JPH1143627A - 放射線硬化性樹脂組成物 - Google Patents

放射線硬化性樹脂組成物

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JPH1143627A
JPH1143627A JP9204130A JP20413097A JPH1143627A JP H1143627 A JPH1143627 A JP H1143627A JP 9204130 A JP9204130 A JP 9204130A JP 20413097 A JP20413097 A JP 20413097A JP H1143627 A JPH1143627 A JP H1143627A
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meth
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acrylate
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component
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JP9204130A
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Toshihiko Takahashi
俊彦 高橋
Ryoji Furuta
良治 古田
Takashi Ukaji
孝志 宇加地
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JSR Corp
Japan Fine Coatings Co Ltd
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JSR Corp
Japan Fine Coatings Co Ltd
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Publication date
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    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
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    • G11B7/2542Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of protective topcoat layers consisting essentially of organic resins

Abstract

(57)【要約】 【課題】 感熱記録型のカードや、感熱印画紙等の感熱
型情報記録担体に用いられる、硬度が高く、基材との密
着性、印刷インキとの密着性、耐スクラッチ性、耐光
性、耐熱性、柔軟性、および耐指紋付着性に優れた保護
コートに好適に用いられる放射線硬化性樹脂組成物を提
供すること。 【解決手段】 (A)ビスフェノールAジグリシジルエ
ーテル重合体のアクリル酸エステル、(B)ジペンタエ
リスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、
(C)放射線重合開始剤および(D)無機粒子を含み、
(A)成分と(B)成分の重量の合計を100重量部と
して、(A)成分が10〜50重量部、(B)成分が5
0〜90重量部、(C)成分が0.1〜10重量部、
(D)成分が0.1〜10重量部、である放射線硬化性
樹脂組成物。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、硬度が高く、基材
との密着性、印刷インキとの密着性、爪等で引っかいた
場合の傷付きにくさ(以下、「耐スクラッチ性」とい
う)、耐光性、耐熱性および耐指紋付着性に優れた放射
線硬化性樹脂組成物に関する。さらに詳しくは、例えば
感熱記録型のカードや、感熱印画紙等の情報記録担体に
用いられる、印刷可能な耐熱性保護コートとして好適に
使用することができる放射線硬化性樹脂組成物に関す
る。
【0002】
【従来の技術】書き換え型の感熱記録カードや、感熱印
画紙等の情報記録担体において、記録媒体の表面の耐熱
性、耐擦傷性等を向上させる目的で保護コート層が設け
られる。こうした保護コート層を形成する材料として
は、従来プラスチック基板の表面保護や光デイスクの保
護コートに用いられていた紫外線硬化性のアクリレート
系樹脂組成物が用いられてきた。特開平4−14928
0号公報には、トリプロピレングリコールジアクリレー
トと2−(2−エトキシエトキシ)エチルアクリレート
および光重合開始剤からなる光デイスク用オーバーコー
ト組成物が提案されている。ここで開示されているオー
バーコート組成物は、皮膚刺激性が低く、低粘度であっ
て、光デイスクのオーバーコートとして用いた場合に十
分な塗膜硬度を有し且つ耐擦傷性に優れるという特徴を
有している。しかし、こうしたオーバーコート材料は常
温での耐擦傷性には優れているものの、感熱記録カード
