JPWO2014189075A1 - 積層体 - Google Patents

Abstract

基材と、この基材上に積層された表層を含む積層体であって、この表層は、この基材側とは反対側の表面に微細凹凸構造が形成されており、この表層は、活性エネルギー線硬化性組成物を硬化させた硬化物であり、この活性エネルギー線硬化性組成物が、平均粒子径が、この微細凹凸構造の隣り合う凸部同士の間隔を１００％としたとき、この間隔の８０％以上である粒子を含有する活性エネルギー線硬化性組成物である積層体。

Description

本発明は、微細凹凸構造を有する積層体、並びにこれを用いた反射防止物品、映像装置及びタッチパネルに関する。
本願は、２０１３年５月２１日に、日本に出願された特願２０１３−１０６７３４号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。

各種ディスプレイ、レンズ、ショーウィンドー等の空気と接する界面（表面）では、太陽光や照明等が表面で反射することによる視認性の低下が問題点となっている。反射を減らすための方法としては、フィルム表面での反射光と、フィルムと基材の界面での反射光とが干渉によって打ち消し合うように、屈折率の異なる数層のフィルムを積層する方法が知られている。これらのフィルムは、通常、スパッタリング、蒸着、コーティング等の方法で製造される。しかし、このような方法では、フィルムの積層数を増やしても反射率及び反射率の波長依存性の低下には限界がある。また、製造コストを削減すべく積層数を減らすためには、より低い屈折率を有する材料が求められている。

材料の屈折率を下げるためには、何らかの方法で材料中に空気を導入することが有効であるが、フィルム表面の屈折率を下げる方法の一つとして、例えばフィルムの表面に微細凹凸構造を形成する方法が広く知られている。この方法によれば、微細凹凸構造が形成された表面の層全体の屈折率が、空気と微細凹凸構造を形成する材料との体積比により決定されるため、大幅に屈折率を下げることが可能になる。その結果、積層数が少なくても反射率を低下させることができる。

また、ガラス基板上に形成された反射防止膜において、角錐状の凸部が膜全体に連続的に形成された反射防止膜が提案されている（例えば、特許文献２参照）。特許文献２に記載のように、角錐状の凸部（微細凹凸構造）が形成された反射防止膜は、膜面方向に切断した時の断面積が連続的に変化し、空気側から基板側に向かって徐々に屈折率が増大していくため、有効な反射防止の手段となる。また、前記反射防止膜は、他の方法では置き換えられない優れた光学性能を示す。

上記のような微細凹凸構造による反射防止膜は、外観上、均一な厚みを有することが好ましい。均一な厚みを発現する手法として、表層を形成する組成物に粒子を添加しチキソトロピー性を付与する手法が知られている（例えば、特許文献１参照）。

耐擦傷性を付与する方法としては、微細突起が球換算直径で１０〜５０ｎｍの粒子と組成物から成ると共に、上記粒子の添加量が重量比で２０〜６０％であることを特徴とする積層体が提案されている（特許文献２参照）。

特表２００１−５２０６８３号公報 特開２００９−２０３５５号公報

特許文献１及び２に記載のように、表層を形成する組成物に平均粒子径が５０ｎｍ以下の粒子を添加すると均一な膜厚を有する積層体を得ることができるが、微細凹凸構造の凸部に粒子が入り込んで硬脆くなるため耐擦傷性が低下する場合がある。
本発明は、表層が均一な膜厚を有し、且つ耐擦傷性にも優れる積層体を得ることを課題とする。

本発明の一実施形態は、微細凹凸構造が形成された表面を有する表層を備える積層体であって、前記表層が活性エネルギー線硬化性組成物の硬化物であり、前記活性エネルギー線硬化性組成物が、平均粒子径が微細凹凸構造の隣り合う凸部同士の間隔の８０％以上である粒子を含有することを特徴とする積層体である。

本発明の一形態は、前記積層体を備えた反射防止物品である。

本発明の一形態は、前記積層体を備えた画像表示装置（映像装置ともいう）である。

本発明の一形態は、前記積層体を備えたタッチパネルである。

即ち、本発明は以下に関する。
［１］ 基材と、前記基材上に積層された表層を含む積層体であって、
前記表層は、前記基材側とは反対側の表面に微細凹凸構造が形成されており、
前記表層は、活性エネルギー線硬化性組成物を硬化させた硬化物であり、
前記活性エネルギー線硬化性組成物が、平均粒子径が、前記微細凹凸構造の隣り合う凸部同士の平均間隔を１００％としたとき、前記平均間隔の８０％以上である粒子を含有する活性エネルギー線硬化性組成物である積層体。
［２］前記平均粒子径が、前記微細凹凸構造の隣り合う凸部同士の平均間隔を１００％としたとき、前記平均間隔の１００〜１２００％である［１］に記載の積層体。
［３］前記微細凹凸構造の隣り合う凸部同士の平均間隔が２５ｎｍ以上、４００ｎｍ以下である［１］に記載の積層体。
［４］前前記平均粒子径が８０〜２２００ｎｍであり、前記隣り合う凸部同士の平均間隔が１００〜２５０ｎｍである［１］に記載の積層体。
［５］前記粒子が、シリカ（ＳｉＯ_２）、酸化チタン（ＴｉＯ_２）、並びにメタクリル酸メチル及びスチレンからなる群から選択される少なくとも１つを含むポリマー、からなる群から選択される少なくとも１つである［１］〜［４］に記載の積層体。
［６］前記微細凹凸構造の凸部の形状が、前記積層体の高さ方向と直交する方向で前記微細凹凸構造の凸部を切断したときの断面積の占有率が、前記微細凹凸構造の凸部の先端部側から基材側に向かって連続的に増大するような構造である［１］〜［１］〜［４］に記載の積層体。
［７］前記粒子の含有量が、前記活性エネルギー線硬化性組成物１００質量部に対し、１〜７０質量部である、［１］〜［６］に記載の積層体。
［８］前記活性エネルギー線硬化性組成物が、前記活性エネルギー線硬化性組成物の重合性成分の合計量を１００質量部としたとき、３官能以上の多官能（メタ）アクリレートの含有量が１０質量部以上、６０質量部以下であり、２官能（メタ）アクリレートの含有量が４０質量部以上、９０質量部以下である、［１］〜［７］に記載の積層体。
［９］［１］に記載の積層体を含む反射防止物品。
［１０］［１］に記載の積層体を含む映像装置。
［１１］［１］に記載の積層体を含むタッチパネル。

