JPH1160656A - 注型重合用放射線硬化性樹脂組成物 - Google Patents
注型重合用放射線硬化性樹脂組成物Info
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- JPH1160656A JPH1160656A JP9230318A JP23031897A JPH1160656A JP H1160656 A JPH1160656 A JP H1160656A JP 9230318 A JP9230318 A JP 9230318A JP 23031897 A JP23031897 A JP 23031897A JP H1160656 A JPH1160656 A JP H1160656A
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- C08F222/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
- C08F222/10—Esters
- C08F222/1006—Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols
- C08F222/102—Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols of dialcohols, e.g. ethylene glycol di(meth)acrylate or 1,4-butanediol dimethacrylate
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- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
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- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31511—Of epoxy ether
Abstract
(57)【要約】
【課題】 透明性、耐光着色性に優れ、寸法精度が高
く、生産性に優れ、高い表面硬度を有し、且つ耐熱性に
優れた成形体を製造できる放射線硬化性樹脂組成物を提
供する。 【解決手段】 （Ａ） 一般式（１）： 【化１】 （式中、Ｒ1は水素原子又はメチル基であり、Ｒ2は炭素
数２〜６のアルキレン基又はヒドロキシアルキレン基で
あり、Ｒ3は２価の有機基であり、ｎは０〜６の整数、
ｍは１〜１０の整数であり、Lは０または１の整数であ
る。）で表される（メタ）アクリロイル基含有化合物、
（Ｂ） 一般式（２）： 【化２】 （式中、Ｒ4は水素原子またはメチル基であり、Ｒ5は炭
素数２〜６のアルキレン基であり、ｐは１〜１６の整数
である。）で表される（メタ）アクリロイル基含有化合
物、および（Ｃ）特定の分子吸光係数を有する放射線重
合開始剤を各々特定量含む注型重合用放射線硬化性樹脂
組成物。
く、生産性に優れ、高い表面硬度を有し、且つ耐熱性に
優れた成形体を製造できる放射線硬化性樹脂組成物を提
供する。 【解決手段】 （Ａ） 一般式（１）： 【化１】 （式中、Ｒ1は水素原子又はメチル基であり、Ｒ2は炭素
数２〜６のアルキレン基又はヒドロキシアルキレン基で
あり、Ｒ3は２価の有機基であり、ｎは０〜６の整数、
ｍは１〜１０の整数であり、Lは０または１の整数であ
る。）で表される（メタ）アクリロイル基含有化合物、
（Ｂ） 一般式（２）： 【化２】 （式中、Ｒ4は水素原子またはメチル基であり、Ｒ5は炭
素数２〜６のアルキレン基であり、ｐは１〜１６の整数
である。）で表される（メタ）アクリロイル基含有化合
物、および（Ｃ）特定の分子吸光係数を有する放射線重
合開始剤を各々特定量含む注型重合用放射線硬化性樹脂
組成物。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、放射線の照射によ
り速やかに硬化する放射線硬化性樹脂組成物に関し、更
に詳しくは、注型重合により成形されるレンズ、光デイ
スク、プリズム、レンズシート等の光学部品の製造に使
用される成形材料として適している他、液晶表示素子の
基板等の光学材料に用いられるプラスチックフィルム基
材の表面被覆材料としても好適な放射線硬化性樹脂組成
物に関する。
り速やかに硬化する放射線硬化性樹脂組成物に関し、更
に詳しくは、注型重合により成形されるレンズ、光デイ
スク、プリズム、レンズシート等の光学部品の製造に使
用される成形材料として適している他、液晶表示素子の
基板等の光学材料に用いられるプラスチックフィルム基
材の表面被覆材料としても好適な放射線硬化性樹脂組成
物に関する。
【０００２】
【従来の技術】紫外線硬化性樹脂に活性エネルギー線と
して水銀ランプ等の紫外線を照射することにより、プラ
スチックレンズ等を製造する方法が提案されている（特
開昭６１−１９４４０１号公報、特開昭６３−２０７６
３２号公報等）。これらの方法によれば、紫外線照射に
よる短時間硬化という利点はあるものの、一般に紫外線
硬化によって得られるレンズの透明性や色相は、ポリメ
チルメタクリレート、ポリカーボネート、ジエチレング
リコールビスアリルカーボネート等の重合体に比べて劣
っている。また、成形後の紫外線曝露等による着色性に
も問題を有する。さらには紫外線硬化性樹脂の注型成形
では、硬化の際の硬化歪みが成型体に残留し易く、この
ため離型後に成形体にそり変形やひけが生じ、寸法精度
が悪いものとなる。
して水銀ランプ等の紫外線を照射することにより、プラ
スチックレンズ等を製造する方法が提案されている（特
開昭６１−１９４４０１号公報、特開昭６３−２０７６
３２号公報等）。これらの方法によれば、紫外線照射に
よる短時間硬化という利点はあるものの、一般に紫外線
硬化によって得られるレンズの透明性や色相は、ポリメ
チルメタクリレート、ポリカーボネート、ジエチレング
リコールビスアリルカーボネート等の重合体に比べて劣
っている。また、成形後の紫外線曝露等による着色性に
も問題を有する。さらには紫外線硬化性樹脂の注型成形
では、硬化の際の硬化歪みが成型体に残留し易く、この
ため離型後に成形体にそり変形やひけが生じ、寸法精度
が悪いものとなる。
【０００３】また、特開平７−１７４９１０号公報には
液晶表示装置に使用されるバックライトユニットの正面
輝度を向上させる目的で用いられるプリズムシートが提
案されている。このプリズムシートは特定の屈折率の透
明材料で特定の形状に成形された成形体であるが、その
製造方法として、特定範囲の屈折率を有する透明ガラス
を用いた一体成型や、紫外線硬化性樹脂組成物でプリズ
ム形状を形成する方法が開示されている。さらに、特開
平６４ー６５１１１号公報には深部硬化性で且つ硬化物
の光学歪みが小さいことを特徴とした注型重合用活性光
線硬化性組成物が開示されている。
液晶表示装置に使用されるバックライトユニットの正面
輝度を向上させる目的で用いられるプリズムシートが提
案されている。このプリズムシートは特定の屈折率の透
明材料で特定の形状に成形された成形体であるが、その
製造方法として、特定範囲の屈折率を有する透明ガラス
を用いた一体成型や、紫外線硬化性樹脂組成物でプリズ
ム形状を形成する方法が開示されている。さらに、特開
平６４ー６５１１１号公報には深部硬化性で且つ硬化物
の光学歪みが小さいことを特徴とした注型重合用活性光
線硬化性組成物が開示されている。
【０００４】しかし、これらの紫外線硬化性樹脂に代表
されるプラスチック素材では、上記公報にも記載されて
いるとおり、耐熱性が必要とされる用途では、その使用
に限界がある。すなわち、従来の紫外線硬化性樹脂を用
いて得られるプリズムシートで代表されるようなレンズ
シートを高温環境下に置いた場合、レンズシートの一部
がバックライトの表面に融着又は浸食して付着痕を残
し、光学的性能に悪影響を及ぼすという致命的な欠点を
有している。
されるプラスチック素材では、上記公報にも記載されて
いるとおり、耐熱性が必要とされる用途では、その使用
に限界がある。すなわち、従来の紫外線硬化性樹脂を用
いて得られるプリズムシートで代表されるようなレンズ
シートを高温環境下に置いた場合、レンズシートの一部
がバックライトの表面に融着又は浸食して付着痕を残
し、光学的性能に悪影響を及ぼすという致命的な欠点を
有している。
【０００５】更に、特に注型重合等においては、樹脂組
成物がガラス等の型やプラスチックフィルム等の基材を
透過した放射線で重合されるので、波長の短い光線の大
部分は遮蔽物に吸収され、樹脂組成物は硬化に必要なエ
ネルギー（吸収エネルギー）が十分に得られず、硬化性
に劣り、生産性が低いばかりでなく、硬化物中に未反応
物が多く残留する結果、表面硬度が低下したり、耐熱性
が低下し、致命的な問題となる。
成物がガラス等の型やプラスチックフィルム等の基材を
透過した放射線で重合されるので、波長の短い光線の大
部分は遮蔽物に吸収され、樹脂組成物は硬化に必要なエ
ネルギー（吸収エネルギー）が十分に得られず、硬化性
に劣り、生産性が低いばかりでなく、硬化物中に未反応
物が多く残留する結果、表面硬度が低下したり、耐熱性
が低下し、致命的な問題となる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前述した従
来の欠点を改善するためになされたもので、その目的は
透明性に優れ、耐光着色性が少なく、寸法精度が高く、
硬化性に優れ、高い表面硬度を有し、しかも耐熱性に優
れ、従って高温環境下で隣接する基板等に対して張り付
き又は浸食のない成形体を高い生産性で製造できる放射
線硬化性樹脂組成物を提供することである。
来の欠点を改善するためになされたもので、その目的は
透明性に優れ、耐光着色性が少なく、寸法精度が高く、
硬化性に優れ、高い表面硬度を有し、しかも耐熱性に優
れ、従って高温環境下で隣接する基板等に対して張り付
き又は浸食のない成形体を高い生産性で製造できる放射
線硬化性樹脂組成物を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、かかる実
情に鑑み鋭意検討を重ねた結果、以下のような放射線硬
化性樹脂組成物を見い出し、本発明を完成するに至っ
た。すなわち、本発明は、（Ａ） 一般式（１）：
