KR20050076732A - 미세 패턴 관찰 장치 및 그것을 이용한 미세 패턴 수정 장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 장치 구성 및 제어 방법이 간단하고, 저가격의 미세 패턴 수정 장치를 제공한다.

이 미세 패턴 수정 장치에서는, 피수정 대상 유리 기판(8)을 유리 정반(9)의 표면에 탑재하고, 유리 정반(9)의 이면에 반사막(10)을 형성함과 함께, 링 조명기(3)를 관찰 광학계(2)의 대물 렌즈(11)의 주위에 배치한다. 링 조명기(3)로부터 출사된 링형상의 광은 반사막(10)에서 반사되고, 유리 정반(9) 및 피수정 대상 유리 기판(8)의 피관찰부를 투과하여 대물 렌즈(11)에 입사된다. 따라서, 유리 정반(9)의 하방에 광원 이동 기구를 마련할 필요가 없다.

Description

미세 패턴 관찰 장치 및 그것을 이용한 미세 패턴 수정 장치{FINE PATTERN OBSERVATION APPARATUS AND FINE PATTERN CORRECTION APPARATUS USING THE SAME}

기술 분야

본 발명은 미세 패턴을 투과광에 의해 관찰하는 미세 패턴 관찰 장치 및 그것을 이용한 미세 패턴 수정 장치에 관한 것으로, 특히 LCD(액정 디스플레이)용 컬러 필터의 제조 공정에 있어서 발생하는 결함의 검사, 수정을 위해 사용되는 미세 패턴 관찰 장치 및 그것을 이용한 미세 패턴 수정 장치에 관한 것이다.

종래의 기술

종래부터, LCD의 전극 결함(오픈 결함)에 도전성 페이스트를 도포하여 수정하는 방법(예를 들면 특허 제2983879호 공보 참조)이나, 액정의 컬러 필터의 색 누락 부분에 잉크를 도포하여 수정하는 방법(예를 들면 특개평09-61296호 공보 참조)이 제안되어 있다.

액정의 컬러 필터의 색 누락부를 수정하는 경우 적색(R), 녹색(G), 청색(B)으로 색 분류하여 칠하여진 컬러 필터의 어느 색 부분에 색 누락이 생겨 있는지를 관찰할 필요가 있다. 또한, 색 누락부에 수정용 잉크를 도포하여 수정한 후에도 수정 상태를 확인하기 위해 그 부분을 관찰할 필요가 있다.

컬러 필터의 색을 관찰하는 경우, 낙사(落射) 조명광 관찰에서는 컬러 필터의 색 상태를 관찰할 수 없기 때문에 투과 조명광 관찰할 필요가 있다. 종래는 도 27에 도시한 바와 같이 컬러 필터가 형성된 피수정 대상 유리 기판(50)을 유리 정반(51)상에 탑재하고, 유리 정반(51)의 하방의 집광 렌즈(52)로부터 투과 조명광을 조사하고, 유리 정반(51)의 상방의 대물 렌즈(53)를 통하여 컬러 필터의 색 상태를 확인하고 있다.

그런데, 최근의 액정 기판의 대형화는 눈부시고, 제조 공정에 있어서의 유리 기판 사이즈는, 현재상태의 제조 라인의 유리 기판 사이즈(제 5 세대)로서, 1000×1500㎜, 차기의 제 6 세대에서는 1500×1800mｍ, 제 7 세대에서는 1700×2000㎜이 된다고 한다.

이와 같은 유리 기판의 대형화에 수반하여 수정 장치도 대형화가 필수로 되지만, 단순하게 장치 사이즈를 크게 하는 것은 클린 룸 내에서의 점유 면적의 관계로 허용되지 않기 때문에, 장치 구성을 변경하여 장치 사이즈를 극력 작게 할 것이 필요하게 되어 있다.

도 28의 (a), (b), (c)는 미세 패턴 수정 장치의 구성의 변천을 도시한 도면이다. 유리 기판이 제 3 세대 사이즈 이하인 경우는 도 28의 (a)에 도시한 바와 같이 피수정 대상 유리 기판은 X축방향 및 Y축방향으로 이동 가능하게 마련되고, 수정 헤드는 고정되어 있다. 다음에, 유리 기판이 제 4 및 제 5 세대 사이즈인 경우는 도 28의 (b)에 도시한 바와 같이, 피수정 대상 유리 기판은 Y축방향으로 이동 가능하게 마련되고, 수정 헤드는 X축방향으로 이동 가능하게 마련되었다. 또한, 유리 기판이 제 6 및 제 7 세대 사이즈가 되면, 도 28의 (c)에 도시한 바와 같이 피수정 대상 유리 기판은 고정되고, 수정 헤드가 X축방향 및 Y축방향으로 이동 가능하게 마련되었다.