本発明によれば、表層が均一な厚みを有する積層体を提供することができる。また、本発明によれば、布等の摩擦に対する耐擦傷性に優れた積層体を得ることができる。

本発明の一実施形態である積層体の構成の一例を示す模式的断面図である。 本発明の一実施形態である積層体の構成の一例を示す模式的断面図である。 本発明の一実施形態である積層体を含む反射防止物品の一例を示す模式図である。 本発明の一実施形態である積層体を含む映像装置の一例を示す模式図である。 本発明の一実施形態である積層体を含むタッチパネルの一例を示す模式図である。

以下、本発明について詳細に説明する。
図１は、本発明の一実施形態である積層体１０の構成の一例を示す模式的断面図である。図１において、積層体１０は、光透過性を有する基材１１上に活性エネルギー線硬化性組成物を硬化させた硬化物からなる表層１２が積層された構造である。積層体１０において、表層１２の表面（即ち、表層１２が、基材１１と接する面とは反対側の面）に微細凹凸構造が形成されている。

積層体１０においては、表層１２の表面全体に微細凹凸構造が形成されていることが好ましいが、表層１２の表面の一部に微細凹凸構造が形成されている構造でもよい。また、積層体１０が膜形状を有する場合は、基材１１の両面に微細凹凸構造が形成された表層が積層されていてもよい。
表層表面の微細凹凸構造は、自己組織化によって微細凹凸構造が形成されたスタンパを用いて形成されることが好ましい。

本発明の一実施形態である積層体は、表層が活性エネルギー線硬化性組成物を硬化させた硬化物からなり、前記活性エネルギー線硬化性組成物は、平均粒子径が、前記表層の表面に形成される微細凹凸構造の隣り合う凸部同士の平均間隔を１００％としたとき、その平均間隔の８０％以上、８０００％以下である粒子を含む。好ましくは２０００％以下である粒子を含む。前記粒子を含むことで、前記粒子の分子間相互作用によりチキソトロピー性が付与され、活性エネルギー線硬化性組成物を均一な膜厚で基材上に塗工することができるため、表層の硬化後に均一な膜厚を有する積層体を得ることができる。また、前記活性エネルギー線硬化性組成物中に含まれる粒子の平均粒子径を、前記活性エネルギー線硬化性組成物を硬化させることにより形成される微細凹凸構造の隣り合う凸部同士の間隔の８０％以上とすることで、凸部への前記粒子の侵入を抑制し、硬化後の積層体の耐擦傷性の低下を抑制することができる。
なおここでいう「均一な膜厚を有する積層体」における「均一な膜厚」とは、積層体における任意の５ヵ所において、表層の厚み（即ち、表層表面に形成された微細凹凸構造の凸部の頂点から表層と基材との界面までの垂直距離）を測定し、測定した各値の偏差が１μｍ以下である膜厚を意味する。
表層の膜厚としては、１〜５０μｍであることが好ましく、２〜１０μｍであることがより好ましい。表面の硬度が必要とされる場合には、可撓性に問題が生じない程度に厚くすることが好ましい。光学的な透過率をより高くしたりヘイズを低くする必要がある場合には、膜厚の均一性を損なわない程度に薄くすることが好ましい。
ここでいう「チキソトロピー性」とは、粘度が時間経過とともに変化する性質であり、応力を加えると粘度が低下するが、静止すると粘度が上昇して固体状となる性質のことである。

本発明の一実施形態である積層体において、活性エネルギー線硬化性組成物を硬化させた硬化物からなる表層に含まれる粒子としては特に限定されないが、シリカ（ＳｉＯ_２）や酸化チタン（ＴｉＯ_２）からなる無機粒子；メタクリル酸メチルやスチレンを原料とするポリマーからなる有機粒子等が好適に用いられる。
良好な光透過性を得るうえでは、前記活性エネルギー線硬化性組成物を硬化した状態での屈折率と粒子の屈折率とが近いことが望ましく、その観点からシリカ（ＳｉＯ_２）からなる無機粒子や、メタクリル酸メチルやスチレンを原料とするポリマーからなる有機粒子等が好適に用いられる。

本発明の一実施形態である積層体において、前記表層に含まれる前記粒子の大きさとしては、平均粒子径が、前記表層の表面に形成される微細凹凸構造における隣り合う凸部同士の平均間隔を１００％としたとき、前記平均間隔の８０％以上、８０００％以下であり、好ましくは平均粒子径が、前記微細凹凸構造の隣り合う凸部同士の平均間隔を１００％としたとき、前記平均間隔の１００〜１２００％であり、より好ましくは平均粒子径が、前記微細凹凸構造の隣り合う凸部同士の平均間隔を１００％としたとき、前記平均間隔の１００〜３００％である。
平均粒子径を、前記微細凹凸構造の隣り合う凸部同士の平均間隔を１００％としたとき、この平均間隔の８０％以上とすることで、微細凹凸構造の凸部への粒子の侵入が抑制され、積層体の耐擦傷性が良好となる。また、平均粒子径を前記微細凹凸構造の隣り合う凸部同士の平均間隔を１００％としたとき、この平均間隔の１００％以上とすることで、凸部への粒子の侵入がさらに抑制され、積層体の耐擦傷性がさらに良好となる。平均粒子径を前記微細凹凸構造の隣り合う凸部同士の平均間隔を１００％としたとき、この平均間隔の３００％以下とすることで、粒子の組成物への分散性や硬化後の表層の光透過性が良好となる。
なお、ここでいう「微細凹凸構造の隣り合う凸部同士の平均間隔」とは、表層に形成される微細凹凸構造の隣り合う凸部の頂点同士の最短距離の平均値を意味する。
微細凹凸構造の隣り合う凸部同士の平均間隔は、２５ｎｍ以上、４００ｎｍ以下であることが好ましく、１００ｎｍ以上、２５０ｎｍ以下であることがより好ましい。

本発明における「平均粒子径」とは、レーザー解析・散乱法によって求めた粒度分布における積算値５０％での粒子径を意味する。また、本発明においては特に限定されないが、１０％換算値での粒子径と９０％換算値での粒子径の差が小さく、粒子径のばらつきが小さい程、粒子の凸部への侵入が抑制され、活性エネルギー線硬化性組成物への分散性や、活性エネルギー線硬化性組成物を硬化させることにより得られる表層の光透過性が良好となる。より具体的には、１０％換算値での粒子径と９０％換算値での粒子径の差が１μｍ以下であることが好ましい。
平均粒子径は、８０〜２２００ｎｍであることが好ましく、１００〜２０００ｎｍであることがより好ましく、２００〜５００ｎｍであることが更に好ましい。
また、本願の一実施形態である積層体としては、基材と、前記基材上に積層された表層を含む積層体であって、前記表層は、前記基材側とは反対側の表面に微細凹凸構造が形成されており、前記表層は、活性エネルギー線硬化性組成物を硬化させた硬化物であり、前記活性エネルギー線硬化性組成物は、平均粒子径がが８０〜２２００ｎｍの粒子を含み、前記微細凹凸構造の隣り合う凸部同士の平均間隔が１００〜２５０ｎｍである積層体、が挙げられる。