情に鑑み鋭意検討を重ねた結果、以下のような放射線硬
化性樹脂組成物を見い出し、本発明を完成するに至っ
た。すなわち、本発明は、（Ａ） 一般式（１）：
【０００８】
【化３】 （式中、Ｒ1は水素原子又はメチル基であり、Ｒ2は炭素
数２〜６のアルキレン基又はヒドロキシアルキレン基で
あり、Ｒ3は２価の有機基であり、ｎは０〜６の整数、
ｍは１〜１０の整数であり、Ｌは０または１の整数であ
る。）で表される（メタ）アクリロイル基含有化合物
〔以下、（Ａ）成分という〕を２０〜９４．９重量％、
（Ｂ） 一般式（２）：
数２〜６のアルキレン基又はヒドロキシアルキレン基で
あり、Ｒ3は２価の有機基であり、ｎは０〜６の整数、
ｍは１〜１０の整数であり、Ｌは０または１の整数であ
る。）で表される（メタ）アクリロイル基含有化合物
〔以下、（Ａ）成分という〕を２０〜９４．９重量％、
（Ｂ） 一般式（２）：
【０００９】
【化４】 （式中、Ｒ4は水素原子またはメチル基であり、Ｒ5は炭
素数２〜６のアルキレン基であり、ｐは１〜１６の整数
である。）で表される（メタ）アクリロイル基含有化合
物〔以下、（Ｂ）成分という〕を５〜７９．９重量％、
および（Ｃ） 分子吸光係数が３６０ｎｍにおいて１０
０Ｌ・ｍｏｌ-1・ｃｍ-1以上、且つ４５０ｎｍにおいて
１００Ｌ・ｍｏｌ-1・ｃｍ-1以下である放射線重合開始
剤〔以下、（Ｃ）成分という〕０．１〜１０重量％、を
含有して成る注型重合用放射線硬化性樹脂組成物であ
る。
素数２〜６のアルキレン基であり、ｐは１〜１６の整数
である。）で表される（メタ）アクリロイル基含有化合
物〔以下、（Ｂ）成分という〕を５〜７９．９重量％、
および（Ｃ） 分子吸光係数が３６０ｎｍにおいて１０
０Ｌ・ｍｏｌ-1・ｃｍ-1以上、且つ４５０ｎｍにおいて
１００Ｌ・ｍｏｌ-1・ｃｍ-1以下である放射線重合開始
剤〔以下、（Ｃ）成分という〕０．１〜１０重量％、を
含有して成る注型重合用放射線硬化性樹脂組成物であ
る。
【００１０】
【発明の実施の形態】次に本発明組成物の実施の形態に
ついて詳述する。本発明の（Ａ）成分として用いられる
（メタ）アクリロイル基含有化合物において、上記式
（１）におけるＲ2で表される炭素数２〜６のアルキレ
ン基又はヒドロキシアルキレン基としては、例えば、下
記式（３−１）〜（３−１１）：
ついて詳述する。本発明の（Ａ）成分として用いられる
（メタ）アクリロイル基含有化合物において、上記式
（１）におけるＲ2で表される炭素数２〜６のアルキレ
ン基又はヒドロキシアルキレン基としては、例えば、下
記式（３−１）〜（３−１１）：
【００１１】
【化５】
【００１２】で示される２価の有機基を挙げることがで
きる。中でも式（３−１）、（３−３）、（３−１１）
で示される有機基が好ましい。なお、前記一般式（１）
においてＬが１であるとき、Ｒ3で表される有機基とし
ては、好ましくは下記式（４−１）〜（４−７）で示さ
れる有機基等を挙げることができる。
きる。中でも式（３−１）、（３−３）、（３−１１）
で示される有機基が好ましい。なお、前記一般式（１）
においてＬが１であるとき、Ｒ3で表される有機基とし
ては、好ましくは下記式（４−１）〜（４−７）で示さ
れる有機基等を挙げることができる。
【００１３】
【化６】
【００１４】中でも式（４−１）で示される有機基が特
に好ましい。また一般式（１）の構造式中で任意の芳香
環の水素が臭素や塩素に置換された化合物でもよい。一
般式（１）で表される化合物の具体例としては、例えば
エチレンオキシド付加ビスフェノールＡ（メタ）アクリ
ル酸エステル、プロピレンオキシド付加ビスフェノール
Ａ（メタ）アクリル酸エステル、ビスフェノールＡジグ
リシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開
環反応で得られるビスフェノールＡジグリシジルエーテ
ルエポキシアクリレート、ビスフェノールＦジグリシジ
ルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応
で得られるビスフェノールＦジグリシジルエーテルエポ
キシアクリレート等が挙げられる。
に好ましい。また一般式（１）の構造式中で任意の芳香
環の水素が臭素や塩素に置換された化合物でもよい。一
般式（１）で表される化合物の具体例としては、例えば
エチレンオキシド付加ビスフェノールＡ（メタ）アクリ
ル酸エステル、プロピレンオキシド付加ビスフェノール
Ａ（メタ）アクリル酸エステル、ビスフェノールＡジグ
リシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開
環反応で得られるビスフェノールＡジグリシジルエーテ
ルエポキシアクリレート、ビスフェノールＦジグリシジ
ルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応
で得られるビスフェノールＦジグリシジルエーテルエポ
キシアクリレート等が挙げられる。
【００１５】これらの市販品としては、例えばビスコー
ト７００、５４０（以上、大阪有機化学工業（株）
製）、アロニックスＭ−２１０（東亞合成（株）製）、
ＮＫエステルＢＰＥ−１００、ＢＰＥ−２００、ＢＰＥ
−５００、Ａ−ＢＰＥ−４（以上、新中村化学（株）
製）、ライトエステルＢＰ−４ＥＡ、ＢＰ−４ＰＡ、Ｂ
Ｐ−２ＰＡ、ＢＰ−２ＥＡ、エポキシエステル３００２
Ｍ、３００２Ａ、３０００Ｍ、３０００Ａ（以上、共栄
社化学（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ−５５１、Ｒ−
７１２（以上、日本化薬（株）製）、ＢＰＥ−４、ＢＰ
Ｅ−１０、ＢＲ−４２Ｍ（以上、第一工業製薬（株）
製）、リポキシＶＲ−７７、ＶＲ−６０、ＶＲ−９０、
ＳＰ−１５０６、ＳＰ−１５０７、ＳＰ−１５０９、Ｓ
Ｐ−１５６３（以上、昭和高分子（株）製）等が挙げら
れる。
ト７００、５４０（以上、大阪有機化学工業（株）
製）、アロニックスＭ−２１０（東亞合成（株）製）、
ＮＫエステルＢＰＥ−１００、ＢＰＥ−２００、ＢＰＥ
−５００、Ａ−ＢＰＥ−４（以上、新中村化学（株）
製）、ライトエステルＢＰ−４ＥＡ、ＢＰ−４ＰＡ、Ｂ
Ｐ−２ＰＡ、ＢＰ−２ＥＡ、エポキシエステル３００２
Ｍ、３００２Ａ、３０００Ｍ、３０００Ａ（以上、共栄
社化学（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ−５５１、Ｒ−
７１２（以上、日本化薬（株）製）、ＢＰＥ−４、ＢＰ
Ｅ−１０、ＢＲ−４２Ｍ（以上、第一工業製薬（株）
製）、リポキシＶＲ−７７、ＶＲ−６０、ＶＲ−９０、
ＳＰ−１５０６、ＳＰ−１５０７、ＳＰ−１５０９、Ｓ
Ｐ−１５６３（以上、昭和高分子（株）製）等が挙げら
れる。
【００１６】組成物中に占める（Ａ）成分の割合は通
常、２０〜９４．９重量％であり、好ましくは３０〜７
０重量％である。（Ａ）成分の割合が上記範囲内である
ことにより、硬化物が適度な屈折率を有するとともに、
優れた表面硬度を示す。この割合が２０重量％未満で
は、屈折率が低く、表面硬度が劣る硬化物となり、一
方、９４．９重量％を超えると、硬化時の収縮が大き
く、寸法精度の劣った硬化物となる。
常、２０〜９４．９重量％であり、好ましくは３０〜７
０重量％である。（Ａ）成分の割合が上記範囲内である
ことにより、硬化物が適度な屈折率を有するとともに、
優れた表面硬度を示す。この割合が２０重量％未満で
は、屈折率が低く、表面硬度が劣る硬化物となり、一
方、９４．９重量％を超えると、硬化時の収縮が大き
く、寸法精度の劣った硬化物となる。
【００１７】本発明の（Ｂ）成分として用いられる（メ
タ）アクリロイル基含有化合物において、前記一般式
（２）におけるＲ5で表される炭素数２〜６のアルキレ
ン基としては、例えば、下記式（５−１）〜（５−１
０）：
タ）アクリロイル基含有化合物において、前記一般式
（２）におけるＲ5で表される炭素数２〜６のアルキレ
ン基としては、例えば、下記式（５−１）〜（５−１
０）：
【００１８】
【化７】
【００１９】で示される２価の有機基を挙げることがで
きる。中でも式（５−１）、（５−３）、（５−１０）
で示される有機基が好ましい。
きる。中でも式（５−１）、（５−３）、（５−１０）
で示される有機基が好ましい。
【００２０】上記式（２）で表される化合物の具体例と
しては、例えばエチレングリコールジアクリレート、ジ
エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリ
コールジアクリレート、テトラエチレングリコールジア
クリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチ
ルグリコールジアクリレート、１，３ブチレングリコー
ルジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレ
ート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ポリ
プロピレングリコールジアクリレート、ポリテトラメチ
レングリコールジアクリレート等を挙げることができ
る。これらのうち、特にテトラエチレングリコールジア
クリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート
が好ましい。
しては、例えばエチレングリコールジアクリレート、ジ
エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリ
コールジアクリレート、テトラエチレングリコールジア
クリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチ
ルグリコールジアクリレート、１，３ブチレングリコー
ルジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレ
ート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ポリ
プロピレングリコールジアクリレート、ポリテトラメチ
レングリコールジアクリレート等を挙げることができ
る。これらのうち、特にテトラエチレングリコールジア
クリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート
が好ましい。
【００２１】これらの市販品としては、例えばビスコー
ト１９５、２３０、２６０、２１５、３３５、３１０
（以上、大阪有機化学工業（株）製）、アロニックスＭ
−２２０、Ｍ−２４０、Ｍ−２４５（以上、東亞合成
（株）製）、ＮＫエステル Ａ−２００、Ａ−４００、
Ａ−６００、Ａ−ＨＤ、Ａ−ＮＰＧ、ＡＰＧ−２００、
ＡＰＧ−４００、ＡＰＧ−７００（以上、新中村化学工
業（株））ライトエステル３ＥＧ−Ａ、４ＥＧ−Ａ、９
ＥＧ−Ａ、１４ＥＧ−Ａ、ＮＰ−Ａ、１・６ＨＸ−Ａ
（以上、共栄社化学（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＨＤ
ＤＡ、ＮＰＧＤＡ、ＴＰＧＤＡ、ＰＥＧ４００ＤＡ、Ｓ
Ｒ−２６８、ＳＲ−２０００Ａ、ＳＲ−２０５（以上、
日本化薬（株）製）、ＰＥ−２００、ＰＥ−３００、Ｐ
Ｅ−４００、ＰＥ−６００、ＥＰ−２２、ＨＤＤＡ、
（以上、第一工業製薬（株）製）等が挙げられる。
ト１９５、２３０、２６０、２１５、３３５、３１０
（以上、大阪有機化学工業（株）製）、アロニックスＭ
−２２０、Ｍ−２４０、Ｍ−２４５（以上、東亞合成
（株）製）、ＮＫエステル Ａ−２００、Ａ−４００、
Ａ−６００、Ａ−ＨＤ、Ａ−ＮＰＧ、ＡＰＧ−２００、
ＡＰＧ−４００、ＡＰＧ−７００（以上、新中村化学工
業（株））ライトエステル３ＥＧ−Ａ、４ＥＧ−Ａ、９
ＥＧ−Ａ、１４ＥＧ−Ａ、ＮＰ−Ａ、１・６ＨＸ−Ａ
（以上、共栄社化学（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＨＤ
ＤＡ、ＮＰＧＤＡ、ＴＰＧＤＡ、ＰＥＧ４００ＤＡ、Ｓ
Ｒ−２６８、ＳＲ−２０００Ａ、ＳＲ−２０５（以上、
日本化薬（株）製）、ＰＥ−２００、ＰＥ−３００、Ｐ
Ｅ−４００、ＰＥ−６００、ＥＰ−２２、ＨＤＤＡ、
（以上、第一工業製薬（株）製）等が挙げられる。
【００２２】組成物中に占める（Ｂ）成分の割合は通
常、５〜７９．９重量％であり、好ましくは１０〜４０
重量％である。（Ｂ）成分の割合が上記範囲内であるこ
とにより、硬化物が適度な硬度を有するとともに、寸法
精度、長期耐久性や耐熱性に優れた硬化物となる。この
割合が５重量％未満では、硬度が低くなって、基板に対
する張り付きが生じ、一方７９．９重量％を超えると、
硬化時の収縮が大きく、寸法精度が劣った硬化物とな
る。
常、５〜７９．９重量％であり、好ましくは１０〜４０
重量％である。（Ｂ）成分の割合が上記範囲内であるこ
とにより、硬化物が適度な硬度を有するとともに、寸法
精度、長期耐久性や耐熱性に優れた硬化物となる。この
割合が５重量％未満では、硬度が低くなって、基板に対
する張り付きが生じ、一方７９．９重量％を超えると、
硬化時の収縮が大きく、寸法精度が劣った硬化物とな
る。
【００２３】本発明では（Ａ）成分および（Ｂ）成分以
外の共重合可能なモノマー（以下、（Ｘ）成分という）
を使用することが可能である。この共重合可能なモノマ
ーは単官能性モノマーであっても多官能性モノマーであ
ってもよく、単官能性モノマーとしては、例えばＮ−ビ
ニルカプロラクタム、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニ
ルカルバゾール、ビニルピリジン等のビニル基含有モノ
マー；アクリルアミド、イソブトキシメチル（メタ）ア
クリルアミド、ｔ−オクチル（メタ）アクリルアミド、
ジアセトン（メタ）アクリルアミド、 Ｎ，Ｎ−ジメチ
ル（メタ）アクリルアミド等のアミド類；７−アミノ−
３，７−ジメチルオクチル（メタ）アクリレート、イソ
ボルニルオキシエチル（メタ）アクリレート、イソボル
ニル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メ
タ）アクリレート、エチルジエチレングリコール（メ
タ）アクリレート、 ジメチルアミノエチル（メタ）ア
クリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレー
ト、ラウリル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタジ
エン（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシ
エチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メ
タ）アクリレート、２−テトラクロロフェノキシエチル
（メタ）アクリレート、テトラクロロフェニル（メタ）
アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリ
レート、テトラブロモフェニル（メタ）アクリレート、
２−テトラブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレー
ト、２−トリクロロフェノキシエチル（メタ）アクリレ
ート、トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、２−
トリブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２
−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロ
キシプロピル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル
（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリ
レート、ペンタクロロフェニル（メタ）アクリレート、
ペンタブロモフェニル（メタ）アクリレート、ポリエチ
レングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピ
レングリコールモノ（メタ）アクリレート、ボルニル
（メタ）アクリレート、メチルトリエチレンジグリコー
ル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート類；
アクリロイルモルフォリン、下記式（６）〜（８）で表
される化合物等の（メタ）アクリロイル基含有モノマー
類を挙げることができる。
外の共重合可能なモノマー（以下、（Ｘ）成分という）
を使用することが可能である。この共重合可能なモノマ
ーは単官能性モノマーであっても多官能性モノマーであ
ってもよく、単官能性モノマーとしては、例えばＮ−ビ
ニルカプロラクタム、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニ
ルカルバゾール、ビニルピリジン等のビニル基含有モノ
マー；アクリルアミド、イソブトキシメチル（メタ）ア
クリルアミド、ｔ−オクチル（メタ）アクリルアミド、
ジアセトン（メタ）アクリルアミド、 Ｎ，Ｎ−ジメチ
ル（メタ）アクリルアミド等のアミド類；７−アミノ−
３，７−ジメチルオクチル（メタ）アクリレート、イソ
ボルニルオキシエチル（メタ）アクリレート、イソボル
ニル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メ
タ）アクリレート、エチルジエチレングリコール（メ
タ）アクリレート、 ジメチルアミノエチル（メタ）ア
クリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレー
ト、ラウリル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタジ
エン（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシ
エチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メ
タ）アクリレート、２−テトラクロロフェノキシエチル
（メタ）アクリレート、テトラクロロフェニル（メタ）
アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリ
レート、テトラブロモフェニル（メタ）アクリレート、
２−テトラブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレー
ト、２−トリクロロフェノキシエチル（メタ）アクリレ
ート、トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、２−
トリブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２
−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロ
キシプロピル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル
（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリ
レート、ペンタクロロフェニル（メタ）アクリレート、
ペンタブロモフェニル（メタ）アクリレート、ポリエチ
レングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピ
レングリコールモノ（メタ）アクリレート、ボルニル
（メタ）アクリレート、メチルトリエチレンジグリコー
ル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート類；
アクリロイルモルフォリン、下記式（６）〜（８）で表
される化合物等の（メタ）アクリロイル基含有モノマー
類を挙げることができる。
【００２４】
【化８】
【００２５】（式中、Ｒ6は水素原子またはメチル基を
示し、Ｒ7は炭素数２〜６、好ましくは２〜４のアルキ
レン基を示し、Ｒ8は水素原子または炭素数１〜１２、
好ましくは１〜９のアルキル基を示し、Ｒ9は炭素数２
〜８、好ましくは２〜５のアルキレン基を示し、Ｒ10は
水素原子またはメチル基を示し、ｑは０〜１２、好まし
くは１〜８の整数を示し、ｒは１〜８、好ましくは１〜
４の整数を示し、ｓは１〜８、好ましくは１〜４の整数
を示す。）
示し、Ｒ7は炭素数２〜６、好ましくは２〜４のアルキ
レン基を示し、Ｒ8は水素原子または炭素数１〜１２、
好ましくは１〜９のアルキル基を示し、Ｒ9は炭素数２
