酯、间四甲代苯二亚甲基二异氰酸酯等。此外，作为分子中具有3个异氰酸酯基的化合物，可举出例如对异佛尔酮二异氰酸酯、甲苯二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、苯二亚甲基二异氰酸酯等进行改性而得到的三羟甲基丙烷加成的加合物、二缩脲体、异氰脲酸酯体等。其中，本发明中特别优选异佛尔酮二异氰酸酯、甲苯二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯等。 
作为分子中具有1个羟基与2个以上(甲基)丙烯酸基的化合物(b)并无特别的限制，可以举出使分子中具有3个以上(设定为p个)羟基的化合物(b-1)的羟基与(p-1)个(甲基)丙烯酸进行反应而得到的化合物；以及使(甲基)丙烯酸缩水甘油酯与(甲基)丙烯酸进行开环反应而得到的化合物等。 
其中，对于“分子中具有1个羟基与2个以上(甲基)丙烯酸基的化合物(b)”来说，当该化合物是由2种以上化合物通过进行部分性反应而制造时，其包括在分子中混合入具有2个以上羟基的化合物的情况以及混入具有1个(甲基)丙烯酸基的化合物的情况。 
化合物(b)中，“使分子中具有p个(p为3以上的整数)羟基的化合物(b-1)与(p-1)个(甲基)丙烯酸进行反应而得到的化合物”中，作为“分子中具有3个以上羟基的化合物(b-1)”并无特别的限制，可列举例如：甘油、三羟甲基乙烷、三羟甲基丙烷、季戊四醇、四羟甲基乙烷、二甘油、二(三羟甲基)乙烷、二(三羟甲基)丙烷、二季戊四醇、二(四羟甲基)乙烷；上述物质的环氧乙烷改性化合物；上述物质的环氧丙烷改性化合物；异氰脲酸的环氧乙烷改性化合物、环氧丙烷改性化合物、ε-己内酯改性化合物；及酯类低聚物等。 
从可增加所获得的氨酯(甲基)丙烯酸酯中的官能基数的方面考虑，化 合物(b-1)中的羟基数特别优选为4个以上，进一步优选为6个以上。具体地说，特别优选例如二甘油、二(三羟甲基)乙烷、二(三羟甲基)丙烷、二季戊四醇、二(四羟甲基)乙烷等。 
若以二甘油为例，则可通过使二甘油的4个羟基中的3个羟基与(甲基)丙烯酸产生反应来合成分子中具有1个羟基和2个以上(此时为3个)(甲基)丙烯酸基的化合物(b)。此外，若以多元异氰酸酯化合物(a)为异佛尔酮二异氰酸酯的情况为例，则可通过使异佛尔酮二异氰酸酯的2个异氰酸酯基与2个上述具有1个羟基及2个以上(甲基)丙烯酸基的化合物(b)进行反应来合成“4官能以上的氨酯(甲基)丙烯酸酯”。此时，若使分子中具有1个羟基与3个(甲基)丙烯酸基的化合物(b)与异佛尔酮二异氰酸酯进行反应，结果便可合成分子中具有6个(甲基)丙烯酸基的“4官能以上的氨酯(甲基)丙烯酸酯”。 
[1-2]关于3官能以下的氨酯(甲基)丙烯酸酯 
作为氨酯(甲基)丙烯酸酯，除上述4官能以上的氨酯(甲基)丙烯酸酯之外，还可含有3官能以下的氨酯(甲基)丙烯酸酯。该3官能以下的氨酯(甲基)丙烯酸酯的化学结构并无特别的限制，可使用公知的物质。 
3官能以下的氨酯(甲基)丙烯酸酯的重均分子量优选为1000～30000，特别优选为2000～10000。若分子量过小，则柔软性可能降低，反之，若分子量过大，则储存模量可能降低。 
[1-2-1]关于2官能氨酯(甲基)丙烯酸酯 
“3官能以下的氨酯(甲基)丙烯酸酯”优选含有在分子的两末端分别具有1个(甲基)丙烯酸基的2官能氨酯(甲基)丙烯酸酯。进一步，特别优选“3官能以下的氨酯(甲基)丙烯酸酯”全部为“分子的两末端分别具有1个(甲基)丙烯酸基的2官能氨酯(甲基)丙烯酸酯”。通过含有上述2官能氨酯(甲基)丙烯酸酯，可提高固化性、反应率，同时可提高结构体的柔软性。 
该2官能氨酯(甲基)丙烯酸酯的化学结构并无特别的限制，其重均分子量优选为1000～30000，特别优选为2000～5000。若分子量过小，则柔软性可能会降低，反之，若分子量过大，则储存模量可能会降低。 
该2官能氨酯(甲基)丙烯酸酯并无特别的限制，特别优选为以下所示。即，特别优选为如下获得的物质：使两末端为羟基、胺基等的聚合物或寡聚物(c)的两末端与二异氰酸酯化合物(d)进行反应，获得“两末端具有异氰酸酯基的聚合物或寡聚物”，进一步使该“两末端具有异氰酸酯基的聚合物或寡聚物”的两末端与分子中具有羟基和(甲基)丙烯酸基的化合物(e)进行反应，由此得到的2官能氨酯(甲基)丙烯酸酯为特别优选的物质。 