즉, 유리 기판이 커짐에 따라 유리 기판이 정지하고, 레이저나 관찰 광학계를 탑재한 수정 헤드부가 이동하는 형식으로 된다. 또한, 도 28의 (c)에 도시한 제 6 및 제 7 세대 대응의 장치에서는 유리 정반(51)의 하방에 배치한 투과 조명 광원을, 유리 정반(51)의 상방에 배치한 관찰 광학계와 동기하여 이동시키는 기구가 필요하게 된다.

종래의 미세 패턴 수정 장치에서는 도 29의 (a), (b)에 도시한 방식에 의해 투과 조명 광원을 이동시키고, 투과 조명광 관찰을 실현하고 있다. 즉, 도 29의 (a)의 방식에서는 집광 렌즈(52)를 리니어 가이드(60)에 따라 X축방향으로 이동 가능하게 마련함과 함께, 리니어 가이드(60)를 리니어 가이드(61, 62)에 따라 Y축방향으로 이동 가능하게 마련하고, 집광 렌즈(52)를 관찰 광학계(63)와 동기하여 X축방향 및 Y축방향으로 이동시킨다. 또한, 도 29의 (b)의 방식에서는, X축방향에 배치한 형광등(64)을 리니어 가이드(61, 62)에 따라 Y축방향으로 이동 가능하게 마련하고, 형광등(64)을 관찰 광학계(63)와 동기하여 Y축방향으로 이동시킨다.

종래의 미세 패턴 수정 장치에서는 리니어 가이드(60 내지 62)등의 투과 조명 광원 이동 기구는 유리 정반(51)의 아래에 배치되지만, 이 투과 조명 이동 기구의 가동 범위에는 다른 구성 부재를 배치할 수 없기 때문에, 장치의 높이 방향 치수를 높게 하지 않을 수 없게 되어, 장치 중심(重心)이 높아진다. 이로 인해, 위치 센서, 구동 모터, 구동 안내와 수정 헤드 중심과의 거리가 길어지고, 위치 결정 정밀도가 저하된다.

또한, 투과 조명 이동 기구의 가동 범위에는 다른 구성 부재를 배치할 수 없기 때문에, 피수정 대상 유리 기판(50)을 탑재하는 유리 정반(51)의 지지 부재도 배치할 수 없고, 유리 정반(51)을 그 주위 부분밖에 지지할 수 없다. 이 때문에, 유리 정반(51)의 휨, 지지 강성 부족 등이 문제로 되고, 유리 정반(51)이 갈라질 가능성도 커진다.

또한, 피수정 대상 유리 기판(50)을 반입 배출할 때 유리 정반(51)상에 탑재된 유리 기판(50)을 리프트업하기 위한 리프트업 기구를 투과 조명 이동 기구 아래에 배치하여야 하며, 리프트업 기구의 스트로크를 길게 할 필요가 있다(도 14의 (a), (b) 참조). 리프트업 기구의 스트로크가 길어지면, 리프트업 기구의 스트로크 및 리프트업시의 강성을 확보하기 위해, 리프트업 기구 자체도 복잡하게 된다.

또한, 장치 제어의 관계에서는, 투과 조명 이동 기구를 움직이기 위한 모터 제어 수단을 마련하고, 유리 정반(51)의 상방에 배치된 관찰 광학계(63)와 동기하여 투과 조명 광원을 이동시킬 필요가 있어, 장치 구성 부재의 증가와 제어 수단의 복잡화를 초래한다.

이와 같이, 종래의 투과 조명 이동 기구에 의한 방법에서는 장치 구성, 제어 방법이 복잡하게 되고, 장치 가격도 고가로 된다는 문제가 있다.

그래서, 본 발명의 주된 목적은 장치 구성 및 제어 방법이 간단하고, 저가격의 미세 패턴 관찰 장치 및 그것을 이용한 미세 패턴 수정 장치를 제공하는 것이다.