このような粒子の具体例としては、ＳＯ−Ｅ１（商品名、平均粒子径２５０ｎｍ、アドマテックス社製）、ＳＯ−Ｅ２（商品名、平均粒子径５００ｎｍ、アドマテックス社製）、ＳＯ−Ｅ３（商品名、平均粒子径１０００ｎｍ、アドマテックス社製）、ＳＯ−Ｅ５（商品名、平均粒子径１５００ｎｍ、アドマテックス社製）、ＳＯ−Ｅ６（商品名、平均粒子径２０００ｎｍ、アドマテックス社製）、等のシリカ粒子；ＳＴ−４１（商品名、平均粒子径２００ｎｍ、石原産業社製）、等の酸化チタン粒子；ＸＸ−１１９Ｂ（商品名、平均粒子径２７０ｎｍ、積水化成品工業社製）、ＳＳＸ−１０１（商品名、平均粒子径２２０ｎｍ、積水化成品工業社製）、ＸＸ−１０９Ｂ（商品名、平均粒子径３８０ｎｍ、積水化成品工業社製）、ＭＢＸ−５（商品名、平均粒子径１５９０ｎｍ、積水化成品工業社製）、ＳＳＸ−１０５（商品名、平均粒子径４５０ｎｍ、積水化成品工業社製）、ＳＳＸ−１１０（商品名、平均粒子径６９０ｎｍ、積水化成品工業社製）、等のポリマー粒子が挙げられる。

表層に含まれるシリカ粒子としては、反応性基を有することが好ましく、後述する活性エネルギー線硬化性組成物との硬化性の観点から（メタ）アクリル基を有することがより好ましい。反応性基の導入方法としては、例えば下記式のようなシラン化合物による表面処理が挙げられる。
ＳｉＲ ^１ _ａ Ｒ^２ _ｂ （ＯＲ^３）_c
（上式中、Ｒ ^１及びＲ^２は、それぞれ独立して、エーテル結合、エステル結合、エポキシ結合又は炭素−炭素二重結合を有していてもよい炭素数１〜１０の炭化水素残基を表し；Ｒ^３は水素原子、又はエーテル結合、エステル結合、エポキシ結合もしくは炭素−炭素二重結合を有していてもよい炭素数１〜１０の炭化水素残基を表し；ａ及びｂは、それぞれ、０又は１〜３の整数であり、ｃは１〜４の整数であり；但し、ａ＋ｂ＋ｃ＝４である。）

かかるシラン化合物は、シリカ粒子の固形分１モル部に対して０〜３モル部の割合で使用することが好ましい。シラン化合物の使用量が３モル部を超える場合には、積層体の硬度や耐摩擦傷性が低下することがある。

シラン化合物で表面処理されたシリカ粒子は、少量の水の存在下で、シラン化合物とシリカ粒子を加熱攪拌することにより、得ることができる。

シリカ粒子を、活性エネルギー線硬化性組成物に添加する方法としては、水及び有機溶剤に分散したシリカ粒子を、硬化前の活性エネルギー線硬化性組成物に混合し、前記分散媒を留去する方法等の任意の方法を選択することができる。

粒子の含有量は特に限定されないが、活性エネルギー線硬化性組成物を１００質量部とした場合に１〜７０質量部であることが好ましいく、３０〜７０質量部であることがより好ましい。１質量部以上であれば活性エネルギー線硬化性組成物にチキソトロピー性が付与され、硬化後の表層の膜厚が均一となり、７０質量部以下であれば、粒子の活性エネルギー線硬化性組成物への分散性が良好となる。また、３０質量部以上であれば、活性エネルギー線硬化性組成物の硬化後の硬度が十分に上がり、耐擦傷性が良好となる。

本発明の一実施形態である積層体において、表層は活性エネルギー線硬化性線組成物の硬化物であり、前記活性エネルギー線硬化性組成物は、特に限定されないが、活性エネルギー線による硬化性の観点から、メタ（アクリレート）基を有するモノマーを含むことが好ましく、硬化後の耐擦傷性の観点から、活性エネルギー線硬化性組成物中の重合性成分の合計を１００質量部としたとき、３官能以上の多官能（メタ）アクリレート（Ａ）を１０〜６０質量部、２官能の多官能（メタ）アクリレート（Ｂ）を４０〜９０質量部含むことが好ましい。

３官能以上の多官能（メタ）アクリレート（Ａ）としては、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキシド変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキシド変性トリアクリレート、イソシアヌール酸エチレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート、等の三官能モノマー；コハク酸／トリメチロールエタン／アクリル酸の縮合反応混合物；ジペンタエリストールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリストールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート等の多官能のモノマー等が挙げられる。これらは、単独で用いても良く、２種類以上を組み合わせて使用しても良い。

２官能の（メタ）アクリレート（Ｂ）としては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、イソシアヌール酸エチレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキシエトキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（３−（メタ）アクリロキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）プロパン、１，２−ビス（３−（メタ）アクリロキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）エタン、１，４−ビス（３−（メタ）アクリロキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ブタン、ジメチロールトリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加物ジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジビニルベンゼン、メチレンビスアクリルアミド等が挙げられる。これらは、単独で用いても良く、２種類以上を組み合わせて使用しても良い。

３官能以上の多官能（メタ）アクリレート（Ａ）は、活性エネルギー線硬化性組成物中の重合性成分の合計を１００質量部としたとき、１０〜６０質量部であることが好ましい。３官能以上の多官能（メタ）アクリレート（Ａ）の含有量が１０質量部以上であれば、微細凹凸構造の凸部に十分な弾性率が付与され凸部の合一を防ぐことができる。３官能以上の多官能（メタ）アクリレート（Ａ）の含有量が６０質量部以下であれば、微細凹凸構造の凸部に十分な柔軟性が付与され耐擦傷性が良好となる。

２官能の（メタ）アクリレート（Ｂ）は、活性エネルギー線硬化性組成物中の重合性成分の合計を１００質量部としたとき、４０〜９０質量部であることが好ましい。２官能の（メタ）アクリレート（Ａ）の含有量が４０質量部以上であれば、微細凹凸構造の凸部に十分な柔軟性が付与され耐擦傷性が良好となる。２官能の（メタ）アクリレート（Ａ）の含有量が９０質量部以下であれば、微細凹凸構造の凸部に十分な弾性率が付与され凸部の合一を防ぐことができる。
即ち、活性エネルギー線硬化性組成物は、前記活性エネルギー線硬化性組成物中の重合性成分の合計を１００質量部としたとき、３官能以上の多官能（メタ）アクリレート（Ａ）の含有量が１０質量部以上、６０質量部以下であり、２官能の（メタ）アクリレート（Ａ）の含有量が４０質量部以上、９０質量部以下であることが好ましい。