作为两末端为羟基的聚合物或寡聚物(c)并无特别的限制，可列举例如：酯寡聚物、酯聚合物、氨酯寡聚物、氨酯聚合物、聚乙二醇、聚丙二醇等。其中特别优选为酯寡聚物、酯聚合物。该寡聚物、聚合物的分子量并无特别的限制，从固化性的观点考虑，重均分子量优选为1000～5000，特别优选为2000～3000。 
作为上述酯的二醇成分并无特别的限制，可列举例如：乙二醇、丙二醇、1，4-丁二醇、1，6-己二醇、二乙二醇、三乙二醇、四乙二醇、2，2’-硫代二乙醇等。特别优选为1，4-丁二醇、1，6-己二醇等。 
作为上述酯的二羧酸成分并无特别的限制，可列举例如：草酸、琥珀酸、顺丁烯二酸、己二酸等亚烷基二羧酸；对苯二甲酸、酞酸等芳香族二羧酸等。特别优选己二酸、对苯二甲酸等。 
作为与该聚合物或寡聚物的两末端发生反应的二异氰酸酯化合物(d)并无特别的限制，可使用与上述多元异氰酸酯化合物(a)项中所记载的二异氰酸酯化合物相同的物质。特别优选可举出异佛尔酮二异氰酸酯等。 
此外，作为与上述得到的两末端具有异氰酸酯基的聚合物或寡聚物的两末端进行反应的“分子中具有羟基与(甲基)丙烯酸基的化合物(e)”并无特别的限制，可列举例如：(甲基)丙烯酸-2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-羟基丙酯、乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、丙二醇单(甲基)丙烯酸酯等。 
氨酯(甲基)丙烯酸酯中的[1-1]4官能以上的氨酯(甲基)丙烯酸酯与[1-2-2]2官能氨酯(甲基)丙烯酸酯的重量含有比率并无特别的限制，相对于100重量份的4官能以上的氨酯(甲基)丙烯酸酯，2官能氨酯(甲基)丙烯酸酯优选含有0～300重量份，特别优选含有1～200重量份，进一步 优选含有2～100重量份。若2官能氨酯(甲基)丙烯酸酯过多，则储存模量会降低，可能无法获得储存模量达0.5GPa以上的结构体，并且可能无法对上述具有特殊表面形状的本发明结构体赋予充分的耐表面损伤性等机械强度。 
2.关于酯(甲基)丙烯酸酯     
用于形成本发明结构体的(甲基)丙烯酸系聚合体除了含有氨酯(甲基)丙烯酸酯之外，优选还含有酯(甲基)丙烯酸酯。通过含有该酯(甲基)丙烯酸酯，结构体将变软，本发明中的具有特殊结构的表面机械强度会变得良好。此外，还可能会防止由于为了提升固化性等而使用的4官能以上氨酯(甲基)丙烯酸酯的作用所致的结构体的柔软性的恶化。若不含有该酯(甲基)丙烯酸酯而仅含有2官能氨酯(甲基)丙烯酸酯，则结构体可能过软，机械强度可能劣化。 
作为酯(甲基)丙烯酸酯并无特别的限制，优选可举出2官能以上的(甲基)丙烯酸酯化合物。 
作为2官能(甲基)丙烯酸酯，可列举例如：1，4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯等直链烷二醇二(甲基)丙烯酸酯； 
二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇#200二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇#300二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇#400二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇#600二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇#400二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇#700二(甲基)丙烯酸酯等亚烷基二醇二(甲基)丙烯酸酯； 
季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯单硬脂酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯单苯甲酸酯等醇为3元以上的部分(甲基)丙烯酸酯； 
双酚A二(甲基)丙烯酸酯、EO改性双酚A二(甲基)丙烯酸酯、PO改性双酚A二(甲基)丙烯酸酯、氢化双酚A二(甲基)丙烯酸酯、EO改性氢化双酚A二(甲基)丙烯酸酯、PO改性氢化双酚A二(甲基)丙烯酸酯、 双酚F二(甲基)丙烯酸酯、EO改性双酚F二(甲基)丙烯酸酯、PO改性双酚F二(甲基)丙烯酸酯、EO改性四溴双酚A二(甲基)丙烯酸酯等双酚系二(甲基)丙烯酸酯； 
