TWI451077B - 外觀檢查裝置 - Google Patents

Description

外觀檢查裝置 發明之技術領域

本發明係有關於一種進行晶圓等工件之周緣部之外觀檢查的外觀檢查裝置。

相關技術說明

於半導體晶圓等工件形成電路等圖案時，會因熱處理而於工件上產生翹曲或內部應力。當工件之翹曲或內部應力變大時，工件會於線路之製造過程中破裂，因此藉由預先觀察工件之周緣部，檢查是否具有將來有可能會導致破裂的裂痕是已知的。

觀察工件之周緣部之裝置，例如，特開2003-243465號公報所揭示之設置鄰近工件周緣部之C型照明部，並於遠離工件及照明部之位置設有攝像攝相機者。照明部沿著順沿工作部周緣之厚度方向上之預定圓弧形成照明面，並放射照明光使光朝圓弧之中心匯集，而攝像攝相機配置成位於來自照明部之照明光之反射光之明視場範圍內。

然而，於習知裝置構造中，需將攝像攝相機設於明視場範圍內方可成像。因此，可觀察之範圍狹小。

於習知照明部中，於寬廣之範圍內明亮地照明工件是困難的，故一但移動攝像攝相機，便無法良好地進行在明視場之觀察。

為詳細地觀察、分析工件之周緣部，以可進行在暗視 場之觀察為佳，但於習知裝置構造中卻無法進行在暗視場之觀察。

發明要旨

本發明係有鑑於如此之情況而作成者，主要目的係可於寬廣之領域內進行良好之明視場觀察。又，另一目的係亦可進行在暗視場之觀察。

本發明之外觀檢查裝置包含有：周緣觀察裝置，係觀察被支撐部支撐之工件之周緣部者；及周緣照明裝置，係照明前述周緣裝置之觀察位置者，且前述周緣照明裝置具有複數個照明位於觀察位置之前述工件之周緣部的面光源，並且該等面光源分別配置於位於觀察位置之前述工件之周緣部之上方、下方及側方，以包圍前述工件之周緣部。

該外觀檢查裝置中，當點亮複數個配置成包圍工件之周緣部之面光源時，可分別從工件之周緣部的上方、下方及側方照明工件。周緣觀察裝置可進行自其他方向照明之工件周緣部之觀察。

依據本發明，可以複數個面光源明亮地照明工件之周緣部，故即使改變以周緣觀察裝置觀察之位置，亦可得到鮮明之像。

由附加圖式及本發明實施形態之記載，發明所屬技術領域中具通常知識者應可清楚本發明之前述及其他目的之作用、效果等。

發明之詳細說明

參照圖式詳細說明實施本發明之最佳形態。然而，本發明本身並未限定於該等。

如第1圖所示，外觀檢查裝置1設有於基座2上吸著固持作為工件之晶圓W的XY θ臺3與Z臺4。

XY θ臺3具有支撐晶圓W之支撐部3A，且支撐部3A中設有未圖示之可吸著固持晶圓W之內面中央之吸著部。XY θ臺3係構成為可使支撐部3A於水平方向直交之2方向(X方向、Y方向)上移動，且XY θ臺3可繞於XY方向上直交之Z軸旋轉。又，XY θ臺3之驅動係藉由未圖示之馬達控制。且馬達係使用如伺服馬達或步進馬達之可精定位之馬達。

Z臺4係使用以馬達驅動滑件4A於Z方向升降之精密臺。且Z臺4中所使用之馬達亦可與前述同樣地為可精定位之馬達。於Z臺4之滑件4A上，裝載有周緣觀察裝置5與周緣照明裝置6。