また、活性エネルギー線硬化性組成物には、アクリロイルモルホリンやビニルピロリドン等の粘度調整剤；光透過基材への密着性を向上させるアクリロイルイソシアネート類等の密着性向上剤等も添加することができる。
前記成分の添加量としては、活性エネルギー線硬化性組成物１００質量部に対し、０．１〜３０質量部が好ましい。

また、活性エネルギー線硬化性組成物には、単官能単量体の１種又は２種以上を重合した低重合度の重合体（オリゴマー）を添加してもよい。このような低重合度の重合体としては、具体的には、例えば、エステル基にポリエチレングリコール鎖を有する単官能（メタ）アクリレート類（例えば、「Ｍ−２３０Ｇ」（商品名）、新中村化学社製）や、メタクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムメチルサルフェートの４０／６０共重合オリゴマー（例えば、ＭＲＣユニテック社製、「ＭＧポリマー」（商品名））等が挙げられる。

さらに、活性エネルギー線硬化性組成物には、上述した各種単量体や低重合度の重合体以外にも、帯電防止剤、離型剤、紫外線吸収剤、等が含まれていてもよい。

活性エネルギー線硬化性組成物は離型剤を含んでもよい。活性エネルギー線硬化性組成物に離型剤が含まれると、積層体を連続して製造する際に良好な離型性を維持することができる。離型剤としては、例えば、（ポリ）オキシアルキレンアルキルリン酸化合物が挙げられる。特に、陽極酸化アルミナのモールドを用いた場合には、（ポリ）オキシアルキレンアルキルリン酸化合物とアルミナとが相互作用することで、離型剤がモールドの表面に吸着しやすい。

（ポリ）オキシアルキレンアルキルリン酸化合物は公知の方法で製造してもよく、市販品を用いてもよい。
市販品としては、例えば、城北化学工業株式会社製の「ＪＰ−５０６Ｈ」（商品名）、アクセル社製の「モールドウイズＩＮＴ−１８５６」（商品名）、日光ケミカルズ株式会社製の「ＴＤＰ−１０」、「ＴＤＰ−８」、「ＴＤＰ−６」、「ＴＤＰ−２」、「ＤＤＰ−１０」、「ＤＤＰ−８」、「ＤＤＰ−６」、「ＤＤＰ−４」、「ＤＤＰ−２」、「ＴＬＰ−４」、「ＴＣＰ−５」、「ＤＬＰ−１０」（いずれも商品名）等が挙げられる。

活性エネルギー線硬化性組成物に含まれる離型剤は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

活性エネルギー線硬化性組成物に含まれる離型剤の含有量は、活性エネルギー線硬化性組成物中の重合性成分１００質量部に対して、０．０１〜２．０質量部であることが好ましく、０．０５〜０．２質量部であることがより好ましい。離型剤の含有量が０．０１質量部以上であれば、微細凹凸構造を表面に有する物品のモールドからの離型性が良好である。一方、離型剤の割合が２．０質量部以下であれば、活性エネルギー線硬化性組成物の硬化物と基材との密着性が良好であり、また、硬化物の硬さが適当であり、微細凹凸構造を十分維持できる。

微細凹凸構造は、微細凹凸構造の隣り合う凸部の最先端部同士の最短距離の平均値（平均間隔）ｗ１が可視光の波長以下であることが好ましく、１００ｎｍ以上２５０ｎｍ以下であることがより好ましい。１００ｎｍ以上とすることにより、凸部同士の突起合一を効果的に防ぐことができる。２５０ｎｍ以下とすることにより、可視光の波長よりも十分に小さくなるため、可視光の散乱が効果的に抑制され、優れた反射防止性を付与し易くなる。

なお、本発明において「可視光の波長」とは４００ｎｍの波長を意味する。

凸部１３の平均高さｄ１（例えば、図１に示すｄ１の平均値）は１００ｎｍ以上、４００ｎｍ以下であることが好ましく、１５０ｎｍ以上、２５０ｎｍ以下であることがより好ましい。高さｄ１を１００ｎｍ以上とすることにより、最低反射率の上昇や特定波長の反射率の上昇を防ぐことができ、良好な反射防止性を付与し易くなる。

アスペクト比（凸部１３の平均高さｄ１／隣り合う凸部同士の平均間隔ｗ１）は、０．５〜５．０であることが好ましく、０．６〜２．０であることがより好ましく、０．８〜１．２であることがさらに好ましい。アスペクト比が０．５以上の場合、最低反射率の上昇や特定波長の反射率の上昇を抑制することができ、良好な反射防止性が発現される。また、アスペクト比が５．０以下の場合、表層が擦れた際に微細凹凸構造の凸部が折れ難くなるため、良好な耐擦傷性や反射防止性が発現される。

なお、本発明において「凸部の最先端部同士の最短距離の平均値（平均間隔）」とは、例えば、電子顕微鏡観察によって微細凹凸構造の隣接する凸部間の最先端部同士の最短距離を任意の１０点で測定し、これらの値を平均した値を意味する。
なお、本発明において「凸部の平均高さ」とは、電子顕微鏡観察によって、例えば、図１に示すように、凸部１３の最先端部１３ａから隣接する凹部１４の最底部１４ａまでの垂直方向の距離を、任意の１０点で測定し、これらの値を平均した値を意味する。
また、微細凹凸構造の凸部１３の形状は、特に限定されないが、連続的に屈折率を増大させて低反射率と低波長依存性を両立させた反射防止機能を得るために、図１に示すような略円錐形状や図２に示すような釣鐘形状等のような、膜面と平行な面で凸部１３を切断した時の断面積（即ち、積層体の高さ方向と直交する方向で切断した切断面の断面積）の占有率が、微細凹凸構造の凸部の先端部側から基材側に向かって連続的に増大するような構造であることが好ましい。また、より微細な凸部が複数突起合一して上記の微細凹凸構造を形成していてもよい。