新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇PO改性二(甲基)丙烯酸酯；羟基三甲基乙酸新戊二醇酯二(甲基)丙烯酸酯、羟基三甲基乙酸新戊二醇酯的己内酯加成物二(甲基)丙烯酸酯；1，6-己二醇双(2-羟基-3-丙烯酰氧基丙基)醚；二(甲基)丙烯酸三环癸烷二羟甲酯、异氰脲酸EO改性二(甲基)丙烯酸酯等的二(甲基)丙烯酸酯等。 
作为3官能(甲基)丙烯酸酯，可列举例如：甘油PO改性三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷EO改性三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷PO改性三(甲基)丙烯酸酯、异氰脲酸EO改性三(甲基)丙烯酸酯、异氰脲酸EO改性ε-己内酯改性三(甲基)丙烯酸酯、1，3，5-三丙烯酰基六氢-s-三嗪、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯三丙酸酯等。 
作为4官能以上的(甲基)丙烯酸酯，可列举例如：季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯单丙酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、四羟甲基乙烷四(甲基)丙烯酸酯、酯类低聚物四(甲基)丙烯酸酯等。 
这些物质可单独使用1种、或混合使用2种以上，为了提高固化性、反应率，优选至少含有2官能酯(甲基)丙烯酸酯。进一步地，特别优选合并使用2官能酯(甲基)丙烯酸酯与3官能以上的酯(甲基)丙烯酸酯，从而可取得固化性与储存模量间的平衡。 
[2-1]关于2官能酯(甲基)丙烯酸酯 
从提高固化性、提高机械强度等方面考虑，优选上述酯(甲基)丙烯酸酯含有2官能酯(甲基)丙烯酸酯，从进一步提高固化性的方面考虑，2官能(甲基)丙烯酸酯中，更优选含有具有亚烷基二醇链且分子两末端分别具有1个(甲基)丙烯酸基的2官能酯(甲基)丙烯酸酯。作为该物质，具体可举出例如上述的亚烷基二醇二(甲基)丙烯酸酯。特别优选可举出例如：三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基) 丙烯酸酯、四丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等亚烷基二醇寡聚物的二(甲基)丙烯酸酯化合物；聚乙二醇#200二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇#400二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇#600二(甲基)丙烯酸酯等亚烷基二醇聚合物的二(甲基)丙烯酸酯化合物等。 
[2-2]关于3官能以上的酯(甲基)丙烯酸酯 
进一步地，从提高储存模量的角度考虑，上述酯(甲基)丙烯酸酯特别优选含有3官能以上的酯(甲基)丙烯酸酯。具体可举出例如上述的3官能(甲基)丙烯酸酯或4官能以上的(甲基)丙烯酸酯。官能基数特别优选为4以上，进一步优选为5以上。官能基越多，固化性将越好。特别优选可举出二季戊四醇六丙烯酸酯等。 
酯(甲基)丙烯酸酯中，2官能酯(甲基)丙烯酸酯与3官能以上的酯(甲基)丙烯酸酯的质量含有比率并无特别的限制，相对于100重量份的2官能酯(甲基)丙烯酸酯，3官能以上的酯(甲基)丙烯酸酯优选含有0～100重量份，特别优选含有0～80重量份，进一步优选含有1～50重量份。若3官能以上的酯(甲基)丙烯酸酯过多，则所形成的固化膜等结构体有可能变脆。 
关于环氧(甲基)丙烯酸酯 
用于形成本发明结构体的(甲基)丙烯酸系聚合体除含有氨酯(甲基)丙烯酸酯及酯(甲基)丙烯酸酯之外，还优选含有环氧(甲基)丙烯酸酯。通过含有该环氧(甲基)丙烯酸酯，可使结构体趋于更强韧，可使本发明的具有特殊结构的表面呈现出更良好的耐损伤性等机械强度。 