周緣觀察裝置5具有固定於Z臺4之滑件4A之固定部11、藉由固定部11被支撐於較晶圓W靠近上方之觀察光學系統12、及配置於觀察光學系統12之上部，並具有與晶圓W之主表面平行地配設有攝像面之攝像元件之攝像部13。此外，亦具有用以將來自觀察光學系統12之照明光同軸地投射至晶圓W之反射照明部60。來自反射照明部60之照明光藉設於觀察光學系統12之途中之半鏡(half mirror)61同軸地照明。且於該光軸之前方具有1個第1反射鏡14與2個第2反射鏡15A、15B。如第1圖及第2圖所示，第1反射鏡14在 觀察光學系統12之光軸上，藉凸輪機構等以可移動和轉動的方式支撐於固定部11上。固持第1反射鏡14之支架16A之轉動軸16B係設定於平行於晶圓W之主表面並與觀察光學系統12之光軸直交之方向上。而3個反射鏡14、15A、15B係藉未圖示之凸輪機構等，以一定之經常作業距離(工作距離，以下稱WD)且不偏離光軸地與觀察光學系統12一體地進行移動與轉動。藉此，當以未圖示之馬達轉動轉動軸16B時，便可以第1反射鏡14使反射照明部60之照明光朝晶圓W之周緣部、及晶圓W之上側領域、下側領域反射。另外，第3圖中之第1反射鏡14位於相對觀察光學系統12之光軸傾斜45°之位置。如第4圖所示，當第1反射鏡14位於側面視晶圓W之位置時，便可觀察晶圓W之周緣部之側面。當以側面看時光軸面向晶圓W之角度(觀察角度)為0°時，於觀察角度為±45°之範圍內，第1反射鏡14邊轉動邊使第4圖之紙面之水平面內之WD為一定地與觀察光學系統12一體地移動，以進行觀察。

如第3圖、第5圖及第6圖所示，第2反射鏡15A、15B分別配置於晶圓W之周緣部上方與下方，且各與晶圓W隔有相同距離。從側面看時，在第1反射鏡14的更上方及更下方大致水平地各配置1個，以免在攝像畫面形成重像而降低光學性能。當超出前述±45°之觀察角度時，第2反射鏡15A、15B係構成為可以利用設置於固定部11之支架17來改變傾斜角度。如第5圖所示，當由晶圓W之上方觀察時，第2反射鏡15A之傾斜角度在與第1反射鏡14之凸輪機構等連動而 使觀察光學系統12之光軸由第1反射鏡折回時，會變成可觀察晶圓W周緣部之表面側的角度。同樣地，如第6圖所示，當由晶圓W之下方觀察時，第2反射鏡15B之傾斜角度在由第1反射鏡14折回觀察光學系統12之照明光時，會變成可觀察晶圓W周緣部之內面側的角度。

如第1圖所示，攝像部13係由成像透鏡13A與CCD(電荷耦合裝置)攝相機13B所構成。CCD攝相機13B連接於未圖示之監測器，且可以監測器顯示晶圓W之周緣影像。

如第2圖及第3圖所示，周緣照明裝置6具有固定於周緣觀察裝置5之觀察光學系統12之遮罩12A之下面的上部照明21、與上部照明21對向地配置之下部照明22、及配置於上部照明與下部照明22直交之方向上隔著第1反射鏡14並固定於與晶圓W對向之位置的側部照明23。

上部照明21在從側面看時，配置成比晶圓W及上側之第2反射鏡15A僅有預定距離之上方，並具有於中央設有孔21A之環形。孔21A係形成於來自觀察光學系統12之照明光及觀察所需之充足光束可通過的間隙。上部照明21具有LED(發光二極體)等發光元件、及散射板，且環形之發光面21B成為朝下配置之面光源。上部照明21之外部形狀較第1反射鏡14大很多，且由上部照明21所投射之照明光可從上方大範圍地照明晶圓W之周緣部之觀察位置P1及其周邊。

下部照明22在從側面看時，配置成比晶圓W及下側之第2反射鏡15B僅有預定距離之下方，並固定於Z臺4之滑件4A。下部照明22具有發光元件與散射板，且四角形之發光 面22B成為朝上之面光源。下部照明22之外部形狀較第1反射鏡14大很多，且由下部照明22所投射之照明光可從下方大範圍地照明晶圓W之周緣部之觀察位置及其周邊。

側部照明23配置於第1反射鏡14之背面側，並固定於固定部11。側部照明23從比下側之第2反射鏡15B更靠近下方延伸至較上側之第2反射鏡15A更靠近上方處，並藉發光元件及散射板形成四角形之發光面23B，且由側部照明23所投射之照明光可由徑向之外側大範圍地照明晶圓W之周緣部。

如此，因係受發光面由3方向包圍之構造，故可由大致所有之方向照明晶圓W之周緣部，即使晶圓W之徑向斷面形狀因批而不同，仍可與其對應。又，若有多餘之間隔，更亦可於分別直交於3個照明21~23之面(即，平行於第1圖之紙面的面)上隔著第1反射鏡14配置面光源。又，亦可配置反射鏡以取代面光源。另外，面光源除了LED之外，只要可得到充足之亮度，亦可採用有機EL或液晶顯示器之背光源。