〜８、好ましくは２〜５のアルキレン基を示し、Ｒ10は
水素原子またはメチル基を示し、ｑは０〜１２、好まし
くは１〜８の整数を示し、ｒは１〜８、好ましくは１〜
４の整数を示し、ｓは１〜８、好ましくは１〜４の整数
を示す。）
【００２６】これらのうち、Ｎ−ビニルカプロラクタ
ム、Ｎ−ビニルピロリドン、アクリロイルモルフォリ
ン、Ｎ−ビニルカルバゾール、イソボルニル（メタ）ア
クリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート等
が好ましく、特にＮ−ビニルカプロラクタム、Ｎ−ビニ
ルピロリドン、アクリロイルモルフォリンおよびフェノ
キシエチル（メタ）アクリレートが好ましく用いられ
る。
ム、Ｎ−ビニルピロリドン、アクリロイルモルフォリ
ン、Ｎ−ビニルカルバゾール、イソボルニル（メタ）ア
クリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート等
が好ましく、特にＮ−ビニルカプロラクタム、Ｎ−ビニ
ルピロリドン、アクリロイルモルフォリンおよびフェノ
キシエチル（メタ）アクリレートが好ましく用いられ
る。
【００２７】（Ｘ）成分として使用される単官能性モノ
マーの市販品としては、例えばアロニックスＭ−１１
１、Ｍ−１１３、Ｍ−１１７（以上、東亞合成（株）
製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＴＣ１１０Ｓ、Ｒ−６２９、Ｒ
−６４４（以上、日本化薬（株）製）、ビスコート３７
００（大阪有機化学工業（株）製）などを挙げることが
できる。
マーの市販品としては、例えばアロニックスＭ−１１
１、Ｍ−１１３、Ｍ−１１７（以上、東亞合成（株）
製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＴＣ１１０Ｓ、Ｒ−６２９、Ｒ
−６４４（以上、日本化薬（株）製）、ビスコート３７
００（大阪有機化学工業（株）製）などを挙げることが
できる。
【００２８】また、多官能性モノマーとしては、例えば
ジシクロペンテニルジ（メタ）アクリレート、トリシク
ロデカンジイルジメチレンジ（メタ）アクリレート、ト
リメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリ
メチロールプロパントリオキシエチル（メタ）アクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレー
ト、ポリエステルジ（メタ）アクリレート等の、複数の
（メタ）アクリロイル基を含有するモノマーを挙げるこ
とができる。これらのうち、トリシクロデカンジイルジ
メチレンジ（メタ）アクリレートが好ましい。
ジシクロペンテニルジ（メタ）アクリレート、トリシク
ロデカンジイルジメチレンジ（メタ）アクリレート、ト
リメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリ
メチロールプロパントリオキシエチル（メタ）アクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレー
ト、ポリエステルジ（メタ）アクリレート等の、複数の
（メタ）アクリロイル基を含有するモノマーを挙げるこ
とができる。これらのうち、トリシクロデカンジイルジ
メチレンジ（メタ）アクリレートが好ましい。
【００２９】なお、（Ｘ）成分として使用される多官能
性モノマーの市販品としては、例えばユピマーＵＶ、Ｓ
Ａ１００２（以上、三菱化学（株）製）、ＫＡＹＡＲＡ
ＤＲ−６０４、ＤＰＣＡ−６０、ＤＰＣＡ−３０、ＤＰ
ＣＡ−１２０、ＨＸ−６２０、Ｄ−３１０、Ｄ−３３０
（以上、日本化薬（株）製）、アロニックスＭ−２１５
（以上、東亞合成（株）製）などを使用することができ
る。
性モノマーの市販品としては、例えばユピマーＵＶ、Ｓ
Ａ１００２（以上、三菱化学（株）製）、ＫＡＹＡＲＡ
ＤＲ−６０４、ＤＰＣＡ−６０、ＤＰＣＡ−３０、ＤＰ
ＣＡ−１２０、ＨＸ−６２０、Ｄ−３１０、Ｄ−３３０
（以上、日本化薬（株）製）、アロニックスＭ−２１５
（以上、東亞合成（株）製）などを使用することができ
る。
【００３０】（Ｘ）成分の共重合性モノマーは、１種単
独で、または２種以上組み合わせて用いることができ
る。組成物中に占める（Ｘ）成分の割合は０〜６０重量
％、好ましくは０〜４０重量％である。
独で、または２種以上組み合わせて用いることができ
る。組成物中に占める（Ｘ）成分の割合は０〜６０重量
％、好ましくは０〜４０重量％である。
【００３１】次に、本発明の（Ｃ）成分として用いられ
る放射線重合開始剤は分子吸光係数が３６０ｎｍにおい
て１００Ｌ・ｍｏｌ-1・ｃｍ-1以上、且つ４５０ｎｍに
おいて１００Ｌ・ｍｏｌ-1・ｃｍ-1以下であることを特
徴とする。
る放射線重合開始剤は分子吸光係数が３６０ｎｍにおい
て１００Ｌ・ｍｏｌ-1・ｃｍ-1以上、且つ４５０ｎｍに
おいて１００Ｌ・ｍｏｌ-1・ｃｍ-1以下であることを特
徴とする。
【００３２】ここで上記分子吸光係数は、２５℃におけ
る目的の化合物の０．５〜３ｍｍｏｌ／Ｌのメタノール
溶液の吸光度を吸光光度計により測定し、下記式より算
出されるものと定義する。 ［分子吸光係数（Ｌ ・ｍｏｌ-1・ｃｍ-1）］＝ [吸光
度］／｛［溶液濃度（ｍｏｌ・Ｌ-1）］×［光路長（ｃ
ｍ）］｝
る目的の化合物の０．５〜３ｍｍｏｌ／Ｌのメタノール
溶液の吸光度を吸光光度計により測定し、下記式より算
出されるものと定義する。 ［分子吸光係数（Ｌ ・ｍｏｌ-1・ｃｍ-1）］＝ [吸光
度］／｛［溶液濃度（ｍｏｌ・Ｌ-1）］×［光路長（ｃ
ｍ）］｝
【００３３】（Ｃ）成分は注型重合における型や基材の
吸収領域から外れた３６０ｎｍにおいても分子吸光係数
が１００Ｌ・ｍｏｌ-1・ｃｍ-1以上と大きく、樹脂組成
物は重合に十分なエネルギーを吸収することが可能であ
り、得られる硬化物中の未反応物を低減できるので、耐
熱性に優れた成形体を得ることができる。
吸収領域から外れた３６０ｎｍにおいても分子吸光係数
が１００Ｌ・ｍｏｌ-1・ｃｍ-1以上と大きく、樹脂組成
物は重合に十分なエネルギーを吸収することが可能であ
り、得られる硬化物中の未反応物を低減できるので、耐
熱性に優れた成形体を得ることができる。
【００３４】放射線重合開始剤の３６０ｎｍにおける分
子吸光係数が１００Ｌ・ｍｏｌ-1・ｃｍ-1未満では、樹
脂組成物は重合に十分な吸収エネルギーを得ることがで
きず、また放射線重合開始剤の４５０ｎｍにおける分子
吸光係数が１００Ｌ・ｍｏｌ-1・ｃｍ-1を超えると、得
られる硬化物は着色が大きくなり、特に光学物品を成形
する場合、光学特性が大きく損なわれてしまうことにな
る。
子吸光係数が１００Ｌ・ｍｏｌ-1・ｃｍ-1未満では、樹
脂組成物は重合に十分な吸収エネルギーを得ることがで
きず、また放射線重合開始剤の４５０ｎｍにおける分子
吸光係数が１００Ｌ・ｍｏｌ-1・ｃｍ-1を超えると、得
られる硬化物は着色が大きくなり、特に光学物品を成形
する場合、光学特性が大きく損なわれてしまうことにな
る。
【００３５】上記（Ｃ）成分の具体例としては、２，２
−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−メチ
ル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフ
ォリノプロパン−１−オン、２，４，６−トリメチルベ
ンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、２，４，６−
トリメチルベンゾイルエトキシフェニルホスフィンオキ
シド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジエトキシホ
スフィンオキシド、ビス−（２，６−ジメトキシベンゾ
イル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィン
オキシド等が挙げられる。
−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−メチ
ル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフ
ォリノプロパン−１−オン、２，４，６−トリメチルベ
ンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、２，４，６−
トリメチルベンゾイルエトキシフェニルホスフィンオキ
シド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジエトキシホ
スフィンオキシド、ビス−（２，６−ジメトキシベンゾ
イル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィン
オキシド等が挙げられる。
【００３６】これらの中、ビス（２，６−ジメトキシベ
ンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフ
ィンオキシド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフ
ェニルホスフィンオキシド、２，４，６−トリメチルベ
ンゾイルエトキシフェニルホスフィンオキシドが好まし
く、特にビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，
４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド、
２，４，６−トリメチルベンゾイルエトキシフェニルホ
スフィンオキシドが好ましい。これらの市販品として
は、Ｉｒｇａｃｕｒｅ６５１、９０７、３６９、ＣＧＩ
１７００、１７５０、１８５０（以上、チバガイギー社
製）Ｌｕｃｉｒｉｎ ＴＰＯ、ＬＲ８８９３（以上、Ｂ
ＡＳＦ社製）等を挙げることができる。
ンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフ
ィンオキシド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフ
ェニルホスフィンオキシド、２，４，６−トリメチルベ
ンゾイルエトキシフェニルホスフィンオキシドが好まし