作为上述“环氧(甲基)丙烯酸酯”并无特别的限制，具体可举出例如具有(甲基)丙烯酸与下述物质加成而得到的结构的环氧(甲基)丙烯酸酯，所述物质为：乙二醇二缩水甘油醚、二乙二醇二缩水甘油醚、三乙二醇二缩水甘油醚、丙二醇二缩水甘油醚、二丙二醇二缩水甘油醚、三丙二醇二缩水甘油醚等亚烷基二醇二缩水甘油醚类；甘油二缩水甘油醚等甘油缩水甘油醚类；双酚A二缩水甘油醚、氢化双酚A二缩水甘油醚、双酚A的PO改性二缩水甘油醚、双酚F二缩水甘油醚等双酚系化合物的二缩水甘油醚类等。此外还可举出具有(甲基)丙烯酸与经缩聚的环氧树脂加成而得到的结构的物质。进一步还可举出具有对于环氧树脂加成(甲基)丙烯酸而得到的结构的物质等，该环氧树脂具有使例如表氯醇等与苯酚酚醛、甲酚酚醛等缩聚物进行反应而得到的结构。
关于改性硅油 
用于形成本发明结构体的(甲基)丙烯酸系聚合物除含有氨酯(甲基)丙烯酸酯及酯(甲基)丙烯酸酯之外，优选进一步含有改性硅油。通过使(甲基)丙烯酸酯化合物含有改性硅油，可使所获得的结构体的储存模量增大，同时上述特殊表面形状可具有优越的耐损伤性等机械强度。另外，在本发明的结构体的形成中，由于包括将已固化的结构体从模具中剥离的步骤，因而此时赋形性便成为重要因素。然而，本发明中该改性硅油的使用与其说是对该赋形性具有改良效果，不如说是对耐表面损伤性的改良更具效果。 
对于本发明中所使用的改性硅油的化学结构来说，只要其为分子中具有硅氧烷键且硅原子(Si)上还键合有除了甲基以外的有机基的化合物即可，并无特别的限制，但从对结构体表面赋予耐损伤性的观点考虑，优选具有下面的式(S1)～(S4)的结构。式(S1)为侧链型改性硅油、式(S2)为两末端型改性硅油、式(S3)为单末端型改性硅油、式(S4)为侧链两末端型的改性硅油。 
Figure DEST_PATH_G200680032001820080425D000011
式(S1)～(S4)中，-R可以彼此不同，表示-Y-OAc或-Y-CF3(式中，Y表示碳原子数为1～50的亚烷基或聚醚基，Ac表示(甲基)丙烯酰基)，m表示1～250的整数，n表示2～25的整数。 
上述式中，Y表示碳原子数为1～50的亚烷基或聚醚基，且亚烷基的碳原子数特别优选为1～20，进一步优选为1～3。作为聚醚基，优选为聚乙二醇链或聚丙二醇链，特别优选以-(C2H4O)a-(a为1～20的整数)、-(C3H6O)b-(b为1～25的整数)或-(C2H4O)a-(C3H6O)b-(a为1～20的整数，b为1～25的整数)所示的基团。 
式(S1)至式(S4)的任一类型中，m均表示1～250的整数，优选m＝5～180，特别优选m＝10～130。此外，式(S1)至式(S4)的任一类型中，n均表示2～25的整数，优选n＝2～20，特别优选m＝2～15。(特别)优选经如下考虑后再决定m与n的值。 
改性硅油中，存在于末端或侧链的R部分与主链的二甲基硅氧烷结构部分的质量比率在侧链型与侧链末端型中大致根据n/(m+n)值来确定，而在末端型中则根据m值来确定，若该二甲基硅氧烷结构部分的质量比率变大，则虽然会出现耐污染性变好的倾向，但也可能出现与氨酯(甲基)丙烯酸酯或酯(甲基)丙烯酸酯间的相容性变差的情况。反之，若二甲基硅氧烷结构部分的质量比率变得过小，则所得到的结构体的耐损伤性会变差，在固化步骤中会易于挥发，因而会导致固化涂膜中的含量降低，可能无法充分发挥含有该成分的效果。 
其中，对于式(S1)或式(S4)所示的-R为-Y-CF3、Y是碳原子数为1～3的烷基的硅油，或式(S1)～式(S4)所示的m值为10≤m≤200的硅油，其不仅使上述耐损伤性等机械强度优越，而且耐污染性亦优越。从污染性的观点考虑，特别优选15≤m≤150、20≤m≤100。 
作为改性硅油的数均分子量，优选为400～20000，特别优选为1000～15000。当数均分子量过大时，与其它成分间的相容性可能会变差，反之，若数均分子量过小时，耐表面损伤性可能会变差。 
(甲基)丙烯酸系聚合性组合物的组成 
(甲基)丙烯酸酯系聚合性组合物中，氨酯(甲基)丙烯酸酯、酯(甲基) 丙烯酸酯、环氧(甲基)丙烯酸酯及改性硅油的含有比率并无特别的限制，其优选范围如下所示。 
相对于100重量份的氨酯(甲基)丙烯酸酯，酯(甲基)丙烯酸酯的含量优选为10重量份以上，特别优选为20重量份以上。此外，上限优选为400重量份以下，更优选为300重量份以下，特别优选为200重量份以下，最优选为100重量份以下。若酯(甲基)丙烯酸酯过多，则储存模量有可能变低，反之，若过少，则所形成的固化膜等结构体会变脆，可能发生固化收缩变大的情况。 