本発明の一実施形態である積層体において、微細凹凸構造の表面の弾性率、つまり表層の押込弾性率は、３０ＭＰａ以上、５００ＭＰａ以下であることが好ましく、５０〜１００ＭＰａであることがより好ましい。表層の押込弾性率が３０ＭＰａ以上であると、微細凹凸構造が十分に硬いため凸部の突起合一を効果的に防ぐことができる。表層の押込弾性率が５００ＭＰａ以下であると、微細凹凸構造が柔らかいため凹部に入り込んだ汚れを押し出すことができる。表層の押込弾性率が１００ＭＰａ以下であると、微細凹凸構造が十分に柔らかいため、微細凹凸構造を自由に変形することができ、凹部に入り込んだ汚れを容易に除去できる。
なお、ここでいう「表層の押込弾性率」とは、次のような方法によって測定した値を意味する。すなわち、構造体の基材側の表面に、光学粘着剤を介して透明なガラス板（松浪硝子工業株式会社製「大型スライドグラス、品番：Ｓ９１１２」、７６ｍｍ×５２ｍｍサイズ）を貼り付けてこれをサンプルとし、微小押し込み硬さ試験機（装置名：フィッシャースコープＨＭ２０００ＸＹｐ、フィッシャーインスツルメンツ社製）を用いて測定した。圧子はビッカース圧子（四面ダイアモンド錐体）を用い、評価は恒温室（温度２３℃、湿度５０％ＲＨ）で行った。評価プログラムは［押し込み（１ｍＮ/ｓ、５秒］→［クリープ（１ｍＮ、１０秒）］→［徐荷（１ｍＮ/ｓ、５秒）］とし、解析ソフト（ＷＩＮ−ＨＣＵ、フィッシャーインスツルメンツ社製）により得られた値を表層の押込弾性率とした。

積層体の表面に微細凹凸構造を形成する方法としては、特に限定されるものではないが、例えば、微細凹凸構造が形成されたスタンパを用いて、射出成形若しくはプレス成形する方法が挙げられる。また、微細凹凸構造の形成方法としては、例えば、微細凹凸構造が形成されたスタンパと光透過基材の間に活性エネルギー線硬化性組成物を充填し、活性エネルギー線照射にて前記活性エネルギー線硬化性組成物を硬化して前記スタンパの凹凸形状を転写した後、前記スタンパから離型する方法も挙げられる。前記方法は、更に活性エネルギー線硬化性組成物に粒子を添加して、粒子を含む活性エネルギー線硬化性組成物を得ることを含んでもよい。
即ち、積層体の表面に微細凹凸構造を形成する方法としては、微細凹凸構造が形成されたスタンパと光透過基材との間に活性エネルギー線硬化性組成物を充填すること、前記充填した活性エネルギー線硬化性組成物に活性エネルギー線を照射すること、前記活性エネルギー線の照射により前記活性エネルギー線硬化性組成物を硬化してスタンパの凹凸形状を転写すること、及び前記スタンパの凹凸形状を転写した硬化物と光透過基材を前記スタンパから離型すること、を含む方法が挙げられる。
前記方法は、更に活性エネルギー線硬化性組成物に粒子を添加して、粒子を含む活性エネルギー線硬化性組成物を得ること、を含んでもよい。
また、積層体の表面に微細凹凸構造を形成する方法としては、微細凹凸構造が形成されたスタンパと光透過基材の間に活性エネルギー線硬化性組成物を充填し、前記活性エネルギー線硬化性組成物にスタンパの凹凸形状を転写した後離型し、その後に活性エネルギー線を照射して前記活性エネルギー線硬化性組成物を硬化させる方法も挙げられる。前記方法は、更に活性エネルギー線硬化性組成物に粒子を添加して、粒子を含む活性エネルギー線硬化性組成物を得ることを含んでもよい。
即ち、積層体の表面に微細凹凸構造を形成する方法としては、微細凹凸構造が形成されたスタンパと光透過基材の間に活性エネルギー線硬化性組成物を充填すること、前記充填した活性エネルギー線硬化性組成物にスタンパの微細凹凸形状を転写すること、前記微細凹凸形状が転写された活性エネルギー線硬化性組成物を前記スタンパから離型すること、及び活性エネルギー線を照射して前記離型した活性エネルギー線硬化性組成物を硬化させること、を含む方法も挙げられる。
前記方法は、更に活性エネルギー線硬化性組成物に粒子を添加して、粒子を含む活性エネルギー線硬化性組成物を得ることを含んでもよい。
これらの中でも、微細凹凸構造の転写性、及び表面組成の自由度を考慮すると、微細凹凸構造が形成されたスタンパと光透過基材の間に活性エネルギー線硬化性組成物を充填し、活性エネルギー線照射にて前記活性エネルギー線硬化性組成物を硬化して前記スタンパの凹凸形状を転写した後、離型する方法が好ましく用いられる。前記方法は、更に活性エネルギー線硬化性組成物に粒子を添加して、粒子を含む活性エネルギー線硬化性組成物を得ることを含んでもよい。
即ち、積層体の表面に微細凹凸構造を形成する方法としては、微細凹凸構造が形成されたスタンパと光透過基材との間に活性エネルギー線硬化性組成物を充填すること、前記充填した活性エネルギー線硬化性組成物に活性エネルギー線を照射すること、前記活性エネルギー線の照射により前記活性エネルギー線硬化性組成物を硬化してスタンパの凹凸形状を転写すること、及び前記スタンパの凹凸形状を転写した硬化物と光透過基材をスタンパから離型すること、を含む方法が好ましい。前記方法は、更に活性エネルギー線硬化性組成物に粒子を添加して、粒子を含む活性エネルギー線硬化性組成物を得ることを含んでもよい。

基材は、特に限定されないが、光透過基材であることが好ましい。光透過基材としては、光を透過する基材であれば特に限定されない。光透過基材の材料としては、例えば、メチルメタクリレート（共）重合体、ポリカーボネート、スチレン（共）重合体、メチルメタクリレート−スチレン共重合体、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリウレタン、ガラス、水晶等が挙げられる。
上記の中でも、メチルメタクリレート（共）重合体、ポリカーボネート、セルローストリアセテート、ポリエステルが好ましい。
光透過基材は、射出成形、押し出し成形、又はキャスト成形のいずれの方法によって作製してもよい。

光透過基材の形状は、特に制限されるものではなく、用途に応じて適宜選択できるが、例えば、用途が反射防止膜である場合には、シート状又はフィルム状であることが好ましい。また、活性エネルギー線硬化性組成物との密着性や、帯電防止性、耐擦傷性、耐候性等の改良のために、光透過基材の表面には例えば各種コーティングやコロナ放電処理が施されていてもよい。
なお、ここでいう「シート状」とは、０．２５ｍｍ以上の板状であることを意味し、「フィルム状」とは、０．２５ｍｍ未満の膜状であることを意味する。