본 발명에 관한 미세 패턴 관찰 장치는 투명 기판상에 마련되고, 적어도 부분적으로 광을 투과하는 미세 패턴을 관찰하는 미세 패턴 관찰 장치로서, 그 표면에 투명 기판이 탑재되는 투명 정반과, 투명 정반의 표면측에 마련되고, 투명 기판에 조명광을 출사하는 광원과, 투명 정반의 이면측에 마련되고, 광원으로부터 출사된 조명광을 반사시켜 미세 패턴에 조사하는 반사부재와, 투명 정반의 표면측에 마련되고, 미세 패턴의 투과 조명광 관찰을 행하기 위한 관찰 광학계를 구비하는 것이다.

본 발명에 관한 미세 패턴 관찰 장치에서는, 미세 패턴이 형성된 투명 기판을 투명 정반의 표면에 탑재하고, 투명 정반의 표면측에 광원을 마련함과 함께 투명 정반의 이면측에 반사부재를 마련하고, 광원으로부터 출사된 조명광을 반사부재에서 반사시켜 미세 패턴에 조사하고, 투명 정반의 표면측에 마련된 관찰 광학계에서 미세 패턴의 투과 조명광 관찰을 행한다. 따라서 투명 정반의 하방에 광원 이동 기구를 마련할 필요가 없기 때문에, 장치 구성 및 제어 방법의 간단화, 장치의 저가격을 도모할 수 있다.

도 1은 본 발명의 한 실시의 형태에 의한 미세 패턴 수정 장치의 전체 구성을 도시한 사시도이다. 도 1에 있어서, 이 미세 패턴 수정 장치에서는 레이저 장치(1), 관찰 광학계(2), 링 조명기(3) 및 잉크 도포 기구(4)가 Z축 테이블(5)에 고정되어 있고, Z축 테이블(5)은 Z축 방향(상하 방향)으로 이동 가능하게 마련되어 있다. Z축 테이블(5)은 X축 테이블(6)상에서 X축방향(횡방향)으로 이동 가능하게 마련되어 있다. X축 테이블(6)은 Y축 테이블(7)상에서 Y축방향(횡방향)으로 이동 가능하게 마련되어 있다.

X축 테이블(6)의 하방에는, 피수정 대상 유리 기판(8)을 탑재하는 유리 정반(9)이 마련되어 있다. 유리 정반(9)에는 피수정 대상 유리 기판(8)을 반입 배출할 때 리프트업하기 위한 리프트업 기구의 리프터 핀을 통과시키기 위한 리프터 핀 구멍(9a)과, 피수정 대상 유리 기판(8)을 유리 정반(9)의 윗면에 고정하기 위한 진공 흡착용 홈(9b)이 형성되어 있다. 진공 흡착용 홈(9b)의 수개소에는 진공으로 당기기 위한 진공 흡착 구멍이 형성되어 있다.

레이저 장치(1)는, 피수정 대상 유리 기판(8)상의 컬러 필터의 결함부에 도포한 잉크중 불필요한 부분이나, 피수정 대상 유리 기판(8)상의 쇼트 결함의 전극이 연결된 부분에 레이저광을 조사하고, 그 열 에너지로 잉크나 전극 재료를 승화 또는 비산시켜 제거한다. 관찰 광학계(2)는 결함 부분을 촬상하고, 촬상한 화상을 텔레비전 모니터(도시 생략)에 표시한다. 링 조명기(3)는 피수정 대상 유리 기판(8) 및 유리 정반(9)에 광을 조사한다. 잉크 도포 기구(4)는 피수정 대상 유리 기판(8)상의 컬러 필터의 결함부에 잉크 도포하거나, 피수정 대상 유리 기판(8)상의 오픈 결함이라고 불리는 전극의 결여 부분에 도전성 페이스트를 도포한다. 도포한 잉크 또는 페이스트는 자외선 조명(도시 생략) 또는 할로겐 램프 조명(도시 생략)에 의해 광경화 또는 열경화된다.

레이저 장치(1), 관찰 광학계(2), 링 조명기(3) 및 잉크 도포 기구(4)는 Z축 테이블(5)에 부착되어 있기 때문에, 피수정 대상 유리 기판(8) 위에 임의의 높이로 위치시킬 수 있고, 또한 Z축 테이블(5)은 X축 테이블(6) 및 Y축 테이블(7)상에 재치되어 있기 때문에, 피수정 대상 유리 기판(8)에 대해 X축방향 및 Y축방향으로 임의의 위치로 이동할 수 있다. 그 밖에, 각 기구를 제어하기 위한 제어용 컴퓨터(도시 생략)와, 장치 전체를 제어하기 위한 호스트 컴퓨터(도시 생략)가 마련되어 있다.