等の保護コートとして用いた場合に、サーマルヘッドで
打撃を受けた時の衝撃性に弱く、高温での耐擦傷性に改
良すべき問題を有している。また、このオーバーコート
組成物による保護コート表面は耐指紋付着性に劣り、手
指で保護コート表面を触った場合に、指紋痕跡が付着し
やすく、表面の透明感を損ない、そればかりでなく、保
護コートの下層に記録されている文字情報等の識別性に
も支障がでるといった改善すべき問題点も有している。
【0003】また、特開平4−106161号公報に
は、不飽和二重結合を有する特定のプライマ材料とオル
ガノポリシロキサン系ハードコートを組み合わせた熱硬
化型の複層コートが提案されている。この材料でコート
された物品は耐傷性、耐摩耗性、表面光沢に優れ、且つ
耐候密着性に優れていることを特徴としている。ここで
開示されているオルガノポリシロキサン系ハードコート
は硬化に伴ってシロキサン結合を有する強固な塗膜を形
成し、高温においても優れた耐傷性を有することが期待
される。また同公報には、塗膜の表面硬度向上のため
に、表面コーティング被膜中に微粒子無機酸化物を添加
することが提案されている。しかし、硬化が熱によって
行われるため、硬化時間が長く生産性に劣るだけでな
く、感熱記録媒体に用いた場合には、感熱層の劣化を招
き、実用的ではない。また形成されたポリシロキサン構
造のオーバーコート層は優れた耐擦傷性や耐熱性を有す
るが、塗膜の柔軟性に欠け、書き換え型感熱記録カード
や、感熱記録紙に用いた場合に容易にクラックを生じる
という問題点を有していた。さらにこうして得られたオ
ーバーコートの表面は印刷インキに対してハジキを生じ
易く良好な印刷を行うことが困難である。また、特公平
7−103328号公報には、(A)下記式(2)
【0004】
【化2】
【0005】ここで、lの平均値は1〜3である、の構
造式を持つ化合物20〜80部、(B)下記式(3)
【0006】
【化3】
【0007】(式中、mの平均値は1〜3、aの平均値
は0〜6、cの平均値は0〜3、a+b+c=6であ
る。)の構造式を持つ化合物5〜50部、(C)下記式
(4)
【0008】
【化4】
【0009】の構造式を持つ化合物0〜40部、(D)
上記(A)、(B)、(C)と共重合可能なモノマーま
たはプレポリマー0〜40部、並びに(A)+(B)+
(C)+(D)=100部に対し、(E)光重合開始剤
0〜10部および有機溶剤0〜150部よりなる活性エ
ネルギー線硬化性被覆用組成物が開示されている。同公
報には、この組成物は低粘度で塗布しやすく、紫外線も
しくは電子線等の照射により極めて短期間に硬化し、基
材への密着性および折り曲げ性等の加工性に優れ、光沢
が良好であることが開示されている。しかし、この組成
物から得られる塗膜を耐熱性保護コートとして用いた場
合、耐スクラッチ性、耐指紋付着性に劣るという問題を
有している。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、例え
ば、感熱記録型のカードや、感熱印画紙等の感熱型情報
記録担体に用いられる、硬度が高く、基材との密着性、
印刷インキとの密着性、耐スクラッチ性、耐光性、耐熱
性、柔軟性、および耐指紋付着性に優れた保護コートに
好適に用いられる放射線硬化性樹脂組成物を提供するこ
とにある。本発明の他の目的および利点は、以下の説明
から明らかになろう。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、本発明
の上記目的および利点は、(A)下記式(1)
【0012】
【化5】
【0013】ここで、φはパラフェニレン基であり、k
は1〜10の数であるで表されるビスフェノールAジグ
リシジルエーテル重合体のアクリル酸エステル、(B)
ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレ
ート、(C)放射線重合開始剤および(D無機粒子を含
み、(A)成分と(B)成分の重量の合計を100重量
部として、(A)成分が10〜50重量部、(B)成分
が50〜90重量部、(C)成分が0.1〜10重量
部、(D)成分が0.1〜10重量部、である放射線硬
化性樹脂組成物によって達成される。
【0014】本発明に用いられる(A)成分であるビス
フェノールAジグリシジルエーテル重合体のアクリル酸
エステルは、上記式(1)で表されるが、これらの市販
品としては、SP−1507、SP−1509、SP−
1519−1、SP−1563、SP−2500、VR
−60、VR−77、VR−90(以上、昭和高分子
(株)製)、ビスコート540(以上、大阪有機化学工
業(株)製)、エポキシエステル3000A、3000
M(以上、共栄社化学(株)製)等を挙げることができ
る。これらは単独で用いることもできるし、2種類以上
混合して用いることもできる。成分(A)の比率は、成
分(A)と成分(B)の合計の重量を100重量部とす
ると10〜50重量部であるが、好ましくは10〜40
重量部、より好ましくは10〜30重量部である。50
重量部を越えると硬化後の表面硬度が低下して傷が付き
やすくなり、10重量部未満では硬化後の塗膜の柔軟性
が低下して塗膜が割れやすくなるので好ましくない。