く、特にビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，
４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド、
２，４，６−トリメチルベンゾイルエトキシフェニルホ
スフィンオキシドが好ましい。これらの市販品として
は、Ｉｒｇａｃｕｒｅ６５１、９０７、３６９、ＣＧＩ
１７００、１７５０、１８５０（以上、チバガイギー社
製）Ｌｕｃｉｒｉｎ ＴＰＯ、ＬＲ８８９３（以上、Ｂ
ＡＳＦ社製）等を挙げることができる。
【００３７】本発明の組成物には（Ｃ）成分以外に他の
紫外線重合開始剤等の放射線重合開始剤や増感剤を本発
明の効果を損なわない程度に併用してもよい。併用され
る放射線重合開始剤としては、例えばアセトフェノン、
アセトフェノンベンジルケタール、アントラキノン、１
−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、キサント
ン系化合物、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−
メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、
４，４′−ジメトキシベンゾフェノン、４，４′−ジア
ミノベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１
−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピ
ルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−
１−オン、１，１−ジメトキシデオキシベンゾイン、
３，３′−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、チ
オキサントン系化合物、ジエチルチオキサントン、２−
イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサント
ン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ−
２−メチルプロパン−１−オン、トリフェニルアミン、
フルオレノン、フルオレン、ベンズアルデヒド、ベンゾ
インエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベ
ンゾフェノン、ミヒラーケトン、２−ベンジル−２−ジ
メチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタ
ン−１−オン、３−メチルアセトフェノン、３，３′，
４，４′−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）
ベンゾフェノン（ＢＴＴＢ）等が挙げられ、さらにＢＴ
ＴＢと色素増感剤、例えばキサンテン、チオキサンテ
ン、クマリン、ケトクマリン等との組み合わせ等が挙げ
られる。また、下記式（９）で表される化合物を用いる
こともできる。
紫外線重合開始剤等の放射線重合開始剤や増感剤を本発
明の効果を損なわない程度に併用してもよい。併用され
る放射線重合開始剤としては、例えばアセトフェノン、
アセトフェノンベンジルケタール、アントラキノン、１
−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、キサント
ン系化合物、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−
メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、
４，４′−ジメトキシベンゾフェノン、４，４′−ジア
ミノベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１
−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピ
ルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−
１−オン、１，１−ジメトキシデオキシベンゾイン、
３，３′−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、チ
オキサントン系化合物、ジエチルチオキサントン、２−
イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサント
ン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ−
２−メチルプロパン−１−オン、トリフェニルアミン、
フルオレノン、フルオレン、ベンズアルデヒド、ベンゾ
インエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベ
ンゾフェノン、ミヒラーケトン、２−ベンジル−２−ジ
メチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタ
ン−１−オン、３−メチルアセトフェノン、３，３′，
４，４′−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）
ベンゾフェノン（ＢＴＴＢ）等が挙げられ、さらにＢＴ
ＴＢと色素増感剤、例えばキサンテン、チオキサンテ
ン、クマリン、ケトクマリン等との組み合わせ等が挙げ
られる。また、下記式（９）で表される化合物を用いる
こともできる。
【００３８】
【化９】
【００３９】（上記式中、Ｒ11 は各々独立に炭素数１
〜５、好ましくは炭素数１〜３のアルキル基を表し、ま
たｔは２〜５０、好ましくは２〜２０の数を表す。） これらのうち、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェ
ニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシ
ルフェニルケトンが好ましく併用される。これらの併用
可能な放射線重合開始剤の市販品としては、Ｄａｒｏｃ
ｕｒｅ１１７３（メルク社製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８
４（チバガイギー社製）等を挙げることができる。
〜５、好ましくは炭素数１〜３のアルキル基を表し、ま
たｔは２〜５０、好ましくは２〜２０の数を表す。） これらのうち、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェ
ニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシ
ルフェニルケトンが好ましく併用される。これらの併用
可能な放射線重合開始剤の市販品としては、Ｄａｒｏｃ
ｕｒｅ１１７３（メルク社製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８
４（チバガイギー社製）等を挙げることができる。
【００４０】また、併用可能な増感剤としては、トリエ
チルアミン、ジエチルアミン、Ｎ−メチルジエタノール
アミン、エタノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香
酸、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチル
アミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イ
ソアミル等があり、市販品としてはユベクリルＰ１０
２、１０３、１０４、１０５（以上、ＵＣＢ社製）等が
挙げられる。本発明の（Ｃ）成分である放射線重合開始
剤の全組成物中に占める割合は、通常、０．１〜１０重
量％、好ましくは０．１〜５重量％である。１０重量％
を超えると、組成物の保存安定性や硬化物の物性、外観
等に悪影響を及ぼすことがあり、０．１重量％未満で
は、硬化速度が低下することがある。
チルアミン、ジエチルアミン、Ｎ−メチルジエタノール
アミン、エタノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香
酸、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチル
アミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イ
ソアミル等があり、市販品としてはユベクリルＰ１０
２、１０３、１０４、１０５（以上、ＵＣＢ社製）等が
挙げられる。本発明の（Ｃ）成分である放射線重合開始
剤の全組成物中に占める割合は、通常、０．１〜１０重
量％、好ましくは０．１〜５重量％である。１０重量％
を超えると、組成物の保存安定性や硬化物の物性、外観
等に悪影響を及ぼすことがあり、０．１重量％未満で
は、硬化速度が低下することがある。
【００４１】本発明には、また必要に応じて各種添加剤
を添加することができる。これらの添加剤としては、例
えば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカッ
プリング剤、老化防止剤、熱重合禁止剤、着色剤、レベ
リング剤、界面活性剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、溶
媒、無機系充填材、有機系充填材、フィラー、濡れ性改
良剤、塗面改良剤等がある。
を添加することができる。これらの添加剤としては、例
えば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカッ
プリング剤、老化防止剤、熱重合禁止剤、着色剤、レベ
リング剤、界面活性剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、溶
媒、無機系充填材、有機系充填材、フィラー、濡れ性改
良剤、塗面改良剤等がある。
【００４２】酸化防止剤の市販品としては、Ｉｒｇａｎ
ｏｘ１０１０、１０３５、１０７６、１２２２（以上、
チバガイギー社製）等が挙げられ、紫外線吸収剤として
は、Ｔｉｎｕｖｉｎ Ｐ、２３４、３２０、３２６、３
２７、３２８、２１３、４００（以上、チバガイギー社