다음에, 이 패턴 수정 장치의 동작에 관해 설명한다. X축 테이블(6) 및 Y축 테이블(7)을 각각 X축방향 및 Y축방향으로 이동시키고, 또한 Z축 테이블(5)을 Z축방향으로 이동시키고, 관찰 광학계(2)에 의해 피수정 대상 유리 기판(8)상을 촬상한다. 촬상한 화상은 텔레비전 모니터에 표시되고, 오퍼레이터는 그 표시를 보고 필터 결함, 쇼트 결함, 오픈 결함이 있는지의 여부를 육안에 의해 판단한다. 단, 육안에 의하지 않고, 화상 처리에 의해 판단하여도 좋다.

필터 결함의 존재를 판별한 경우는 잉크 도포 기구(4)에 의해 결함부에 잉크를 도포하고 경화시킨다. 경화한 잉크에 의해 불필요부가 생긴 경우는, 레이저 장치(1)로부터 불필요부에 레이저광을 조사하고, 레이저광의 열 에너지로 승화 또는 비산시킨다. 쇼트 결함은 인접하는 전극 패턴끼리가 에칭 불량에 의해 단락하여 버린 것이다. 전극의 쇼트 결함의 존재를 판별한 경우는 레이저 장치(1)로부터 단락 부분에 레이저광을 조사하고, 연결된 부분을 레이저 광의 열 에너지로 승화 또는 비산시킨다. 오픈 결함은 전극 패턴의 일부가 과도한 에칭에 의해 결여된 것이다. 오픈 결함의 존재를 판별한 경우는, 잉크 도포 기구(4)에 의해 결함 부분에 도전성 페이스트 등을 도포하고 경화시킨다.

이하, 이 미세 패턴 수정 장치의 특징이 되는 미세 패턴 관찰 방법에 관해 상세히 설명한다. 이 미세 패턴 관찰 방법에서는 도 2에 도시한 바와 같이 피수정 대상 유리 기판(8)을 탑재하는 유리 정반(9)의 이면에 반사막(10)을 형성함과 함께, 할로겐 램프 광을 광 파이버에 의해 도광하고, 그 광의 출사단(出射端)인 링 조명기(3)를 관찰 광학계(2)의 대물 렌즈(11)의 주위에 배치한다. 링 조명기(3)로부터 출사된 링형상의 광은 대물 렌즈(11)의 광축의 1점에 집속하도록 있다. 링 조명기(3)로부터 출사된 링형상의 광은, 피수정 대상 유리 기판(8)의 피관찰부의 주변 영역 및 유리 정반(9)을 투과하여 반사막(10)에서 반사되고, 유리 정반(9) 및 피수정 대상 유리 기판(8)의 피관찰부를 투과하여 대물 렌즈(11)에 입사된다. 이로써 투과 조명광 관찰이 실현된다.

도 3은 피수정 대상 유리 기판(8)상의 결함이 진공 흡착용 홈(9b)의 진공 흡착 구멍(9c)의 상방에 위치한 상태를 도시한 도면이다. 본 발명의 미세 패턴 관찰 방법에서는 유리 정반(9)의 지지를 유리 정반(9) 전면(全面)에서 행하는 것이 가능하기 때문에, 유리 정반(9)의 이면에 금속제 가대(12)를 배치할 수 있다. 금속제 가대(12)에는 유리 정반(9)의 진공 흡착 구멍(9c)에 대응하는 위치에 배기용 관통 구멍이 형성되어 있다. 배기용 관통 구멍의 상측 개구부의 주위에는 링형상의 오목부가 형성되고, 그 오목부에 링형상의 고무 패킹(13)이 끼워 넣어져 있다. 배기용 관통 구멍의 하측 개구부에는 에어 조인트(14)가 접합되고, 에어 조인트(14)는 에어 호스(15)를 통하여 배기 펌프(도시 생략)에 접속되어 있다.

이와 같은 경우에 있어서도, 에어 조인트(14)를 금속제 가대(12)에 부착할 수 있기 때문에, 유리 정반(9) 이면의 반사막(10)은 진공 흡착 구멍(9c)의 부분만이 빠질 뿐이며, 링 조명기(3)로부터 출사된 광은 진공 흡착 구멍(9c)의 주위에서 반사되고, 투과 조명광 관찰에 충분한 광량을 확보할 수 있다.