又，如第2圖所示，周緣照明裝置6於XY θ臺3與第1反射鏡14間具有一對斜照明31。斜照明31隔著以第1反射鏡14反射之觀察光學系統12之光軸及反射照明部60之光軸，分別固定於支架32。斜照明31具有複數個LED，且各LED31A配置成傾斜地照明晶圓W周緣部之觀察位置P1。各斜照明31配置成較第1反射鏡14及其他照明21、22、23鄰近晶圓W，且呈點狀地照明晶圓W，且斜照明31配置於與晶圓W之 水平軸大致同一平面上。藉由來自兩方向之斜照明，特別可防止於兩缺口之直線部分中僅有一方形成陰影之狀態，而可均等地照明。

支撐斜照明31之支臂32彎曲成可避開由3個照明21、22、23所包圍之空間25，並可延伸至固定部11之背面，且可自由轉動地安裝於固定部11。如第1圖所示，支臂32連結於汽缸35，且一對之支臂32可受驅動而開閉。當關閉一對支臂32時，各照明31會移動至照明晶圓W之照明位置。當打開一對支臂32時，各斜照明31會自由3個照明21~23所包圍之空間25退避而移動至待機位置。

此外，如第2圖、第3圖及第7圖所示，周緣照明裝置6具有一對隔著晶圓W之上下配置之條狀照明41A、41B，且條狀照明41A、41B固定於自滑件4A延伸之支撐部42。於從平面看時，條狀照明41A、41B相對於連結晶圓W上之觀察點與第1反射鏡14之軸線，於直交之方向細長地延伸，並調整發光面43之角度，以朝觀察位置P1投射照明光。條狀照明41A、41B具有於長度方向排列並設置之發光元件及散射板，並大範圍地照明觀察位置P1及其周圍。另外，亦可為可擴散以纖維導光之光的分批棒狀照明。

此外，如第1圖所示，外觀檢查裝置1設有控制裝置51、照明電源52、及輸入裝置53。控制裝置51可分別控制地連接於各臺3、4、觀察光學系統12、攝像部13、第1反射鏡14、周緣照明裝置6、支臂32。照明電源52可進行反射照明部60及周緣照明裝置6光源之點亮及光量之調整。輸入裝置53因 係接受檢查者之操作者，故具有未圖示之按鈕、開關及操縱桿等。輸入裝置53及控制裝置51亦可使用通用之個人電腦。

接著，說明本實施形態之作用。

另外，初期狀態時，XY θ臺3由第1圖所示之位置水平地移動，並於遠離自周緣觀察裝置5之晶圓接收位置待機，而周緣照明裝置6之斜照明31則配置於空間25外之待機位置。

最初時，將晶圓W裝載於XY θ臺3上。晶圓W係以預先對準裝置於對準之狀態下，藉未圖示之機器等搬運，且定位並載置於XY θ臺3上。當XY θ臺3吸著並固持晶圓W之內面中央後，便依照控制裝置51之指令開始檢查。

當檢查開始後，XY θ臺3水平移動，並視需要使Z臺4驅動，將周緣觀察裝置5之位置調整至最適合觀察晶圓W之位置。當晶圓W之移動結束後，以汽缸35使一對之支臂32轉動，並使為於晶圓W移動時不產生干涉而預先退避之斜照明31移動至第2圖所示之照明位置。

使用周緣觀察裝置5觀察藉反射照明部60及周緣觀察裝置6所照明之晶圓W之周緣部。周緣照明裝置6之上部照明21自上方大範圍地照明晶圓W，且下部照明22自下方大範圍地照明晶圓W，而側部照明23則自側方大範圍地照明晶圓。因該等照明21~23具有相當之大小，故即使照明光被第1反射鏡14、第2反射鏡15A、15B、或斜照明31遮蓋，具有充足光量之照明光仍可到達觀察位置P1。

條狀照明41A、41B由與3個照明21~23不同之角度大範圍地照明晶圓W。斜照明31聚光地照明觀察裝置。當於觀察位置有晶圓W之缺口時，缺口之凹陷部分容易形成陰影，但以斜照明31自傾斜方向照明，缺口之凹陷將不會形成陰影而變得明亮。