【0015】本発明に用いられる(B)成分であるジペ
ンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート
の市販品としては、SR399、SR399E、SR9
041、(以上、サートマー社製)を挙げることができ
る。これらは単独で用いることもできるし、2種類以上
混合して用いることもできる。成分(B)の比率は、成
分(A)と成分(B)の合計の重量を100重量部とす
ると50〜90重量部であるが、好ましくは60〜90
重量部、より好ましくは70〜90重量部である。90
重量部を越えると硬化後の塗膜が割れやすくなり、50
重量部未満では硬化後の塗膜の硬度が低下して傷が付き
やすくなるので好ましくない。
【0016】本発明に使用される(C)成分である放射
線重合開始剤としては、放射線照射により分解してラジ
カルを発生して重合を開始せしめるものであればいずれ
でもよく、必要に応じてさらに増感剤を用いることもで
きる。ここで「放射線」とは、紫外線、可視光線、X
線、電子線、α線、β線、γ線等をいう。このような放
射線重合開始剤としては、例えば1−ヒドロキシシクロ
ヘキシルフェニルケトン、2,2−ジメトキシ−2−フ
ェニルアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−
1−フェニルプロパン−1−オン、1−(4−イソプロ
ピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン
−1−オン、1,1−ジメトキシデオキシベンゾイン、
3,3’−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン、1
−(4−ドデシルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メ
チルプロパン−1−オン、2−メチル−1−[4−(メ
チルチオ)フェニル]−2−モルフォリノ−プロパン−
1−オン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニル
ホスフィンオキサイド、エチル−2,4,6−トリメチ
ルベンゾイルフェニルホスフィネート、ビス−(2,6
−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペン
チルフォスフィンオキサイド、ビスアシルフォスフィン
オキサイド、メチルベンゾイルホルメート、4−ベンゾ
イル−4’−メチルジフェニルサルファイド、ベンジル
ジメチルケタール、フルオレノン、フルオレン、ベンズ
アルデヒド、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプ
ロピルエーテル、ミヒラーケトン、2−ベンジル−2−
ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−
ブタン−1−オン、アセトフェノン、3−メチルアセト
フェノン、ベンゾフェノン、4,4’−ジメトキシベン
ゾフェノン、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、3,
3’,4,4’−テトラ(t−ブチルパーオキシカルボニ
ル)ベンゾフェノン(BTTB)、アセトフェノンベン
ジルケタール、トリフェニルアミン、カルバゾール、4
−クロロベンゾフェノン、アントラキノン、キサント
ン、ジエチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキ
サントン、4−イソプロピルチオキサントン、2−クロ
ロチオキサントン、1−クロロ−4−プロポキシチオキ
サントン、およびBTTBと色素増感剤;例えばキサン
テン、チオキサンテン、クマリン、ケトクマリン等との
組み合わせ等が挙げられる。また、下記式(5)
【0017】
【化6】
【0018】ここで、R1およびR2は互いに独立に炭素
数1〜5のアルキル基であり、Arはフェニレン基、ビ
フェニレン基、ナフチレン基等の2価の芳香族基であ
り、rは2〜50、好ましくは2〜20の数である、で
表される化合物を用いることもできる。
【0019】式(5)中、炭素数1〜5のアルキル基と
しては、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、
i−プロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基、n−ペ
ンチル基、i−ペンチル基等を挙げることができる。こ
れらのうち、炭素数1〜3のアルキル基が好ましい。
【0020】これらのうち、特にベンジルジメチルケタ
ール、ベンゾフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシル
フェニルケトン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフ
ェニルホスフィンオキサイド、エチル−2,4,6−ト
リメチルベンゾイルフェニルホスフィネート、ビス−
(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメ
チルペンチルフォスフィンオキサイド、2−メチル−1
−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノ
プロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミ
ノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1−
オン等が好ましい。また、市販品としてはIrgacu
re184、651、500、907、369、78
4、2959(以上、チバガイギー社製)、Lucir
in TPO、LR8893(以上、BASF社製)、
Darocur1116、1173(以上、メルク社
製)、ユベクリルP36(以上、UCB社製)、ESC
ACURE KIP150、ESCACURE KIP
100F(以上、LAMBERTI社製)等を挙げるこ
とができる。
【0021】これらの放射線重合開始剤は単独で用いる
こともできるし、2種類以上混合して用いることもでき
る。成分(C)の比率は、成分(A)と成分(B)の合
計の重量を100重量部とすると0.1〜10重量部で
あるが、好ましくは0.5〜8重量部、より好ましくは
1〜6重量部である。10重量部を超えると、樹脂液の
硬化特性や硬化物の物性、取り扱い等に悪影響を及ぼす
ことがあり、0.1重量部未満では、硬化速度が低過ぎ
生産性が著しく低下する。
【0022】本発明に使用される(D)成分は無機粒子
である。該無機粒子の平均粒径は、好ましくは0.1〜
10μm、より好ましくは0.2〜5μmである。平均
粒径が0.1μmより小さいと、耐擦傷性、耐表面滑り
性が十分ではなく、また粒径が10μmより大きいと塗
膜の透明性が著しく低下することがある。
【0023】無機粒子としては、シリカ粒子、ガラス粒
子、アルミナ、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、リ
ン酸カルシウム、水酸化アルミニウム、タルク、酸化チ
タン等が挙げられる。この内、シリカ粒子、ガラス粒
子、炭酸カルシウム、タルクが好ましい。シリカ粒子と
しては、NipsilE220A、E220、K30
0、E1011、HD、E743、SS−10F、SS
−178B(以上、日本シリカ工業(株)製)、シルデ
ックスH31,H32、L−31(以上、旭硝子(株)
製)、SO−E2、SO−E3、SO−E5(以上、ア
ドマテックス(株)製)等として入手することができ
る。タルクとしては、LMS−300、LMS−20
0、LMS−100、LMP−100、LMG−10
0、LMR−100、PKP−53(以上、富士タルク
工業製)として入手することができる。炭酸カルシウム
としては、カルシーズ、カルシーズ−P、PL、−X、
スターブランド軽微性炭酸カルシウム(以上、神島化学
工業(株))として入手することができる。これらの無
機粒子は単独でも2種類以上組み合わせて用いることが
できる。
【0024】成分(D)である上記無機粒子の比率は、
成分(A)と成分(B)の合計の重量を100重量部と
すると0.1〜10重量部であるが、好ましくは0.2〜
5重量部、より好ましくは0.3〜2重量部である。無
機粒子の添加量が0.1重量部未満では塗膜の耐指紋付
着性、表面滑り性が不十分となり、10重量部を超える
と塗膜の透明性、耐スクラッチ性、耐擦傷性が低下す
る。
【0025】本発明の組成物には、成分(A)、成分
(B)、成分(C)、成分(D)に加えて、任意成分と
して、上記の(A)成分および(B)成分以外の単官能
性および多官能性モノマーを使用することができる。単
官能性モノマーとしては、例えばアクリルアミド、7−
アミノ−3,7−ジメチルオクチル(メタ)アクリレー
ト、イソブトキシメチル(メタ)アクリルアミド、イソ
ボルニルオキシエチル(メタ)アクリレート、イソボル
ニル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メ
タ)アクリレート、エチルジエチレングリコール(メ
タ)アクリレート、t−オクチル(メタ)アクリルアミ
ド、ジアセトン(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメ
チルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジエ
チルアミノエチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メ
タ)アクリレート、ジシクロペンタジエン(メタ)アク
リレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)ア
クリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレー
ト、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミドテトラク
ロロフェニル(メタ)アクリレート、2−テトラクロロ
フェノキシエチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロ
フルフリル(メタ)アクリレート、テトラブロモフェニ