微細凹凸構造が形成されたスタンパを作製する方法は、特に限定されるものではないが、例えば、電子ビームリソグラフィー法やレーザー光干渉法等が挙げられる。例えば、適当な支持基板上に適当なフォトレジスト膜を塗布した後に、紫外線レーザー、電子線、Ｘ線等の光を用いて露光し、続いて現像することによって微細凹凸構造を有する型を形成する。この型をそのままスタンパとして使用することもできる。また、フォトレジスト層を介して支持基板をドライエッチングにより選択的にエッチングした後、フォトレジスト層を除去することで支持基板そのものに直接微細凹凸構造を形成することも可能である。

また、陽極酸化ポーラスアルミナをスタンパとして利用することもできる。例えば、特開２００５−１５６６９５号に開示されているように、アルミニウムをシュウ酸、硫酸、リン酸等の電解液中で所定の電圧にて陽極酸化する方法によって得られるアルミナナノホールアレイをスタンパとして利用してもよい。この方法によれば、高純度アルミニウムを定電圧で長時間陽極酸化した後、一旦酸化皮膜を除去し、再び陽極酸化することで非常に高規則性を有する細孔を自己組織化的に形成できる。さらに、再び陽極酸化する際に陽極酸化処理と孔径拡大処理を組み合わせることで、略円錐状以外にも、凹部が釣鐘形状の微細凹凸構造を形成することも可能である。また、微細凹凸構造を有する原型から電鋳法等で複製型を作製し、これをスタンパとして使用してもよい。

このようにして作製されるスタンパの形状は、特に限定されるものではないが、平板状でもロール状でもよいが、連続的に微細凹凸構造を活性エネルギー線硬化性組成物に転写できる観点から、ロール状が好ましい。

本発明の一実施形態である活性エネルギー線硬化性組成物は、分子中にラジカル重合性結合及びカチオン重合性結合からなる群から選択される少なくとも１つの結合を有する単量体、低重合度の重合体、反応性重合体を適宜含むことができる。また、活性エネルギー線硬化性組成物は、後述する重合開始剤によって硬化することができる。また、活性エネルギー線硬化性組成物は、非反応性重合体を含んでもよい。

活性エネルギー線硬化性組成物を硬化させる際に使用する活性エネルギー線としては、具体的には、例えば、可視光線、紫外線、電子線、プラズマ、赤外線等が挙げられる。

活性エネルギー線の光照射は、例えば、高圧水銀ランプを用いて行われる。積算光照射エネルギー量は、活性エネルギー線硬化性組成物の硬化が進行するエネルギー量であれば特に限定はされないが、例えば１００〜５０００ｍＪ／ｃｍ^２が好ましく、２００〜４０００ｍＪ／ｃｍ^２がより好ましく、４００〜３２００ｍＪ／ｃｍ^２がさらに好ましい。活性エネルギー線の積算光照射量は、活性エネルギー線硬化性組成物の硬化度に影響する場合があるため、適宜選択して光を照射することが望ましい。

活性エネルギー線硬化性組成物の硬化（光硬化）に使用される重合開始剤（光重合開始剤）としては、特に限定されないが、例えば、２，２−ジエトキシアセトキシフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、１−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、２−メチル−４−メチルチオ−２−モルフォリノプロピオフェノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン等のアセトフェノン類；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のベンゾイン類；ベンゾフェノン、２，４−ジクロロベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、ｐ−クロロベンゾフェノン等のベンゾフェノン類；２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド等のホスフィンオキシド類；ケタール類；アントラキノン類；チオキサントン類；アゾ化合物；過酸化物；２，３−ジアルキルジオン化合物；ジスルフィド化合物；フルオロアミン化合物；芳香族スルホニウム類等が挙げられる。 上記の中でも、アセトフェノン類やホスフィンオキシド類が好ましい。 これらの光重合開始剤は、単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。 光重合開始剤の添加量としては、０．１重量部〜５重量部が好ましい。

また、活性エネルギー線硬化性組成物は、光硬化と熱硬化を併用して硬化させてもよい。熱硬化を併用する場合に添加する熱重合開始剤は特に限定されないが、例えば、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオニトリル）、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）、１−［（１−シアノ−１−メチルエチル）アゾ］ホルムアミド、２−フェニルアゾ−４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル、ジメチル２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオネート）等のアゾ化合物；過酸化ベンゾイル、ｔ−ヘキシルパーオキシネオデカノエート、ジ（３−メチル−３−メトキシブチル）パーオキシジカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシネオデカノエート、２，４−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ヘキシルパーオキシピバレート、ｔ−ブチルパーオキシピバレート、３，５，５−トリメチルヘキサノイルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、デカノイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、クミルパーオキシオクタエート、サクシン酸パーオキサイド、アセチルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシイソブチレート、１，１’−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１’−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ジクミルパーオキサイド等の過酸化物等が挙げられる。 上記の中でも、アゾ化合物が好ましい。
これら熱重合開始剤は、単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
熱重合開始剤の添加量としては、０．１重量部〜５重量部が好ましい。

本発明の一実施形態である積層体は、例えば、反射防止膜（反射防止フィルムを含む）や反射防止体等の反射防止物品、画像表示装置（映像装置）、タッチパネル、光導波路、レリーフホログラム、太陽電池、レンズ、偏光分離素子、有機エレクトロルミネッセンスの光取り出し率の向上部材等の光学物品、細胞培養シート等の用途に用いることができる。
本発明の一実施形態である積層体は、特に反射防止膜（反射防止フィルムを含む）や反射防止体等の反射防止物品としての用途に適している。

本発明の一実施形態である積層体は、均一な膜厚を有する表層を備える積層体であり、耐擦傷性が良好であるため、本発明の一実施形態である積層体を反射防止物品、画像表示装置、タッチパネル等の最表面に設置すれば、使用時に外観が良好であり、耐久性に優れた良好な反射防止性能を発揮することができる。

反射防止物品が膜形状である場合には、例えば、液晶表示装置、プラズマディスプレイパネル、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、陰極管表示装置のような画像表示装置；レンズ；ショーウィンドー；自動車メーターカバー；眼鏡レンズ等の対象物の表面に貼り付けて使用される。

反射防止物品が立体形状を有する場合には、予め用途に応じた形状の光透過基材を用いて積層体を製造し、これを上記対象物の表面を構成する部材として使用することもできる。

また、対象物が画像表示装置である場合には、その表面に限らず、その前面板に対して反射防止物品を貼り付けてもよいし、前面板そのものを本発明の積層体から構成することもできる。