또한, 유리 정반(9)에는 피수정 대상 유리 기판(8)을 반입 배출할 때 리프트업하기 위한 리프트업 기구의 리프터 핀(16)을 통과시키기 위한 리프터 핀 구멍(9a)이 형성되어 있다. 도 4는 피수정 대상 유리 기판(8)상의 결함이 리프터 핀 구멍(9a)의 상방에 위치한 상태를 도시한 도면이다. 본 발명의 투과 조명광 관찰 방법에서는 유리 정반(9)의 이면에 반사막(10)을 마련하고 있지만, 리프터 핀 구멍(9a)의 부분에는 반사막(10)을 형성할 수 없다. 그 때문에, 링 조명기(3)로부터 출사된 광을 충분히 반사할 수 없다. 그래서, 리프터 핀(16)의 내부에 LED 조명 광원(17)을 배치하고, 리프터 핀(16)의 선단부로부터 상방을 향하여 광을 조사한다. 이로써, 투과 조명광 관찰에 충분한 광량을 얻을 수 있다.

도 5는 피수정 대상 유리 기판(8)상의 결함이 리프터 핀 구멍(9a)의 가장자리 위치에 존재한 상태를 도시한 도면이다. 이 상태에서는 링 조명기(3)로부터 출사된 광을 반사막(10)에서 반사시킨 광과, LED 조명 광원(17)으로부터 출사된 광을 병용함으로써 투과 조명광 관찰에 충분한 광량을 얻을 수 있다.

그런데, 본 실시의 형태에서는 링 조명기(3)로부터 출사된 광을 유리 정반(9)의 이면에 형성된 반사막(10)에서 반사시켜 투과 조명광 관찰용의 조명광으로서 이용하고 있는 관계상, 링 조명기(3)로부터의 광의 입사각과, 유리 정반(9)의 두께에 의해, 광의 반사 위치가 변화하고, 투과 조명광으로서 이용 가능한 광의 광량이 변화한다. 그래서, 도 6에 도시한 바와 같이, 링 조명기(3)를 집광 렌즈(20)로 치환하고, 최적의 조건을 구하였다.

대물 렌즈(11)를 Φ32㎜로 한 경우, 집광 렌즈(20)로부터의 광의 입사각은 30°부근이 최적이고, 이 경우의 유리 정반(9)의 두께(t)는 19㎜ 정도로 된다. 유리 정반(9)의 두께(t)가 얇아지면, 도 6에 도시한 바와 같이 반사막(10)으로부터 반사한 광이 관찰 위치에 충분히 도달하지 않고, 조명광의 광량이 감소한다. 물론, 이 경우에도 집광 렌즈(20)의 원광원(元光源)의 광량을 크게 하면 광량을 증가시키는 것은 가능하지만 원광원의 가격 상승, 수명 저하는 피할 수 없다. 유리 정반(9)의 두께(t)를 두껍게 하는 방향에 관해서는 두께(t)를 19㎜보다 두껍게 함으로써 약간 광량은 증가하지만 유리 정반(9)의 중량, 가격 등을 고려하면 상책은 아니다.

도 7은 도 6에서 설명한 광량 저하를 집광 렌즈(20)로부터의 광의 입사각을 크게 하여 보충하는 경우를 도시한 것이다. 집광 렌즈(20)로부터의 광의 입사각을 40°로 하면 반사막(10)으로부터 반사하여 오는 광의 광량은 도 6의 경우에 비하여 증가하지만, 집광 렌즈(20)로부터 출사된 광의 일부가 직접적으로 관찰 위치에도 조사되기 때문에, 투과 조명광 관찰상(觀察像)에 이 광에 의한 낙사 조명광 관찰상이 나타나고, 순수한 투과 조명광 관찰상을 얻을 수 없게 된다.

또한, 본 발명은 투과 조명광 관찰을 행하는 것이지만, 이 미세 패턴 수정 장치에서는 낙사 조명광 관찰도 가능하게 되어 있다. 그래서, 본 발명의 구성이 낙사 조명광 관찰에 미치는 영향에 관해 설명한다. 낙사 조명광 관찰을 행하는 경우 도 8에 도시한 바와 같이, 대물 렌즈(11)로부터 낙사 조명광(21)을 출사하고, 관찰 부위에서 반사한 광을 관찰하지만, 본 발명의 투과 조명광 관찰 방법에서는 유리 정반(9)의 이면에 반사막(10)이 형성되어 있기 때문에, 피수정 대상 유리 기판(8)을 투과한 낙사 조명광(21)이 반사막(10)에서 반사되고, 피수정 대상 유리 기판(8)의 이면에서부터 재차 조사된다. 이와 같이 반사막(10)에서 반사되고, 피수정 대상 유리 기판(8)의 이면에서부터 입사한 광은, 투과 조명광 관찰용의 광으로 되기 때문에 이 광에 의한 낙사 조명광 관찰에의 영향이 우려된다.