ル(メタ)アクリレート、2−テトラブロモフェノキシ
エチル(メタ)アクリレート、2−トリクロロフェノキ
シエチル(メタ)アクリレート、トリブロモフェニル
(メタ)アクリレート、2−トリブロモフェノキシエチ
ル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メ
タ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)ア
クリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、
ブトキシエチル(メタ)アクリレート、ペンタクロロフ
ェニル(メタ)アクリレート、ペンタブロモフェニル
(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ
(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ
(メタ)アクリレート、ボルニル(メタ)アクリレー
ト、メチルトリエチレンジグリコール(メタ)アクリレ
ート、および下記式(6)〜(8)
【0026】
【化7】
【0027】ここで、R3は水素原子またはメチル基を
表わし、R4は炭素数2〜6、好ましくは2〜4のアル
キレン基であり、R5は水素原子または炭素数1〜1
2、好ましくは1〜9のアルキル基であり、Arはフェ
ニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基等の2価の芳
香族基であり、sは0〜12、好ましくは1〜8の数で
ある、
【0028】
【化8】
【0029】ここで、R1は水素原子またはメチル基を
表し、R6は炭素原子数2〜8、好ましくは2〜5のア
ルキレン基であり、tは1〜8、好ましくは1〜4の数
である、
【0030】
【化9】
【0031】ここで、R1は水素原子またはメチル基を
表し、R6は炭素原子数2〜8、好ましくは2〜5のア
ルキレン基であり、R7は水素原子またはメチル基を表
わし、tは1〜8、好ましくは1〜4の数である、但
し、複数のR7は同一でも異なっていてもよい、で表さ
れる化合物等の(メタ)アクリロイル基含有モノマー;
N−ビニルカルバゾール、N−ビニルピロリドン等のビ
ニル基含有モノマーを挙げることができる。
【0032】これら単官能性モノマーは、例えばアロニ
ックスM−111、M−113、M−117(以上、東
亞合成(株)製)、KAYARAD TC110S、R
−629、R−644(以上、日本化薬(株)製)、ビ
スコート3700(大阪有機化学工業(株)製)等の市
販品として入手することができる。これらのうち、特に
N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、
N,N−ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、
が好ましい。多官能性モノマーとしては、例えばエチレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンテ
ニルジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコール
ジアクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)
アクリレート、トリシクロデカンジイルジメチレンジ
(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メ
タ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メ
タ)アクリレート、トリメチロールプロパントリオキシ
エチル(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパ
ンテトラ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコ
ールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メ
タ)アクリレート、ビスフェノールAジグリシジルエー
テルの両末端(メタ)アクリル酸付加物、1,4−ブタ
ンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサン
ジオールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトー
ルトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテ
トラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘ
キサ(メタ)アクリレート、ポリエステルジ(メタ)ア
クリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリ
レート、および下記式(9)
【0033】
【化10】
【0034】ここで、R3は水素原子またはメチル基を
表わし、Xは、炭素数2〜6、好ましくは2〜4のアル