另外，相对于100重量份的氨酯(甲基)丙烯酸酯，环氧(甲基)丙烯酸酯的含量优选为0～50重量份，特别优选为0～20重量份，进一步优选为1～10重量份。 
此外，相对于100重量份的氨酯(甲基)丙烯酸酯，改性硅油的含量优选为0～10重量份，特别优选为0.02～5重量份，进一步优选为0.05～2重量份。若改性硅油过多，则其可能在结构体中分离而形成不透明结构体，反之，若过少，则耐表面损伤性可能会变差。 
另外，本发明结构体优选其整体为对如下所示组成的(甲基)丙烯酸系聚合性组合物进行聚合而成的。以下“％”表示“质量％”。 
氨酯(甲基)丙烯酸酯    20％～80％ 
酯(甲基)丙烯酸酯      10％～80％ 
环氧(甲基)丙烯酸酯    0％～30％ 
改性硅油              0％～8％ 
进一步地，特别优选为对如下所示组成的(甲基)丙烯酸系聚合性组合物进行聚合而成的结构体。 
氨酯(甲基)丙烯酸酯    30％～60％ 
酯(甲基)丙烯酸酯      15％～70％ 
环氧(甲基)丙烯酸酯    0％～12％ 
改性硅油              0.006％～3％ 
在本发明的(甲基)丙烯酸系聚合性化合物中，除了上述成分以外，还可以含有其它的(甲基)丙烯酸酯、聚合引发剂等。 
对于本发明的结构体来说，当利用光照射来形成时，对于作为其材料的(甲基)丙烯酸系聚合性化合物中是否存在光聚合引发剂并无特别的限制，但优选含有光聚合引发剂。作为光聚合引发剂并无特别的限制，可使用自由基聚合中所用的以往公知的物质，可举出例如：苯乙酮类、二苯甲酮类、烷基氨基二苯甲酮类、偶苯酰类、苯偶姻类、苯偶姻醚类、苄基二甲基缩醛类、苯甲酰基苯甲酸酯类、α-酰基肟酯类等芳基酮系光聚合引发剂；硫醚类、噻吨酮类等含硫系光聚合引发剂；酰基二芳基氧化膦等酰基氧化膦类；蒽醌类等。此外，亦可并用光增敏剂。 
相对于100重量份的(甲基)丙烯酸酯化合物，上述光聚合引发剂的配合量通常在0.2～10重量份、优选0.5～7重量份的范围内选择。 
当利用热聚合来形成本发明的结构体时，优选其含有热聚合引发剂。作为热聚合引发剂，可使用自由基聚合中所用的公知的物质，例如过氧化物、重氮化合物等。 
此外，本发明的(甲基)丙烯酸系聚合性组合物中，还可以进一步配合粘结剂聚合物、微粒、抗氧化剂、紫外线吸收剂、光稳定剂、消泡剂、脱模剂、润滑剂、均涂剂等。这些物质可从公知的物质中适当选择使用。 
本发明结构体的制造方法并无特别的限制，例如优选下述方法。即，将上述(甲基)丙烯酸系聚合性组合物收取至基材上，并使用刮条涂布机或上涂装置(applicator)等涂布机或间隔件(spacer)将其涂布成均匀膜厚的状态。此处所谓“基材”可适用聚对苯二甲酸乙二酯(以下简称“PET”)、三乙酰基纤维素等薄膜。然后将其贴合于具有上述表面结构的模具上。贴合完成后，对该薄膜面进行紫外线照射或电子射线照射和/或加热，使之固化。或者也可以优选采取以下的方法。即，可以在具有上述表面结构的模具上，直接收取(甲基)丙烯酸系聚合性组合物，并利用涂布机或间隔件等制成均匀膜厚的涂布膜。然后，将所获得的固化膜从该薄膜或模具上剥离，便制成本发明的结构体。 
此外，特别优选的结构体的制造方法如下所述。即，一种结构体的制造方法，其特征在于：在表面具有平均高度为100nm～1000nm的凹部或平均深度为100nm～1000nm的凸部且该凹部或凸部按照相对于至少某 一方向的平均周期为100nm～400nm的方式存在的模具中，供应(甲基)丙烯酸系聚合性组合物，从上方将基材斜向粘接至模具表面并从基材侧进行辊压接，将(甲基)丙烯酸系聚合性组合物固化后从模具上剥离。 
下面进一步使用图1对该制造方法进行更具体的说明，但本发明并不仅局限于图1所示的具体方式。即，在模具(2)中适量供应或涂布(甲基)丙烯酸系聚合性组合物(1)(图1(a))，再以辊部侧为支点将基材(3)从斜向进行贴合(图1(b))。将模具(2)、(甲基)丙烯酸系聚合性组合物(1)及基材(3)形成为一体的贴合体，将该贴合体移至辊(4)(图1(c))以进行辊压接，由此将模具(2)所具有的特定结构转印、赋型至(甲基)丙烯酸系聚合性组合物(1)上(图1(d))。对其进行固化后，从模具(2)上剥离固化物(图1(e))，由此获得本发明的目的结构体(5)。 