本発明のその他の態様としては、
基材と、前記基材上に積層された表層を含む積層体であって、
前記表層は、前記基材側とは反対側の表面に微細凹凸構造が形成されており、
前記表層は、活性エネルギー線硬化性組成物を硬化させた硬化物であり、
前記活性エネルギー線硬化性組成物が、平均粒子径が、前記微細凹凸構造の隣り合う凸部同士の平均間隔を１００％としたとき、前記平均間隔の８０％以上である粒子を含有し、
前記粒子が、シリカ（ＳｉＯ_２）、酸化チタン（ＴｉＯ_２）、並びにメタクリル酸メチル及びスチレンからなる群から選択される少なくとも１つを含むポリマー、からなる群から選択される少なくとも１つである
積層体、が挙げられる。

本発明のその他の態様としては、
基材と、前記基材上に積層された表層を含む積層体であって、
前記表層は、前記基材側とは反対側の表面に微細凹凸構造が形成されており、
前記表層は、活性エネルギー線硬化性組成物を硬化させた硬化物であり、
前記活性エネルギー線硬化性組成物が、平均粒子径が、前記微細凹凸構造の隣り合う凸部同士の平均間隔を１００％としたとき、前記平均間隔の８０％以上である粒子を含有し、
前記粒子が、シリカ（ＳｉＯ_２）、酸化チタン（ＴｉＯ_２）、並びにメタクリル酸メチル及びスチレンからなる群から選択される少なくとも１つを含むポリマー、からなる群から選択される少なくとも１つであり、
前記粒子の含有量が、前記活性エネルギー線硬化性組成物を１００質量部としたとき、１〜７０質量部である
積層体、が挙げられる。

本発明のその他の態様としては、
基材と、前記基材上に積層された表層を含む積層体であって、
前記表層は、前記基材側とは反対側の表面に微細凹凸構造が形成されており、
前記表層は、活性エネルギー線硬化性組成物を硬化させた硬化物であり、
前記活性エネルギー線硬化性組成物が、平均粒子径が、前記微細凹凸構造の隣り合う凸部同士の平均間隔を１００％としたとき、前記平均間隔の８０％以上である粒子を含有し、
前記粒子が、シリカ（ＳｉＯ_２）、酸化チタン（ＴｉＯ_２）、並びにメタクリル酸メチル及びスチレンからなる群から選択される少なくとも１つを含むポリマー、からなる群から選択される少なくとも１つであり、
前記粒子の含有量が、前記活性エネルギー線硬化性組成物を１００質量部としたとき、１〜７０質量部であり、
前記活性エネルギー線硬化性組成物は、前記活性エネルギー線硬化性組成物の重合性成分の合計量を１００質量部としたとき、３官能以上の多官能（メタ）アクリレート（Ａ）が１０〜６０質量部、２官能の多官能（メタ）アクリレート（Ｂ）が４０〜９０質量部である
積層体、が挙げられる。

以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

＜各種評価及び測定方法＞
（膜厚均一性の測定）
膜厚計（ミツトヨ社製、ＡＢＳデジマチックインジケーターＩＤ−Ｆ１２５）を用いて、積層体の任意の５点の表層の厚み（即ち、表層に形成された微細凹凸構造の凸部の最先端部から、表層と基材との界面までの垂直距離）を測定し、各値の偏差が１μｍ以下である場合をＡ、偏差が１μｍを超える場合をＢとした。

（耐擦傷性の測定）
１００ｇ／ｃｍ２の圧力でケイドライ（日本製紙クレシア社製）にて表層を擦った際に、蛍光灯下で筋状の傷の有無を目視観察し、傷が確認されなかった場合をＡ、傷が確認された場合をＢとした。

（透明性の測定）
ヘーズメーターＮＤＨ２００（日本電色社製）を用いて、ＪＩＳ−Ｋ７１３６に準じて、ガラス板Ｓ９１１２（松浪硝子社製）に積層体を透明粘着剤（ＯＰＴＥＲＩＡ ＭＯ−３００６Ｃ、リンテック社製）で貼り付けたサンプルのヘーズを測定した。ヘーズが１０％未満のものをＡ、１０％以上のものをＢとした。

（電子顕微鏡によるサンプル表面の観察）
走査電子顕微鏡（日本電子社製、「ＪＳＭ‐７４００Ｆ」）を用いて、加速電圧３．００ｋＶの条件で、スタンパ及び積層体の表面に形成された微細凹凸構造を観察した。なお、積層体の観察に関しては、プラチナを１０分間蒸着した後に観察を行った。得られた画像から、隣り合う凸部同士の距離（間隔）と凸部の高さをそれぞれ１０点ずつ測定し、平均値を求めた。

＜スタンパの作製＞
電解研磨されたアルミニウム円盤（純度９９．９９質量％、厚さ２ｍｍ、φ６５ｍｍ）をアルミニウム基材として用いた。１５℃に調整した０．３Ｍシュウ酸水溶液にアルミニウム基材を浸漬させて、直流安定化装置の電源のＯＮ／ＯＦＦを繰り返すことでアルミニウム基材に間欠的に電流を流すことにより、アルミニウム基材を陽極酸化させた。次に、３０秒おきに８０Ｖの定電圧を５秒間印加する操作を６０回繰り返し、前記アルミニウム基材に細孔を有する酸化皮膜を形成した。続いて、前記酸化皮膜を形成したアルミニウム基材を６質量％のリン酸と１．８質量％のクロム酸を混合した７０℃の水溶液中に６時間浸漬させて、酸化皮膜を溶解除去した。前記酸化皮膜を溶解除去したアルミニウム基材を１６℃に調整した０．０５Ｍのシュウ酸水溶液に浸漬させて８０Ｖで５秒間陽極酸化を施した。続いて、前記アルミニウム基材を３２℃に調整した５質量％リン酸水溶液中に２０分間浸漬させて、酸化皮膜の細孔を拡大する孔径拡大処理を施した。このように、陽極酸化処理と孔径拡大処理を交互に繰り返した。陽極酸化処理と孔径拡大処理はそれぞれ５回ずつ行った。得られたスタンパをＴＤＰ−８（日光ケミカルズ株式会社製）の０．１質量％水溶液に１０分間浸漬させた後、引き上げて一晩乾燥させることにより、離型処理を施した。

得られたポーラスアルミナの表面を電子顕微鏡で観察したところ、隣り合う凸部同士の距離（間隔）が１８０ｎｍ、深さが１５０ｎｍの略円錐状のテーパー状凹部からなる微細凹凸構造が形成されていた。

［実施例１］
＜積層体の製造＞
以下の材料を混合して活性エネルギー線硬化性組成物を調製した。

・エチレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（「カヤラッドＤＰＥＡ−１２」、１分子内のエチレンオキサイド構造単位数ｎ＝１２、日本化薬社製）５０質量部
・アロニックスＭ−２６０（商品名、東亜合成社製、ポリエチレングリコール鎖の平均繰り返し単位は１３）５０質量部
・ＳＯ−Ｅ１（商品名、シリカ粒子、平均粒子径２５０ｎｍ アドマテックス社製）５質量部
・イルガキュア１８４（商品名、ＢＡＳＦ社製）１質量部
・イルガキュア８１９（商品名、ＢＡＳＦ社製）０．５質量部
・ＴＤＰ−２（商品名、日光ケミカルズ株式会社製）０．１質量部