キレン基、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン
基等の2価の基であり、p、qは、それぞれ独立に1〜
10、好ましくは1〜5の数である、で表される化合物
等の(メタ)アクリロイル基含有モノマー等の(メタ)
アクリロイル基含有モノマーを挙げることができる。こ
れらのうち、特にトリシクロデカンジイルジメチレンジ
(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ
(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ
(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メ
タ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)
アクリレート、式(9)で表される(メタ)アクリロイ
ル基含有モノマーが好ましい。
【0035】また、かかる多官能性モノマーは、例えば
ユピマーUV、SA1002(以上、三菱化学(株)
製)、ビスコート700(以上、大阪有機化学工業
(株)製)、KAYARAD R−604、DPCA−
60、DPCA−30、DPCA−120、HX−62
0、D−310、D−330(以上、日本化薬(株)
製)、アロニックスM−210、M−315、(以上、
東亞合成(株)製)、エポキシエステル40EM、70
PA、200PA、1600A、80MFA、3002
M、3002A、3000M、3000A、200E
A、400EA等(以上、共栄社化学(株)製)の市販
品として入手することができる。
【0036】上記単官能性および多官能性モノマーは、
1種単独でまたは2種以上組み合わせて用いることがで
き、本発明の組成物中に20重量%以下、特に10重量
%以下の量で配合するのが好ましい。20重量%を越え
ると硬化物の指紋付着性が増加し、また印刷適正が低下
するといった不都合を生じ易くなる。
【0037】本発明では必要に応じて有機溶剤で希釈し
て用いることもできる。有機溶剤としては、成分
(A)、(B)、(C)を溶解する有機溶剤であれば特
に限定はないが、好ましくは沸点が50℃〜200℃、
より好ましくは60℃〜160℃である溶剤である。沸
点が50℃未満の溶剤は本発明の組成物を塗布した後、
本有機溶剤を乾燥除去する際に引火の危険性が高く、揮
発し易いためにコーティング層の厚さの制御が困難とな
る。沸点が200℃を越える溶剤では揮発し難いために
本有機溶剤を乾燥除去し難くなる。本発明に使用される
有機溶剤の例としてはメタノール、エタノール、イソプ
ロピルアルコール、ブタノール、シクロヘキサノール等
のアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソア
ミル、プロピオン酸−3−メトキシメチル等のエステル
類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン等のケトン系、ベンゼン、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素として用いることができる。これらの
溶剤は単独であるいは2種以上組み合わせて使用でき
る。好ましい希釈溶剤としては、エタノール、イソプロ
ピルアルコール、ブタノールおよびこれらのアルコール
系溶剤と酢酸エチル、酢酸ブチル等の酢酸エステル系溶
剤、プロピオン酸−3−メトキシメチル、およびトルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素からなる混合溶剤を挙
げることができる。
【0038】本発明の組成物には、また必要に応じて各
種添加剤を添加することができる。これらの添加剤とし
ては、例えば増感剤、酸化防止剤、光安定剤、シランカ
ップリング剤、老化防止剤、熱重合禁止剤、レベリング
剤、界面活性剤、帯電防止剤、保存安定剤、着色剤、紫
外線吸収剤、可塑剤、滑剤、無機系充填材、有機系充填
材、濡れ性改良剤、塗面改良剤等がある。増感剤として
は、トリエチルアミン、ジエチルアミン、N−メチルジ
エタノールアミン、エタノールアミン、4−ジメチルア
ミノ安息香酸、4−ジメチルアミノ安息香酸メチル、4
−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ
安息香酸イソアミル等があり、市販品としてはユベクリ
ルP102、103、104、105(以上、UCB社
製)、KAYACURE DMBI、EPA(以上、日
本化薬(株)製)等が挙げられる。酸化防止剤の市販品
としては、Irganox1010、1035、107
6、1222(以上、チバガイギー社製)等が挙げら
れ、紫外線吸収剤としては、Tinuvin P、23
4、320、326、327、328、213(以上、
チバガイギー社製)、Sumisorb 110、13
0、140、220、250、300、320、34
0、350、400(以上、住友化学工業(株)製)等
が挙げられ、光安定剤の市販品としては、Tinuvi
n 292、144、622LD(以上、チバガイギー
社製)、サノールLS−770、765、292、26
26、1114、744(以上、三共化成工業(株)