反射照明部60依據第1反射鏡14之角度照明不同之位置。當觀察位於觀察位置P1之晶圓W周緣部之側面時，操作輸入裝置53等，如第3圖所示，將第1反射鏡14之傾斜角度設定為45°。反射照明部60之照明光會由第1反射鏡14折回，照明位於觀察位置P1之晶圓W的周緣部之側面。周緣觀察裝置5與反射照明部60同軸地配置，故可得位於觀察位置P1之晶圓W周緣部之側面像。且除了反射照明部60之照明，亦藉由周緣照明裝置6照明觀察位置P1，故可得明亮之像。

當觀察位於觀察位置P1之晶圓W周緣部之上面時，操作輸入裝置53等，如第5圖所示地驅動轉動軸16B，將第1反射鏡14設定於面向上側之第2反射鏡15A之第1角度及位置。藉此，反射照明部60之照明光由第1反射鏡14折回，入射到上側之第2反射鏡15A。進而，由第2反射鏡15A朝晶圓W周緣部之上面折回，照明該部分。周緣觀察裝置5獲得由反射照明部60及周緣照明裝置6明亮地照明之晶圓W周緣部之上面的像。

當觀察位於觀察位置P1之晶圓W周緣部之下面時，如第6圖所示，操作輸入裝置53等使轉動軸16B驅動，將第1 反射鏡14設定於面向下側之第2反射鏡15B之第2角度及位置。藉此，反射照明部60之照明光由第1反射鏡14折回而入射到上側之第2反射鏡15B。進而，由第2反射鏡15B朝晶圓W周緣部之下面折回，照明該部分。周緣觀察裝置5可得到經反射照明部60及周緣照明裝置6明亮地照明之晶圓W周緣部之下面的像。

當設定第1反射鏡14於45°至第1角度間之角度時，可照明由晶圓W觀察位置之側面至上面之預定位置，並得到對應之位置之像。當設定第1反射鏡14於45°至第2角度間之角度時，可照明由晶圓W觀察位置之側面至下面之預定位置，並得到對應之位置之像。

當進行觀察時，檢查者邊以輸入裝置53操作周緣觀察裝置5及照明電源52，邊觀察晶圓W之周緣部。周緣觀察裝置5具有變倍率機能，於提高變焦倍率時，控制裝置51會乘上預設之係數，使全照明之光量增加。

當想於明視場觀察晶圓W時，將反射照明部60及周緣照明裝置6之所有照明點亮，並視需要調光。特別是，以邊觀察周緣裝置5之像，並微調整反射照明部60與上部照明21為佳。藉此，即使於晶圓W之觀察角度、晶圓W之種類、或聚焦倍率改變時，全體仍可變亮並得到良好之明視場照明，而得到鮮明之明視場之像。反射照明部60與上部照明21之微調整操作可簡單地以設於輸入裝置53之開關增減光量。於開關之鄰近處，光量，例如，設置相對最大光量之比例等顯示部時，檢查者即可輕易地確認光量。

當想於暗視場觀察晶圓W時，將除了斜照明31與條狀照明41A、41B以外之照明熄滅。依據晶圓W之觀察角度，分別調光條狀照明41A、41B，且不需要時亦可使該等熄滅。藉此，依據晶圓W之觀察角度、晶圓W之種類、或變焦倍率可得最良之暗視場照明，而得到鮮明之暗視場之像。

於此，將可切換以明視場觀察與以暗視場觀察之按鈕設於輸入裝置53，即可以單觸控進行切換之操作。於控制裝置51中亦可作成表51A，且該表51A使分別於明視場與暗視場中點亮照明與粗調光後之光量對應作為初期值，並依據表51A進行照明之切換。此時，於切換成明視場與暗視場後，依據表51A進行各照明之自動調光。且由該狀態視需要地操作輸入裝置53以進行微調整。

藉由設置表51A，可省略繁雜之粗調光作業。

表51A亦可儲存於每變焦倍率粗調光時之光量之資料，而可更快速地對應變焦倍率之變化。又，亦可對應觀察位置之角度、或晶圓種類而作成表。

如此所進行之外觀檢查之實施係使XY θ臺3旋轉並邊依序將所需檢查之周緣部移動至觀察位置P1。當結束所需之處之檢查後，使汽缸35驅動並使一對之支臂32打開而將斜照明31移動至待機位置。當使XY θ臺3移動至輸出位置後，解除晶圓W之吸著固持，並以機器搬出檢查完成之晶圓W。