製）、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ１１０、１３０、１４０、２２
０、２５０、３００、３２０、３４０、３５０、４００
（以上、住友化学工業（株）製）等が挙げられ、光安定
剤の市販品としては、Ｔｉｎｕｖｉｎ２９２、１４４、
６２２ＬＤ（以上、チバガイギー社製）、サノールＬＳ
−７７０、７６５、２９２、２６２６、１１１４、７４
４（以上、三共化成工業（株）製）等が挙げられ、シラ
ンカップリング剤としては、γ−アミノプロピルトリエ
トキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシ
ラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ン、またその市販品としては ＳＨ６０６２、ＳＺ６０
３０（以上、東レ・ダウ コーニング・シリコーン社
製）、ＫＢＥ９０３、ＫＢＭ８０３（以上、信越シリコ
ーン（株）製）等が挙げられ、老化防止剤の市販品とし
ては、Ａｎｔｉｇｅｎｅ Ｗ、Ｓ、Ｐ、３Ｃ、６Ｃ、Ｒ
Ｄ−Ｇ、ＦＲ、ＡＷ（以上、住友化学工業（株）製）等
が挙げられる。
ｏｘ１０１０、１０３５、１０７６、１２２２（以上、
チバガイギー社製）等が挙げられ、紫外線吸収剤として
は、Ｔｉｎｕｖｉｎ Ｐ、２３４、３２０、３２６、３
２７、３２８、２１３、４００（以上、チバガイギー社
製）、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ１１０、１３０、１４０、２２
０、２５０、３００、３２０、３４０、３５０、４００
（以上、住友化学工業（株）製）等が挙げられ、光安定
剤の市販品としては、Ｔｉｎｕｖｉｎ２９２、１４４、
６２２ＬＤ（以上、チバガイギー社製）、サノールＬＳ
−７７０、７６５、２９２、２６２６、１１１４、７４
４（以上、三共化成工業（株）製）等が挙げられ、シラ
ンカップリング剤としては、γ−アミノプロピルトリエ
トキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシ
ラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ン、またその市販品としては ＳＨ６０６２、ＳＺ６０
３０（以上、東レ・ダウ コーニング・シリコーン社
製）、ＫＢＥ９０３、ＫＢＭ８０３（以上、信越シリコ
ーン（株）製）等が挙げられ、老化防止剤の市販品とし
ては、Ａｎｔｉｇｅｎｅ Ｗ、Ｓ、Ｐ、３Ｃ、６Ｃ、Ｒ
Ｄ−Ｇ、ＦＲ、ＡＷ（以上、住友化学工業（株）製）等
が挙げられる。
【００４３】また本発明の組成物には、発明の効果を損
なわない範囲でポリマー、オリゴマー又はモノマーを配
合することができる。これらのポリマー、オリゴマー又
はモノマーとしては、エポキシ樹脂、ウレタン（メタ）
アクリレート、ビニルエーテル、プロペニルエーテル、
マレイン酸誘導体、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミ
ドイミド、ポリウレタン、ポリブタジエン、クロロプレ
ン、ポリエーテル、ポリエステル、ペンタジエン誘導
体、スチレン／ブタジエン／スチレンブロック共重合
体、スチレン／エチレン／ブテン／スチレンブロック共
重合体、スチレン／イソプレン／スチレンブロック共重
合体、石油樹脂、キシレン樹脂、ケトン樹脂、フッ素系
オリゴマー、シリコーン系オリゴマー、ポリスルフィド
系オリゴマー等が挙げられる。
なわない範囲でポリマー、オリゴマー又はモノマーを配
合することができる。これらのポリマー、オリゴマー又
はモノマーとしては、エポキシ樹脂、ウレタン（メタ）
アクリレート、ビニルエーテル、プロペニルエーテル、
マレイン酸誘導体、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミ
ドイミド、ポリウレタン、ポリブタジエン、クロロプレ
ン、ポリエーテル、ポリエステル、ペンタジエン誘導
体、スチレン／ブタジエン／スチレンブロック共重合
体、スチレン／エチレン／ブテン／スチレンブロック共
重合体、スチレン／イソプレン／スチレンブロック共重
合体、石油樹脂、キシレン樹脂、ケトン樹脂、フッ素系
オリゴマー、シリコーン系オリゴマー、ポリスルフィド
系オリゴマー等が挙げられる。
【００４４】本発明の放射線硬化性樹脂組成物は、上記
各成分を常法により混合して製造することができる。こ
のようにして調製される本発明における組成物の粘度
は、通常１００〜２０,０００ｃｐｓ／２５℃、好まし
くは５００〜１０,０００ｃｐｓ／２５℃である。
各成分を常法により混合して製造することができる。こ
のようにして調製される本発明における組成物の粘度
は、通常１００〜２０,０００ｃｐｓ／２５℃、好まし
くは５００〜１０,０００ｃｐｓ／２５℃である。
【００４５】本発明の放射線硬化性樹脂組成物を硬化さ
せることにより、２３℃での引張弾性率が１０〜２５０
ｋｇ／ｍｍ2 の硬化物が得られる。また、硬化物の屈折
率ｎD 25（２５℃でのナトリウムＤ線の屈折率）は１．
５３以上であり、好ましくは１．５５以上である。また
硬化に伴う硬化収縮率は、通常１０％以下、好ましくは
８％以下、特に好ましくは６％以下である。なお、本発
明で云う放射線とは紫外線、可視光線、赤外線、α線、
β線、γ線、Ｘ線を意味する。
せることにより、２３℃での引張弾性率が１０〜２５０
ｋｇ／ｍｍ2 の硬化物が得られる。また、硬化物の屈折
率ｎD 25（２５℃でのナトリウムＤ線の屈折率）は１．
５３以上であり、好ましくは１．５５以上である。また
硬化に伴う硬化収縮率は、通常１０％以下、好ましくは
８％以下、特に好ましくは６％以下である。なお、本発
明で云う放射線とは紫外線、可視光線、赤外線、α線、
β線、γ線、Ｘ線を意味する。
【００４６】
【実施例】以下に本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明はこれら実施例に限定されるものではな
い。実施例１〜３および比較例１〜３ 表１に示す組成で各成分を撹拌機を備えた反応容器に仕
込み、液温度を５０〜６０℃に制御しながら３時間撹拌
した。そしてその均一に撹拌された樹脂組成物を物性測
定に用いた。なお、表１中の実施例１〜３および比較例
１〜３における各数値は重量％を示す。
るが、本発明はこれら実施例に限定されるものではな
い。実施例１〜３および比較例１〜３ 表１に示す組成で各成分を撹拌機を備えた反応容器に仕
込み、液温度を５０〜６０℃に制御しながら３時間撹拌
した。そしてその均一に撹拌された樹脂組成物を物性測
定に用いた。なお、表１中の実施例１〜３および比較例
１〜３における各数値は重量％を示す。
【００４７】
【表１】 Ａ１：ビスフェノールＡジグリシジルエーテルエポキシ
アクリレート Ａ２：エチレンオキシド付加ビスフェノールＡアクリル
酸エステル Ｂ１：トリプロピレングリコールジアクリレート Ｂ２：テトラエチレングリコールジアクリレート Ｘ１：フェノキシエチルアクリレート Ｘ２：トリシクロデカンジイルジメチレンジアクリレー
ト Ｘ３：アクリロイルモルフォリン Ｘ４：Ｎ−ビニルカプロラクタム Ｃ１：ビス−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，
４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド（分
子吸光係数は３６０nmにおいて８００Ｌ・ｍｏｌ-1・ｃ
ｍ-1；４５０nmにおいて１０Ｌ・ｍｏｌ-1・ｃｍ-1未
満） Ｃ２：２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホ
スフィンオキシド（分子吸光係数は３６０nmにおいて３
２０Ｌ・ｍｏｌ-1・ｃｍ-1；４５０nmにおいて１０Ｌ・
ｍｏｌ-1・ｃｍ-1未満） Ｙ１：１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルプロパノ
ン（分子吸光係数は３６０nmにおいて４０Ｌ・ｍｏｌ-1
・ｃｍ-1；４５０nmにおいて１０Ｌ・ｍｏｌ-1・ｃｍ-1
未満）
アクリレート Ａ２：エチレンオキシド付加ビスフェノールＡアクリル
酸エステル Ｂ１：トリプロピレングリコールジアクリレート Ｂ２：テトラエチレングリコールジアクリレート Ｘ１：フェノキシエチルアクリレート Ｘ２：トリシクロデカンジイルジメチレンジアクリレー
ト Ｘ３：アクリロイルモルフォリン Ｘ４：Ｎ−ビニルカプロラクタム Ｃ１：ビス−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，
４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド（分
子吸光係数は３６０nmにおいて８００Ｌ・ｍｏｌ-1・ｃ
ｍ-1；４５０nmにおいて１０Ｌ・ｍｏｌ-1・ｃｍ-1未
満） Ｃ２：２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホ
スフィンオキシド（分子吸光係数は３６０nmにおいて３
２０Ｌ・ｍｏｌ-1・ｃｍ-1；４５０nmにおいて１０Ｌ・
ｍｏｌ-1・ｃｍ-1未満） Ｙ１：１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルプロパノ
ン（分子吸光係数は３６０nmにおいて４０Ｌ・ｍｏｌ-1
・ｃｍ-1；４５０nmにおいて１０Ｌ・ｍｏｌ-1・ｃｍ-1
未満）
【００４８】試験例 上記実施例および比較例で得られた樹脂組成物を用いて
下記の手法で試験片を作成し、屈折率、鉛筆硬度、硬化
収縮性、および長期高温保存時の基板浸食性を評価し
た。結果を表２に示す。
下記の手法で試験片を作成し、屈折率、鉛筆硬度、硬化
収縮性、および長期高温保存時の基板浸食性を評価し
た。結果を表２に示す。
【００４９】試験片の作成：１５ｍｉｌのアプリケータ
ーバーを用いてガラス板上に樹脂組成物を約２００μｍ
の厚みに塗布し、その上に空気雰囲気下で１．０Ｊ／ｃ
ｍ2 の紫外線を照射し、硬化膜を得た。次いで、ガラス
板から硬化膜を剥離し、２３℃、相対湿度５０％の状態
で２４時間保持し、これを試験片とした。
ーバーを用いてガラス板上に樹脂組成物を約２００μｍ
の厚みに塗布し、その上に空気雰囲気下で１．０Ｊ／ｃ