製)等が挙げられ、シランカップリング剤としては、γ
−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプト
プロピルトリメトキシシラン、γ−メタアクリロキシプ
ロピルトリメトキシシラン、市販品としては SH60
62、SZ6030(以上、東レ・ダウ コーニング・
シリコーン社製)、KBE903、KBM803(以
上、信越シリコーン(株)製)等が挙げられ、老化防止
剤の市販品としては、Antigene W、S、P、
3C、6C、RD−G、FR、AW(以上、住友化学工
業(株)製)等が挙げられ、帯電防止剤としては、ポリ
オキシエチレンアミン類、ポリオキシエチレンアルキル
アミド類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポ
リオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、グリセ
リン脂肪酸エステル類、ソルビタン脂肪酸エステル類、
等の非イオン系帯電防止剤、アルキルスルホネート、ア
ルキルベンゼンスルホネート、アルキルサルフェート、
アルキルホスフェート、等のアニオン系帯電防止剤、第
4級アンモニウム塩、アルキルベタイン、等が挙げられ
る。
【0039】また、本発明の組成物には、その他の添加
剤としてエポキシ樹脂、アクリル樹脂、アクリル基含有
モノマーとN−ビニルピロリドンとの重合物、ウレタン
アクリレート、ビニルエーテル、プロペニルエーテル、
マレイン酸誘導体等の重合性化合物、ポリアミド、ポリ
イミド、ポリアミドイミド、ポリウレタン、ポリブタジ
エン、クロロプレン、ポリエーテル、ポリエステル、ペ
ンタジエン誘導体、スチレン/ブタジエン/スチレンブ
ロック共重合体、スチレン/エチレン/ブテン/スチレ
ンブロック共重合体、スチレン/イソプレン/スチレン
ブロック共重合体、スチレンを主鎖成分とするアクリル
基含有樹脂、石油樹脂、キシレン樹脂、ケトン樹脂、フ
ッ素系オリゴマー、シリコーン系オリゴマー、ポリスル
フィド系オリゴマー等のポリマー、またはオリゴマーも
配合することができる。
【0040】本発明の組成物の作製において各成分を混
合する順序は本質的なものではないが、通常、作業の容
易さと(D)成分である無機粒子の分散させ易さの観点
から、成分(A)、成分(B)、成分(C)、および必
要に応じて添加される上記任意成分、の混合物に対し成
分(D)を配合し、無機粒子が均一に分散するまで攪拌
を行うことが好ましい。得られた組成物の粘度は、25
℃において、通常、1〜10,000mPa・s、好ま
しくは5〜1,000mPa・sである。また、本発明
の組成物は、通常使用される種々の方法によって基材上
にコートすることができる。こうしたコーテイング方法
としては、例えばディップコート、スプレーコート、フ
ローコート、ロールコート、スクリーン印刷等の方法を
挙げることができる。これらコーテイングにおける塗膜
の厚さは、通常0.1〜50μmであり、好ましくは1
〜10μmである。また、本発明の組成物をコーテイン
グした後、1秒〜24時間、好ましくは10秒〜1時間
の範囲内で、0〜200℃、好ましくは20〜150
℃、さらに好ましくは40〜100℃の温度で必要に応
じて揮発成分を乾燥させた後、放射線照射して硬化する
ことが好ましい。
【0041】本発明の組成物を硬化させる放射線として
は、紫外線を用いることが好ましい。使用する紫外線は
400nm以下の波長を含むものであり、光源として
は、例えばメタルハライドランプ、水銀灯(高圧、中
圧、低圧いずれでも良い。)を用いることができる。照
射光量としては、通常0.01〜10J/cm2であり、
より好ましくは0.1〜3J/cm2である。
【0042】
【実施例】以下に本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明はこれら実施例に限定されるものではな
い。部は特にことわりのない限り重量部を意味する。
【0043】1.組成物の調製 実施例1 攪拌機付きガラス容器中へ、(A)成分としてビスフェ
ノールAジグリシジルエーテル重合体のアクリル酸付加
物(式(1)においてn=1.1)を40部、(B)成
分としてSR399E(サートマー社製)を60部、
(C)成分として1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニ
ルケトンを5部、希釈溶剤として酢酸ブチル20部、キ
シレンを10部およびイソプロピルアルコールを70部
を加え室温で均一になるまで攪拌後、(D)成分として
日本シリカ工業(株)製のシリカ粒子、Nipsil
E220A(二次粒子径1〜2μm<コールター平均粒
子径法による>)を0.5部、タルク LMS−300
(富士タルク工業(株)製)を4部加えた。溶液中のシ
リカ粒子とタルク粒子が均一分散するまでホモデイスパ
ー(特殊機化工業(株) TKホモディスパー2.5
型)で約10分間攪拌することにより、表1、実施例1
に示す組成物を作製した。
【0044】実施例2〜14および比較例1〜4 組成物は表1および表2に示す配合で前記実施例1と同
様の操作で作製した。なお、表1および表2における各