图2为连续式地制造结构体的装置的一例的示意图，但本发明并不仅局限于该示意图。即，使(甲基)丙烯酸系聚合性组合物(1)附着于模具(2)上，利用辊(4)施加力，使基材(3)对模具从倾斜方向进行贴合，将模具(2)所具有的特定结构转印于(甲基)丙烯酸系聚合性组合物(1)上。将其以固化装置(6)进行固化后，从模具(2)上剥离，由此获得本发明的目的结构体(5)。支撑辊(7)为用于将结构体(5)朝上方拉伸的构件。 
通过使用辊(4)从斜向进行贴合，可获得无气泡进入的无缺陷的结构体(5)。此外，若使用辊，则为施加线压的方式，因而压力可增大，由此可制造大面积的结构体，此外，压力的调节亦较为容易。另外可制造出具有与基材成为一体的均匀膜厚并具有规定光学物性的结构体，并且由于可进行连续式制造，因而生产性优越。 
本发明的结构体必须是利用光照射、电子射线照射和/或加热而进行聚合的结构体，但对于进行光照射的情况下的光的波长并无特别的限制。若使用含有可见光线和/或紫外线的光，则根据需要在光聚合引发剂的存在下可以良好地使(甲基)丙烯酸基的碳间双键进行聚合，从这点考虑优选使用含有可见光线和/或紫外线的光。特别优选为含有紫外线的光。作为光源并无特别的限制，可使用超高压水银灯、高压水银灯、卤素灯、各种激光等公知光源。当进行电子射线照射时，电子射线的强度与波长并 无特别的限制，可使用公知方法。 
当利用热进行聚合时，其温度并无特别的限制，优选为80℃以上，特别优选为100℃以上。此外，优选为200℃以下，特别优选为180℃以下。若聚合温度过低，将可能无法充分进行聚合，反之，若过高时，则聚合可能会不均匀、基材可能发生劣化。加热时间亦无特别的限制，优选为5秒以上，特别优选为10秒以上。并且优选为10分钟以下，特别优选为2分钟以下，进一步优选为30秒以下。 
当具有特定表面结构的本发明结构体具有特定储存模量时，进一步使特定的(甲基)丙烯酸酯系聚合性组合物进行聚合而形成的具有特定储存模量的结构体可具有优越的机械强度且其耐表面损伤性等机械强度优越，对于这一点的作用/原理仍尚未明确，但是据认为，若考虑高分子的力学物性，通过使1个1个凹凸的微细部分的力学物性为特定范围内的数值，即可使结构体表面具有能够承受外力的性能。 
[实施例] 
下面利用实施例对本发明进行更详细的说明，但只要不逾越本发明的主旨，本发明并不仅局限于所述实施例。 
[实施例1] 
<使不含有环氧(甲基)丙烯酸酯亦不含有改性硅油的(甲基)丙烯酸系聚合性组合物进行固化而获得的结构体> 
[结构体的制造] 
将表1所示的(甲基)丙烯酸酯化合物与光聚合引发剂以表1所示的量进行配合，获得(甲基)丙烯酸系聚合性组合物，将其适量收取至PET薄膜上，利用刮条涂布机NO28进行涂布使之成为均匀膜厚。然后，在表面上贴合具有以平均周期为205nm进行配置的平均高度为150nm的凸部的结构的模具。经确认模具整体已贴合至(甲基)丙烯酸系聚合性组合物上之后，利用Fusion制UV照射装置进行3.6J/cm2的紫外线照射而使其固化，制得结构体(1)～(6)。另外，表1中的数字表示重量份，(甲基)丙烯酸酯化合物的合计量为100重量份。 
[表1] 
Figure DEST_PATH_G200680032001820080425D000021
表1中，化合物(1)为下式(1)所示化合物： 
Figure DEST_PATH_G200680032001820080425D000022
式(1)中，X为二季戊四醇(具有6个羟基)残基。 
表1中，化合物(2)为下式所示化合物： 
2HEA--IPDI--(己二酸与1，6-己二醇的重均分子量为3500的末端羟基聚酯)--IPDI--2HEA。 
表1中，化合物(3)为下式所示化合物： 
2HEA--IPDI--(己二酸与1，4-丁二醇的重均分子量为25000的末端羟基聚酯)--IPDI--2HEA。 
此处“2HEA”表示“丙烯酸-2-羟基乙酯”，“IPDI”表示“异佛尔酮二异氰酸酯”，“--”表示异氰酸酯基与羟基依下述常规反应所形成的键。 
-NCO+HO-→-NHCOO- 
按照以下测定方法测定结构体(1)～(6)的物性。 
<反应率> 
利用红外线分光法(IR)进行曝光前后的吸光度测定，由(甲基)丙烯酸双键吸光比求出双键消耗率(即反应率)。其结果合并记于表1中。 
<储存模量> 