ｍ2 の紫外線を照射し、硬化膜を得た。次いで、ガラス
板から硬化膜を剥離し、２３℃、相対湿度５０％の状態
で２４時間保持し、これを試験片とした。
【００５０】屈折率：アッベ屈折計を用いて上記試験片
の２５℃における屈折率を測定した。 硬度：ＪＩＳ Ｋ５４００に従って鉛筆引っかき試験機
を用い、１ｋｇ荷重で上記硬化物の試験片の鉛筆硬度を
測定した。
の２５℃における屈折率を測定した。 硬度：ＪＩＳ Ｋ５４００に従って鉛筆引っかき試験機
を用い、１ｋｇ荷重で上記硬化物の試験片の鉛筆硬度を
測定した。
【００５１】硬化収縮性：２５０μｍ厚のアプリケータ
ーバーを用いて厚さ１２０μｍのＰＥＴ（ポリエチレン
テレフタレート）フィルム上に樹脂組成物を約１００μ
ｍの厚みに塗布し、その上に空気雰囲気下で１．０Ｊ／
ｃｍ2 の紫外線を照射した。試験片の４片を１０ｃｍ角
に切り出し、４つの角のそり上がりをノギスで測定し平
均をとった。反り上がりの平均値が１０ｍｍ未満のもの
を○、１０ｍｍ以上１５ｍｍ未満のものを△、１５ｍｍ
以上のものを×として、硬化収縮性を評価した。
ーバーを用いて厚さ１２０μｍのＰＥＴ（ポリエチレン
テレフタレート）フィルム上に樹脂組成物を約１００μ
ｍの厚みに塗布し、その上に空気雰囲気下で１．０Ｊ／
ｃｍ2 の紫外線を照射した。試験片の４片を１０ｃｍ角
に切り出し、４つの角のそり上がりをノギスで測定し平
均をとった。反り上がりの平均値が１０ｍｍ未満のもの
を○、１０ｍｍ以上１５ｍｍ未満のものを△、１５ｍｍ
以上のものを×として、硬化収縮性を評価した。
【００５２】透明性：２５０μｍ厚のアプリケーターバ
ーを用いてスライドガラス上に各樹脂組成物を約１００
μｍの厚みに塗布し、その上に空気雰囲気下で１．０Ｊ
／ｃｍ2 の紫外線を照射し、硬化膜を得た。この試験片
の色差（ΔＥ）を色彩色差計（日本電色製、ＳＺ−Σ８
０／ＭＳＰ）を用いて、標準白色板上のスライドガラス
を基準として測定し、ΔＥが３未満のものを○、３以上
５未満のものを△、５以上のものを×として、透明性を
評価した。
ーを用いてスライドガラス上に各樹脂組成物を約１００
μｍの厚みに塗布し、その上に空気雰囲気下で１．０Ｊ
／ｃｍ2 の紫外線を照射し、硬化膜を得た。この試験片
の色差（ΔＥ）を色彩色差計（日本電色製、ＳＺ−Σ８
０／ＭＳＰ）を用いて、標準白色板上のスライドガラス
を基準として測定し、ΔＥが３未満のものを○、３以上
５未満のものを△、５以上のものを×として、透明性を
評価した。
【００５３】基板浸食性：微細凹凸形状を有するプリズ
ムシート用金型に、樹脂組成物を注入し、その上に膜厚
１２５μｍの透明なＰＥＴシートを接着させ、次いでＰ
ＥＴシート側から１．０Ｊ／ｃｍ2 の紫外線を照射し、
硬化膜を得た。該硬化膜を幅５ｍｍ、長さ５０ｍｍの短
冊状に切り出したものをガラス板上に５ｍｍ間隔で５枚
並べ、この上から厚さ２ｍｍのアクリル板を載せ、アク
リル板１ｃｍ2 当たり２０ｇの荷重をかけた状態で、ア
クリル板の周囲を粘着テープでシールした。これを１０
０℃の恒温槽中に１時間保持した後、該ガラス板を取り
出した。荷重およびアクリル板を取り除き、アクリル板
の試験片に接していた部分を観察し、試験片の付着跡の
有無を調べた。観察結果から、付着跡無し：○、付着跡
有り：×として、基板浸食性を評価した。
ムシート用金型に、樹脂組成物を注入し、その上に膜厚
１２５μｍの透明なＰＥＴシートを接着させ、次いでＰ
ＥＴシート側から１．０Ｊ／ｃｍ2 の紫外線を照射し、
硬化膜を得た。該硬化膜を幅５ｍｍ、長さ５０ｍｍの短
冊状に切り出したものをガラス板上に５ｍｍ間隔で５枚
並べ、この上から厚さ２ｍｍのアクリル板を載せ、アク
リル板１ｃｍ2 当たり２０ｇの荷重をかけた状態で、ア
クリル板の周囲を粘着テープでシールした。これを１０
０℃の恒温槽中に１時間保持した後、該ガラス板を取り
出した。荷重およびアクリル板を取り除き、アクリル板
の試験片に接していた部分を観察し、試験片の付着跡の
有無を調べた。観察結果から、付着跡無し：○、付着跡
有り：×として、基板浸食性を評価した。
【００５４】
【表２】
【００５５】表２に示されるように、実施例１〜３は共
に高い屈折率、高い表面硬度、小さな硬化収縮、高い透
明性を示し、更に基材に対する浸食性が少なく優れた結
果を示した。これに対して、本発明のＢ成分を含まない
比較例１は大きな硬化収縮性と基材浸食性を示した。ま
た本発明のＡ成分を含まない比較例２は硬化収縮性がや
や大きく、また基材に対する浸食性が見られた。更に本
発明のＣ成分を含まない比較例３は基材に対する浸食性
が見られた。
に高い屈折率、高い表面硬度、小さな硬化収縮、高い透
明性を示し、更に基材に対する浸食性が少なく優れた結
果を示した。これに対して、本発明のＢ成分を含まない
比較例１は大きな硬化収縮性と基材浸食性を示した。ま
た本発明のＡ成分を含まない比較例２は硬化収縮性がや
や大きく、また基材に対する浸食性が見られた。更に本
発明のＣ成分を含まない比較例３は基材に対する浸食性
が見られた。
【００５６】
【発明の効果】本発明の放射線硬化性樹脂組成物は、透
明性に優れ、耐光着色性が少なく、硬化時の硬化収縮が
極めて小さく、硬化性に優れ、高い表面硬度を有し、し
かも耐熱性に優れ、従って寸法精度が高く、高温環境下
で隣接する基板等に対して張り付き又は浸食のない成形
体を高い生産性で製造できるといった優れた特徴を有し
ている。このため本発明の組成物は、注型重合により成
形されるレンズ、光デイスク、プリズム、レンズシート
等の光学部品の製造に適している他、液晶表示素子の基
板等の光学材料に用いられるプラスチックフィルム基材
の表面被覆材料としても好適である。また、木材、紙、
プラスチック、金属、ガラス、セラミック等の被覆材料
としても好適に用いることができる
明性に優れ、耐光着色性が少なく、硬化時の硬化収縮が
極めて小さく、硬化性に優れ、高い表面硬度を有し、し
かも耐熱性に優れ、従って寸法精度が高く、高温環境下
で隣接する基板等に対して張り付き又は浸食のない成形
体を高い生産性で製造できるといった優れた特徴を有し
ている。このため本発明の組成物は、注型重合により成
形されるレンズ、光デイスク、プリズム、レンズシート
等の光学部品の製造に適している他、液晶表示素子の基
板等の光学材料に用いられるプラスチックフィルム基材
の表面被覆材料としても好適である。また、木材、紙、
プラスチック、金属、ガラス、セラミック等の被覆材料
としても好適に用いることができる
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宇加地 孝志 東京都中央区築地二丁目11番24号 日本合 成ゴム株式会社内
Claims (1)
- 【請求項１】（Ａ） 一般式（１）： 【化１】 （式中、Ｒ1は水素原子又はメチル基であり、Ｒ2は炭素
数２〜６のアルキレン基又はヒドロキシアルキレン基で
あり、Ｒ3は２価の有機基であり、ｎは０〜６の整数、
ｍは１〜１０の整数であり、Lは０または１の整数であ
る。）で表される（メタ）アクリロイル基含有化合物を
２０〜９４．９重量％、 （Ｂ） 一般式（２）： 【化２】 （式中、Ｒ4は水素原子またはメチル基であり、Ｒ5は炭
素数２〜６のアルキレン基であり、ｐは１〜１６の整数
である。）で表される（メタ）アクリロイル基含有化合
物を５〜７９．９重量％、および （Ｃ） 分子吸光係数が３６０ｎｍにおいて１００Ｌ・
ｍｏｌ-1・ｃｍ-1以上、且つ４５０ｎｍにおいて１００
Ｌ・ｍｏｌ-1・ｃｍ-1以下である放射線重合開始剤０．
１〜１０重量％、を含有して成る注型重合用放射線硬化
性樹脂組成物。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9230318A JPH1160656A (ja) | 1997-08-12 | 1997-08-12 | 注型重合用放射線硬化性樹脂組成物 |
| EP98939017A EP1003796B1 (en) | 1997-08-12 | 1998-08-11 | Radiation curable resin composititon for cast polymerization |
| DE69808931T DE69808931T2 (de) | 1997-08-12 | 1998-08-11 | Strahlungshärtbare harzzusammensetzung für giesspolymerisation |
| PCT/NL1998/000458 WO1999007757A1 (en) | 1997-08-12 | 1998-08-11 | Radiation curable resin composititon for cast polymerization |
| KR10-2000-7001398A KR100527993B1 (ko) | 1997-08-12 | 1998-08-11 | 주조 중합용 방사선 경화성 수지 조성물 |
| US09/502,228 US6288136B1 (en) | 1997-08-12 | 2000-02-11 | Radiation curable resin composition for cast polymerization |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9230318A JPH1160656A (ja) | 1997-08-12 | 1997-08-12 | 注型重合用放射線硬化性樹脂組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1160656A true JPH1160656A (ja) | 1999-03-02 |
Family
ID=16905960
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9230318A Pending JPH1160656A (ja) | 1997-08-12 | 1997-08-12 | 注型重合用放射線硬化性樹脂組成物 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6288136B1 (ja) |
| EP (1) | EP1003796B1 (ja) |
| JP (1) | JPH1160656A (ja) |