成分は以下のとおりである。 (A)成分 (A)−1:ビスフェノールAジグリシジルエーテル重
合体のアクリル酸付加物(上記式(1)においてn=
1.1) (A)−2:ビスフェノールAジグリシジルエーテル重
合体のアクリル酸付加物(上記式(1)においてn=
3.0) (B)成分 (B−1):ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペ
ンタアクリレート (C)成分 (C)−1:Irgacure 184(チバガイギー
社製) (C)−2:Irgacure 907(チバガイギー
社製) (C)−3:ベンゾフェノン (D)成分 (D)−1:Nipsil E220A(日本シリカ工
業(株)製、二次粒子径1〜2μm) (D)−2:タルク LMS−300(富士タルク工業
(株)製) (D)−3:炭酸カルシウム カルシーズ−P(神島化
学工業(株)製) その他の成分 (E)−1:ジメチルアミノエチルアクリレート (E)−2:N−ビニルピロリドンとイソボルニルアク
リレートの重量比50対50の共重合体 (E)−3:スチレンを主鎖成分とするアクリル基含有
樹脂 AP−2150(新中村化学工業(株)製) (E)−4:アクリロイルモルホリン (E)−5:トリメチロールプロパントリアクリレート
【0045】
【表1】
【0046】
【表2】
【0047】2. 組成物の塗布と硬化 塩化ビニルと酢酸ビニルの共重合樹脂からなるフィルム
上、もしくはガラス板上にNo.10バーコーターで乾
燥後の膜厚が5μmになるように作製した組成物の各々
をコートした後、得られた塗布膜を90℃で10分間乾
燥した。
【0048】3. 組成物の硬化 上記乾燥した塗布膜に、空気中で紫外線照射装置(アイ
グラフィックス(株)製 形式UBXO311−00、
光源:120W/cmのメタルハライドランプ)を用い
て、照射量1.0J/cm2で紫外線照射し、硬化塗膜を
作成した。
【0049】4. 硬化塗膜の評価 上記硬化塗膜を試験片として、下記方法により評価し
た。結果を表3および表4に記す。
【0050】(1)鉛筆硬度:ガラス板上にコートして
得られた硬化塗膜を用い、JISK5400鉛筆硬度試
験に従い評価した。 (2)基材に対する密着性:JISK5400に従い、
塩化ビニルと酢酸ビニルの共重合樹脂からなるフィルム
上にコートして得られた硬化塗膜に1mm間隔で縦横1
0本の碁盤目状の切り込みを入れ、その後セロハンテー
プで剥離試験を実施した。硬化塗膜の剥離がないものを
○、剥離があるものを×として評価した。 (3)硬化塗膜上とインキの密着性:JISK5400
に従い、塩化ビニルと酢酸ビニルの共重合体樹脂からな
るフィルム上にコートして得られた硬化塗膜に、UVイ
ンキを塗布した後、空気中で紫外線照射装置(アイグラ
フィックス(株)製形式UBXO311−00)を用い
て、照射量1.0J/cm2で紫外線照射して得られたU
Vインキ硬化塗膜に1mm間隔で縦横10本の碁盤目状
の切り込みを入れ、その後セロハンテープで剥離試験を
実施した。UVインキ硬化塗膜の剥離がないものを○、
剥離があるものを×として評価した。 (4)耐スクラッチ性:塩化ビニルと酢酸ビニルの共重
合樹脂からなるフィルム上にコートして得られた硬化塗
膜を用い、爪での引っかき試験10回で硬化塗膜が剥離
しないものを○とし、剥離するものを×とした。
【0051】(5)耐指紋付着性:ポリエステルフィル
ム上にコートして得られた硬化塗膜を用い、ナタネ油で
指を濡らした後、木綿布で軽くふき取った状態での指紋
の付着性を目視で評価した。指紋の跡が認められないも
のを○とし、認められるものを×とした。
【0052】
【表3】
【0053】
【表4】
【0054】
【発明の効果】本発明の放射線硬化性樹脂組成物は、硬
度が高く、基材との密着性、耐スクラッチ性、耐光性、
耐熱性および硬化膜の外観が良好で硬化膜表面への指紋
付着が少なく、硬化膜表面への印刷適性が良好であると
いった優れた特徴を有している。特に感熱型の情報記録
担体の表面保護コートの製造に適している。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宇加地 孝志 東京都中央区築地二丁目11番24号 日本合 成ゴム株式会社内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (A)下記式(1) 【化1】 ここで、φはパラフェニレン基であり、kは1〜10の
    数であるで表されるビスフェノールAジグリシジルエー
    テル重合体のアクリル酸エステル、(B)ジペンタエリ
    スリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、(C)
    放射線重合開始剤および(D)無機粒子を含み、(A)
    成分と(B)成分の重量の合計を100重量部として、
    (A)成分が10〜50重量部、(B)成分が50〜9
    0重量部、(C)成分が0.1〜10重量部、(D)成
    分が0.1〜10重量部、である放射線硬化性樹脂組成
    物。
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