依據本實施形態，可調光地配置複數個照明，並由其他方向照明晶圓W，故可於大範圍明亮地照明晶圓W。因此，即使觀察位置改變仍可得鮮明之像。因周緣照明裝置6之照明21~23為大面積之面光源，故即使第1反射鏡14或斜照明31配置於空間25內，仍可相當明亮地照明觀察位置P1之晶圓W。

藉由對複數個照明進行調光，可簡單地調整觀察條件，故不僅於明視場、於暗視場中亦可得鮮明之像。

因於周緣觀察裝置5設有可轉動及與觀察觀光系統12一體地移動之第1反射鏡14、旋轉式之第2反射鏡15A、15B，故不需大幅轉動、或大幅移動CCD攝相機13B，即可改變觀察位置，而可預期裝置構造之簡略化與小型化。

於周緣觀察裝置5中，因各照明21~23為平面形狀，故與習知C字形之光學構件不同且通用性高，可降低裝置成 本。

於第8圖顯示變形例。外觀檢查裝置71之特徵係於形成有周緣照明裝置6之空間25內配置周緣觀察裝置75。周緣觀察裝置75具有於以觀察位置P1為中心之略C字形導軌76安裝有可自由移動之CCD攝相機77。周緣照明裝置6除了未具有第1、第2反射鏡之外，係為與前述相同之構造。於觀察時，使CCD攝相機77沿導軌76移動並觀察所期望之位置，且照明之光量及切換係與前述相同地進行，並進行於明視場與暗視場之觀察。如習知所述，於照明裝置之外側配置CCD攝相機時，需設置用以照明之孔或間隙，以確保CCD攝相機之視場，且因CCD攝相機至晶圓之距離長，故CCD攝相機之移動距離亦長。相對於此，於本外觀檢查裝置71中，因可鄰近晶圓W配置CCD攝相機77，故可預期裝置構造之簡略化、小型化。外觀檢查裝置71亦可為具有2個以上CCD攝相機77之多眼式者。

另外，本發明並未限定於前述實施形態而可廣泛地應用。

例如，外觀檢查裝置1，可單獨使用，亦可安裝於使用顯微鏡進行晶圓表面之檢查之微觀檢查裝置使用。此時，基座2及XY θ臺3係與微觀檢查裝置共用。又，亦可安裝於以目視進行晶圓表面之檢查之巨觀檢查裝置使用。尚可安裝於具有微觀檢查裝置及巨觀檢查裝置之檢查裝置使用。

控制裝置51之表51A並非為必要之構成要素。

上部照明21之外部形狀，並未限定於環狀。設於上部 照明21之間隙，只要為可使來自觀察光學系統12之照明光與觀察所需光束通過者即可，並未限定為孔21A。亦可於下部照明22或側部照明23之背面側配置周緣觀察裝置5。此時，於配置有周緣觀察裝置5之照明22、23，形成可使觀察光學系統12之照明光通過之間隙。

以上，參照特定之實施形態詳細地記載及圖示本發明，但並未意味著該等記載係以限定之意義解釋，藉由參照本申請案之說明書，發明所屬技術領域中具通常知識者應可知曉本發明之其他實施形態。也就是說，已揭示之實施形態可有各種變更，因此，可於不脫離本申請案之申請專利範圍明範圍之前提下，進行其他變更。