前記活性エネルギー線硬化性組成物をスタンパ上に数滴垂らし、トリアセチルセルロースフィルム（ＦＴＴＤ８０ＵＬＭ（商品名）、富士フィルム社製）で押し広げながら被覆した。続いて、フィルム側から積算光照射量１０００ｍＪ／ｃｍ^２のエネルギーで紫外線を照射して活性エネルギー線硬化性組成物を光硬化させた。図１に示すような、隣り合う凸部同士の平均間隔ｗ１が１８０ｎｍ、凸部の平均高さｄ１が１５０ｎｍの微細凹凸構造を有する積層体を得た。

＜評価＞
得られた積層体について表層の膜厚均一性、耐擦傷性及び透明性の各評価を行った。得られた積層体は表層の膜厚が均一で耐擦傷性が良好であった。結果を表１に示す。

表１中の略号は下記の通りである。
ＳＯ−Ｅ１：（商品名、シリカ粒子、平均粒子径２５０ｎｍ、アドマテックス社製）
ＳＯ−Ｅ２：（商品名、シリカ粒子、平均粒子径５００ｎｍ、アドマテックス社製）
ＳＯ−Ｅ３：（商品名、シリカ粒子、平均粒子径１０００ｎｍ、アドマテックス社製）
ＳＯ−Ｅ５：（商品名、シリカ粒子、平均粒子径１５００ｎｍ、アドマテックス社製）
ＳＯ−Ｅ６：（商品名、シリカ粒子、平均粒子径２０００ｎｍ、アドマテックス社製）
ＡＥＲＯＳＩＬ３００：（商品名、シリカ粒子、平均粒子径７ｎｍ、アエロジル社製）
ＳＴ−４１：（商品名、酸化チタン粒子、平均粒子径２００ｎｍ、石原産業社製）
ＸＸ−１１９Ｂ：（商品名、ポリマー粒子、平均粒子径２７０ｎｍ、積水化成品工業社製）
ＳＳＸ−１０１：（商品名、ポリマー粒子、平均粒子径２２０ｎｍ、積水化成品工業社製）ＸＸ−１０９Ｂ（商品名、ポリマー粒子、平均粒子径３８０ｎｍ、積水化成品工業社製）
ＭＢＸ−５：（商品名、ポリマー粒子、平均粒子径１５９０ｎｍ、積水化成品工業社製）ＳＳＸ−１０５：（商品名、ポリマー粒子、平均粒子径４５０ｎｍ、積水化成品工業社製）
ＳＳＸ−１１０：（商品名、ポリマー粒子、平均粒子径６９０ｎｍ、積水化成品工業社製）
ＸＸ−１１５Ｂ：（商品名、ポリマー粒子、平均粒子径２７０ｎｍ、積水化成品工業社製）

［実施例２〜１４］
表１に示す組成に変更した以外は実施例１と同様にして積層体を得た。結果を表１に示す。実施例２〜１４で得られた積層体においては、表層の膜厚の均一性及び耐擦傷性が良好であった。

［比較例１〜３］
表１に示す組成に変更した以外は実施例１と同様にして積層体を得た。結果を表１に示す。比較例１は粒子を含まないため表層の膜厚の均一性が悪かった。比較例２及び３は粒子の平均粒子径が微細凹凸構造の隣り合う凸部同士の間隔の８０％未満であったため、凸部に粒子が侵入することで耐擦傷性が悪かった。

本発明の一実施形態である積層体は、優れた光学性能を維持しながら、外観が良好で、耐擦傷性に優れることから、テレビ、携帯電話、携帯ゲ−ム機等の各種ディスプレイ、タッチパネル、ショーケース、外装カバー等に利用可能であるから、産業上極めて有用である。

１０：積層体
１１：基材
１２：表層
１３：凸部
１４：凹部
１５：透明接着層
１６：透明ガラス体
１７：映像表示部材
１８：空隙部
１９：透明電極積層部材
２０：タッチパネル部材
２１：支持部材

Claims (11)

1. 基材と、前記基材上に積層された表層を含む積層体であって、
   前記表層は、前記基材側とは反対側の表面に微細凹凸構造が形成されており、
   前記表層は、活性エネルギー線硬化性組成物を硬化させた硬化物であり、前記活性エネルギー線硬化性組成物が、平均粒子径が、前記微細凹凸構造の隣り合う凸部同士の平均間隔を１００％としたとき、前記平均間隔の８０％以上である粒子を含有する活性エネルギー線硬化性組成物である積層体。
2. 前記平均粒子径が、前記微細凹凸構造の隣り合う凸部同士の平均間隔を１００％としたとき、前記平均間隔の１００〜１２００％である請求項１に記載の積層体。
3. 前記微細凹凸構造の隣り合う凸部同士の平均間隔が２５ｎｍ以上、４００ｎｍ以下である請求項１に記載の積層体。
4. 前記平均粒子径が８０〜２２００ｎｍであり、前記隣り合う凸部同士の平均間隔が１００〜２５０ｎｍである請求項１に記載の積層体。
5. 前記粒子が、シリカ（ＳｉＯ_２）、酸化チタン（ＴｉＯ_２）、並びにメタクリル酸メチル及びスチレンからなる群から選択される少なくとも１つを含むポリマー、からなる群から選択される少なくとも１つである請求項１〜４に記載の積層体。
6. 前記微細凹凸構造の凸部の形状が、前記積層体の高さ方向と直交する方向で前記微細凹凸構造の凸部を切断したときの断面積の占有率が、前記微細凹凸構造の凸部の先端部側から基材側に向かって連続的に増大するような構造である請求項１〜４に記載の積層体。
7. 前記粒子の含有量が、前記活性エネルギー線硬化性組成物１００質量部に対し、１〜７０質量部である、請求項１〜６に記載の積層体。
8. 前記活性エネルギー線硬化性組成物が、前記活性エネルギー線硬化性組成物の重合性成分の合計量を１００質量部としたとき、３官能以上の多官能（メタ）アクリレートの含有量が１０質量部以上、６０質量部以下であり、２官能（メタ）アクリレートの含有量が４０質量部以上、９０質量部以下である、請求項１〜７に記載の積層体。
9. 請求項１に記載の積層体を含む反射防止物品。
10. 請求項１に記載の積層体を含む映像装置。
11. 請求項１に記載の積層体を含むタッチパネル。

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