将上述得到的结构体(1)～(6)分别切取5mm×20mm，制成5mm×20mm×100μm测试片。测定使用精工仪器公司制的动态粘弹性试验机DMS6100，将上述测试片在20mm的方向夹置，并施加10Hz频率的    力，在-20℃～200℃的范围内进行测定，利用各个测试片求出赋予橡胶区域的温度范围。图3表示横轴为温度、纵轴为储存模量时结构体(1)、(3)、(6)的曲线图。在约150℃以上所出现的平坦部分为橡胶区域。所有的测试片几乎在180～200℃范围内出现橡胶区域，因此全部在190℃测定了储存模量。结果合并记于表1中。 
对于结构体(1)～(6)，按照以下评价方法进行评价。 
[反射率] 
使用岛津制作所制造的自记分光光度计“UV-3150”，并在背面贴附黑色胶带，从背面测定5°入射绝对反射率。结果如表2所示。 
[穿透率] 
使用Suga试验仪器公司制造的浊度计“HGM-2DP”，测定可见光线的平均穿透率。结果如表2所示。 
[耐表面损伤性评价] 
在上述结构体(1)～(6)的表面上使用新东科学(株)社制造的表面试验机TRIBOGEAR TYPE-14DR，在25mm圆柱的平滑截面均匀贴附铁质细丝绒(steel wool)#0000，一边施加400g的荷重一边以10cm/秒的速度往返10次后，观察此时的损伤状况。按以下基准进行判定。结果如表2所示。 
(判定基准) 
5：无刮痕 
4：出现数条刮痕 
3：25mm圆柱的一半出现刮痕 
2：在25mm圆柱的2/3出现刮痕 
1：在25mm圆柱的全部表面出现刮痕 
[表2] 
  结构体No.   (1)   (2)   (3)   (4)   (5)   (6)
  反射率   1.3％   1.4％   1.4％   1.5％   1.3％   1.3％
  穿透率   94.3％   94.1％   93.8％   94.2％   94.3％   93.9％
  耐表面损伤性   5   5   3   3   3   1
由表2的结果可知，具有该结构的结构体具有良好的抗反射性能与穿透改良性能，且储存模量达0.5GPa以上的结构体(1)与结构体(2)也具有优越的耐表面损伤性。另一方面，储存模量不足0.5GPa的结构体(3)至结构体(6)均呈现出较差的耐表面损伤性。 
[实施例2] 
<进一步使含有环氧(甲基)丙烯酸酯和/或改性硅油的(甲基)丙烯酸系聚合性组合物进行固化而获得的结构体> 
[结构体的制造] 
将表3所示的(甲基)丙烯酸酯化合物和/或改性硅油、以及光聚合引发剂1-羟基环己基苯基酮以表3所示的量进行配合，获得(甲基)丙烯酸系聚合性组合物。接着，将适量的该(甲基)丙烯酸系聚合性组合物收取至具有以平均周期为200nm(高宽比：2.0)进行配置的平均高度为400nm的凸部的结构的模具中，并以辊部侧为支点，将作为基材的PET薄膜从斜向进行贴合。将贴合后的贴合体利用辊(TAISEI LAMINATOR公司制)进行压接，经确认模具整体已均匀涂布组合物之后，利用Fusion制UV照射装置从基材侧以1.0J/cm2的紫外线照射进行固化。固化后从模具上剥离，由此制得结构体(11)～(24)。 
表3中，化合物(1)、(2)与实施例1中所述相同，所使用的改性硅油 的化学结构与制造商等如表4所示。另外，表3中的数字表示重量份，(甲基)丙烯酸系聚合性组合物的合计量为100重量份。表3中，含有量的空位栏是指“0”，即不含有。 
对于所获得的结构体(11)～(24)，按照与实施例1中的上述测定方法相同的方法进行储存模量、反射率及穿透率的测定。此外，关于耐表面损伤性，采用荷重不仅为上述的400g、而且还为200g的方法进行测定，并依同样的判定基准进行判定。结果汇总于表2。表3中，最上行的“(11)～(24)”表示结构体编号(No.)，即表示“结构体(11)～结构体(24)”。关于结构体(14)，于图3中合并表示其储存模量的温度依赖性。 
[耐污染性] 
在结构体表面上按压指纹，利用已吸水的面纸擦拭5次后，目视观察污损程度，并依照以下判定基准进行判定。结果如表3所示。 
(判定基准) 
5：无指纹污损 
4：几乎无指纹污损 
3：倾斜观看时可目视观察到指纹污损 
2：从正面可目视观察到指纹污损 
1：从正面可目视观察到明显的指纹污损 
[表3] 
Figure DEST_PATH_G200680032001820080425D000026
Figure DEST_PATH_G200680032001820080425D000023
 [表4] 