1,71‧‧‧外觀檢查裝置

2‧‧‧基座

3‧‧‧XY θ臺

3A,42‧‧‧支撐部

4‧‧‧Z臺

4A‧‧‧滑件

5,75‧‧‧周緣觀察裝置

6‧‧‧周緣照明裝置

11‧‧‧固定部

12‧‧‧觀察光學系統

12A‧‧‧遮罩

13‧‧‧攝像部

13A‧‧‧成像透鏡

13B,77‧‧‧CCD攝相機

14‧‧‧第1反射鏡

15A,15B‧‧‧第2反射鏡

16A,17‧‧‧支架

16B‧‧‧轉動軸

21‧‧‧上部照明

21A‧‧‧孔

21B,22B,23B,43‧‧‧發光面

22‧‧‧下部照明

23‧‧‧側部照明

25‧‧‧空間

31‧‧‧斜照明

31A‧‧‧LED

32‧‧‧支臂

35‧‧‧汽缸

41A,41B‧‧‧條狀照明

51‧‧‧控制裝置

51A‧‧‧表

52‧‧‧照明電源

53‧‧‧輸入裝置

60‧‧‧反射照明部

61‧‧‧半鏡

76‧‧‧導軌

P1‧‧‧觀察位置

W‧‧‧晶圓

第1圖係顯示本發明實施形態之外觀檢查裝置之概略構造之圖。

第2圖係沿第1圖A-A線之平面圖。

第3圖係沿第2圖B-B線之側面圖。

第4圖係顯示觀察晶圓側面時之狀態的圖。

第5圖係顯示觀察晶圓上面時之狀態的圖。

第6圖係顯示觀察晶圓下面時之狀態的圖。

第7圖係第2圖之箭頭C的視圖。

第8圖係顯示周緣觀察裝置之變形例的圖。

6‧‧‧周緣照明裝置

12‧‧‧觀察光學系統

12A‧‧‧遮罩

14‧‧‧第1反射鏡

15A,15B‧‧‧第2反射鏡

16A,17‧‧‧支架

21‧‧‧上部照明

21A‧‧‧孔

21B,22B,23B,43‧‧‧發光面

22‧‧‧下部照明

23‧‧‧側部照明

25‧‧‧空間

31‧‧‧斜照明

31A‧‧‧LED

35‧‧‧汽缸

41A,41B‧‧‧條狀照明

60‧‧‧反射照明部

61‧‧‧半鏡

P1‧‧‧觀察位置

W‧‧‧晶圓

Claims (12)

1. 一種外觀檢查裝置，包含有：周緣觀察裝置，係觀察被支撐部支撐之工件之周緣部者；及周緣照明裝置，係照明前述周緣觀察裝置之觀察位置者，且，前述周緣照明裝置具有複數個照明位於觀察位置之前述工件之周緣部的照明部，並且該等照明部分別對位於觀察位置之前述工件的周緣部之上方、下方及側方進行照明，前述周緣觀察裝置在被前述複數個照明部從上方、下方及側方包圍住的空間內設有可移動或轉動的第1光學構件，前述周緣觀察裝置中，最靠近前述工件之周緣部所配置的第2光學構件係配置成較前述複數個照明部更靠近前述工件的周緣部，前述第2光學構件係可轉動地配置在前述工件的上部或下部之反射鏡，其使由前述第1光學構件折回的照明光反射，並對前述工件的上面或下面照射前述照明光。
2. 如申請專利範圍第1項之外觀檢查裝置，其中前述照明光係配置成包圍前述工件之周緣部。
3. 如申請專利範圍第1項之外觀檢查裝置，其中前述照明部具有分別投射之照明光可到達用前述周緣觀察裝置 觀察前述工件周緣部時之觀察位置的大小。
4. 如申請專利範圍第1項之外觀檢查裝置，其具有對準前述周緣觀察裝置之光軸位置地設有光可通過之間隙的前述照明部。
5. 如申請專利範圍第1至第4項中之任一項的外觀檢查裝置，其中前述照明部係固定地配置。
6. 如申請專利範圍第1項之外觀檢查裝置，其中前述照明部為面光源。
7. 如申請專利範圍第6項之外觀檢查裝置，其中前述面光源具有比前述第1光學構件大的發光面。
8. 如申請專利範圍第1項之外觀檢查裝置，其中前述第1光學構件為反射鏡。
9. 如申請專利範圍第1項之外觀檢查裝置，其中前述周緣檢查裝置具有一對配置成夾著前述工件之上下的條狀照明。
10. 如申請專利範圍第1項之外觀檢查裝置，其中前述周緣檢查裝置具有，在前述工件移動時可利用支臂而退避以便不發生干涉，並且對觀察位置進行聚光照明之斜照明。
11. 如申請專利範圍第1項之外觀檢查裝置，其具有可控制前述周緣照明裝置之控制裝置，且該控制裝置具有使分別於明視場與暗視場中點亮之照明與粗調光後之光量對應作為初期值的表，並且依據該表進行照明之切換。
12. 如申請專利範圍第1項之外觀檢查裝置，其具有可控制 前述周緣照明裝置之控制裝置，且該控制裝置具有儲存有於每變焦倍率粗調光時之光量之資料的表。