| KR (1) | KR100527993B1 (ja) |
| DE (1) | DE69808931T2 (ja) |
| WO (1) | WO1999007757A1 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000075101A (ja) * | 1998-08-26 | 2000-03-14 | Seed Co Ltd | 合成樹脂製レンズ |
| US6809889B2 (en) | 2001-10-23 | 2004-10-26 | Dainippon Ink And Chemicals, Inc. | Radiation curable resin composition for fresnel lens and fresnel lens sheet |
| JP2006519891A (ja) * | 2003-02-03 | 2006-08-31 | エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティック | 可視または近紫外光線下での光重合による鋳造物の製造方法 |
| CN1323301C (zh) * | 2004-03-05 | 2007-06-27 | 株式会社有泽制作所 | 透镜、透射屏及用于制造该透镜的方法 |
| WO2008123358A1 (ja) * | 2007-03-29 | 2008-10-16 | Dic Corporation | 注型重合用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物及び硬化物 |
| JP2012036404A (ja) * | 2005-10-04 | 2012-02-23 | Dnp Fine Chemicals Co Ltd | 特定の表面形状と物性を有する構造体及びその構造体形成用の（メタ）アクリル系重合性組成物 |
| CN102898931A (zh) * | 2012-09-18 | 2013-01-30 | 无锡市中星工业胶带有限公司 | 一种磨砂pc卷材及其制备方法 |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6583196B2 (en) * | 1999-04-23 | 2003-06-24 | Rodenstock North America, Inc. | Curable casting compositions having a high refractive index and high impact resistance |
| JP2003277696A (ja) * | 2002-03-27 | 2003-10-02 | Jsr Corp | 接着剤用放射線硬化型樹脂組成物 |
| JP2004175866A (ja) * | 2002-11-26 | 2004-06-24 | Nippon Kayaku Co Ltd | 光ディスク用接着剤組成物、硬化物および物品 |
| US7439278B2 (en) * | 2004-05-04 | 2008-10-21 | Essilor International Compagnie Generale D'optique | Curable adhesive composition and its use in the optical field |
| US8012567B2 (en) * | 2006-01-12 | 2011-09-06 | 3M Innovative Properties Company | Light-collimating film |
| FR2920431B1 (fr) * | 2007-08-29 | 2010-03-12 | Essilor Int | Procede de preparation d'un materiau transparent de type alliage de polymere thermodurcissable/polymere thermoplastique et son application dans l'optique pour la fabrication de verres organiques. |
| JPWO2013089161A1 (ja) * | 2011-12-13 | 2015-04-27 | 日立化成株式会社 | 液状硬化性樹脂組成物、これを用いた画像表示用装置の製造方法、及び画像表示用装置 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4719131A (en) * | 1986-06-02 | 1988-01-12 | Interez, Inc. | Thermally curable polyacrylate compositions |
| US4745003A (en) * | 1986-12-22 | 1988-05-17 | Ppg Industries, Inc. | Method for improving durability of mirrors utilizing radiation curable coatings |
| DE3878139T2 (de) * | 1987-05-01 | 1993-05-27 | Mitsubishi Rayon Co | Mit aktinischen strahlen haertbare zusammensetzung fuer giesspolymerisation und giesspolymerisationsprodukte. |
| JP2739180B2 (ja) * | 1989-03-30 | 1998-04-08 | 新日本理化株式会社 | アクリレート系硬化性組成物 |
| US5880171A (en) | 1989-05-01 | 1999-03-09 | 2C Optics, Inc. | Fast curing polymeric compositions for ophthalmic lenses and apparatus for preparing lenses |
| IT1230156B (it) * | 1989-06-16 | 1991-10-14 | Oece Ind Chimiche Spa | Prodotti vernicianti fotopolimerizzabili. |
| CA2118115A1 (en) | 1992-04-15 | 1993-10-28 | Fredric J. Lim | Lenses with high impact resistance and high scratch resistance |
| US5908873A (en) | 1995-12-20 | 1999-06-01 | Borden Chemicals, Inc. | Peelable bonded ribbon matrix material; optical fiber bonded ribbon arrays containing same; and process for preparing said optical fiber bonded ribbon arrays |
| JPH1143627A (ja) * | 1997-07-30 | 1999-02-16 | Jsr Corp | 放射線硬化性樹脂組成物 |
-
1997
- 1997-08-12 JP JP9230318A patent/JPH1160656A/ja active Pending
-
1998
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- 1998-08-11 KR KR10-2000-7001398A patent/KR100527993B1/ko not_active IP Right Cessation
-
2000
- 2000-02-11 US US09/502,228 patent/US6288136B1/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000075101A (ja) * | 1998-08-26 | 2000-03-14 | Seed Co Ltd | 合成樹脂製レンズ |
| US6809889B2 (en) | 2001-10-23 | 2004-10-26 | Dainippon Ink And Chemicals, Inc. | Radiation curable resin composition for fresnel lens and fresnel lens sheet |
| JP2006519891A (ja) * | 2003-02-03 | 2006-08-31 | エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティック | 可視または近紫外光線下での光重合による鋳造物の製造方法 |
| CN1323301C (zh) * | 2004-03-05 | 2007-06-27 | 株式会社有泽制作所 | 透镜、透射屏及用于制造该透镜的方法 |
| JP2012036404A (ja) * | 2005-10-04 | 2012-02-23 | Dnp Fine Chemicals Co Ltd | 特定の表面形状と物性を有する構造体及びその構造体形成用の（メタ）アクリル系重合性組成物 |
| JP2012052125A (ja) * | 2005-10-04 | 2012-03-15 | Dnp Fine Chemicals Co Ltd | 特定の表面形状と物性を有する構造体及びその構造体形成用の（メタ）アクリル系重合性組成物 |
| WO2008123358A1 (ja) * | 2007-03-29 | 2008-10-16 | Dic Corporation | 注型重合用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物及び硬化物 |
| CN102898931A (zh) * | 2012-09-18 | 2013-01-30 | 无锡市中星工业胶带有限公司 | 一种磨砂pc卷材及其制备方法 |
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