  品名   制造商名   类型   改性   式(S1)～(S4)中的-R
  Tego Rad 2200N   Degussa   侧链型   甲基丙烯酸聚醚   -(聚醚)-MAc
  X-22-164AS   信越有机硅   两末端型   甲基丙烯酸烷基酯   -R-OMAc
  X-22-164E   信越有机硅   两末端型   甲基丙烯酸烷基酯   -R-OMAc
  X-24-8201   信越有机硅   单末端型   甲基丙烯酸烷基酯   -C3H6-OMAc
  X-22-2426   信越有机硅   单末端型   甲基丙烯酸烷基酯   -CH3(CH2)3-OMAc
  X-22-2404   信越有机硅   单末端型   甲基丙烯酸烷基酯   下述结构
  FL100-100st   信越有机硅   侧链型   氟化烷基   -CH2CH2CF3
  FL100-450st   信越有机硅   侧链型   氟化烷基   -CH2CH2CF3
表4中，“MAc”表示甲基丙烯酰基，“X-22-2404”为具有以下结构的改性硅油。 
由表3可知，结构体(11)～(24)中，仅结构体(23)的储存模量为0.20的较小值，其耐表面损伤性差，但是其余结构体的储存模量则均为0.5GPa以上，耐表面损伤性优越。另外，结构体(17)、(18)、(19)、(21)、(22)的耐污染性亦优越。对于耐污染性来说，判定基准为“4”～“5”的情况是特别优选的，然而，即便是耐污染性为“1”的情况，只要对其用途进行限定，亦可毫无问题地适当使用。 
产业上的可利用性 
本发明结构体的抗光反射性能、光透过改良性能等性能均优越，因而可赋予良好的辨认性。此外，由于其具有优越的机械特性(耐表面损伤性能、表面耐磨损性)，因此可特别广泛地用于诸如液晶显示器(LCD)、等离子显示器(PDP)、有机EL(OEL)、CRT、场发射显示器(FED)等平板显示器(FPD)等的表面容易遭受机械外力的用途。一般而言，其亦可广泛用作抗反射膜、穿透性改良膜、表面保护膜等。 

Claims (10)

1.一种结构体，其为表面具有平均高度为100nm～1000nm的凸部或平均深度为100nm～1000nm的凹部且该凸部或凹部按照相对于至少某一方向的平均周期为100nm～400nm的方式存在的结构体，该结构体的特征在于，其是利用光照射、电子射线照射和/或加热使(甲基)丙烯酸系聚合性组合物进行聚合而得到的结构体，该结构体在180℃以上的储存模量为0.5GPa以上，所述(甲基)丙烯酸系聚合性组合物含有氨酯(甲基)丙烯酸酯及酯(甲基)丙烯酸酯，所述氨酯(甲基)丙烯酸酯含有4官能以上的氨酯(甲基)丙烯酸酯。
2.如权利要求1所述的结构体，其中，所述酯(甲基)丙烯酸酯含有具有亚烷基二醇链、且在分子两末端分别具有1个(甲基)丙烯酸基的2官能酯(甲基)丙烯酸酯。
3.如权利要求1所述的结构体，其中，所述4官能以上的氨酯(甲基)丙烯酸酯是通过使多元异氰酸酯化合物的实质上全部的异氰酸酯基与分子中具有1个羟基及2个以上的(甲基)丙烯酸基的化合物中的所述羟基进行反应而成的。
4.如权利要求1所述的结构体，其中，所述氨酯(甲基)丙烯酸酯进一步含有在分子两末端分别具有1个(甲基)丙烯酸基的2官能氨酯(甲基)丙烯酸酯。
5.如权利要求2所述的结构体，其中，所述酯(甲基)丙烯酸酯进一步含有3官能以上的酯(甲基)丙烯酸酯。
6.如权利要求1所述的结构体，其中，所述(甲基)丙烯酸系聚合性组合物进一步含有环氧(甲基)丙烯酸酯。
7.如权利要求1所述的结构体，其中，所述(甲基)丙烯酸系聚合性组合物进一步含有改性硅油。
8.如权利要求1～7任意一项所述的结构体，其中，所述结构体用于抗光反射和/或用于改良光透过。
9.权利要求1～8任意一项所述的结构体的制造方法，该制造方法的特征在于，在表面具有平均高度为100nm～1000nm的凹部或平均深度为100nm～1000nm的凸部且该凹部或凸部按照相对于至少某一方向的平均周期为100nm～400nm的方式存在的模具中，供应(甲基)丙烯酸系聚合性组合物，从上方将基材斜向粘接至模具表面并从基材侧进行辊压接，将(甲基)丙烯酸系聚合性组合物固化后从模具上剥离。
10.一种(甲基)丙烯酸系聚合性组合物，其用于形成权利要求1～8任意一项所述的结构体。
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