도 8에 도시한 바와 같이, 유리 정반(9)의 두께(t)가 작은 경우는 피수정 대상 유리 기판(8)의 이면에서부터 입사하는 광의 직경(ΦD1)이 작아지고, 도 9에 도시한 바와 같이, 유리 정반(9)의 두께(t)가 큰 경우는 피수정 대상 유리 기판(8)의 이면에서부터 입사하는 광의 직경(ΦD1)이 커진다. 즉, 유리 정반(9)의 두께(t)가 작을수록 반사막(10)으로부터 반사한 낙사 조명광(21)의 반사광량이 커진다. 이에 관해서는 유리 정반(9)의 두께(t)가 5㎜ 이상이면, 낙사 조명광 관찰에 영향이 미치지 않는 것이 확인되어 있다.

또한, 이 미세 패턴 수정 장치에는 레이저 장치(1)로부터 출사되는 레이저광에 의해 결함 부위의 컷트가 행하여진다. 레이저 장치(1)로부터 출사된 레이저광은, 도 10에 도시한 바와 같이 관찰 광학계(2)의 대물 렌즈(11)를 통하여 피수정 대상 유리 기판(8)상의 결함 부위에 조사된다. 이 레이저광은 피수정 대상 유리 기판(8)상의 결함 부위를 컷트함과 함께, 피수정 대상 유리 기판(8)을 투과하여 반사막(10)에 도달한다. 이 때, 도달한 레이저광의 파워가 강한 경우, 반사막(10)도 레이저광에 의해 컷트되어 버려, 반사막(10)이 본래의 반사 기능을 다할 수 없게 될 가능성이 있다.

도 10에 도시한 바와 같이, 유리 정반(9)의 두께(t)가 작은 경우, 대물 렌즈(11)로부터 출사된 레이저광(22)의 반사막(10) 표면에서의 집광 지름(ΦD2)이 작아지고, 도 11에 도시한 바와 같이 유리 정반(9)의 두께(t)가 큰 경우, 대물 렌즈(11)로부터 출사된 레이저광(22)의 반사막(10) 표면에서의 집광 지름(ΦD2)이 커진다. 즉, 유리 정반(9)의 두께(t)가 작을수록 레이저광(22)의 파워 밀도가 높은 상태로 반사막(10)에 조사되게 된다. 이에 관해서는 유리 정반(9)의 두께(t)가 12㎜ 이상 있으면, 대물 렌즈(11)로부터 출사된 레이저광(본 수정 장치의 용도로서 충분한 레이저 파워)에 의해, 반사막(10)이 영향을 받지 않는 것을 확인한다.

이상의 결과로부터, 유리 정반(9)의 두께(t)가 12㎜ 이상 있으면, 낙사 조명광 관찰에의 영향 및 레이저광(22)에 의한 반사막(10)에의 영향도 없게 된다. 최종적으로는 대물 렌즈(11)의 직경이 정해지면, 링 조명기(3)로부터 출사된 광의 유리 정반(9)에의 입사각으로부터 최적인 유리 정반(9)의 두께(t)가 계산 가능해진다. 단, 유리 정반(9)의 두께(t)는 상술한 바와 같이 12㎜ 이상으로 할 필요가 있다.

본 실시의 형태에서는 대물 렌즈(11)의 직경이 32㎜이고, 이 경우는 상술한 바와 같이 링 조명기(3) 또는 집광 렌즈(20)로부터 출사된 광의 유리 정반(9)에의 입사각은 30°, 유리 정반(9)의 두께(t)는 19㎜가 최적이 된다.

다음에, 피수정 대상 유리 기판(8)의 리프트업 기구에 관해 설명한다. 리프트업 기구는 도 12에 도시한 바와 같이 복수의 리프터 핀(16)과, 금속제 테이블(23)과, 승강 장치(24)를 포함한다. 복수의 리프터 핀(16)은 금속제 테이블(23)상에 소정의 간격으로 세워 설치되어 있다. 유리 정반(9)에는 각 리프터 핀(16)에 대응하는 위치에 리프터 핀 구멍(9a)이 형성되어 있다. 금속제 가대(12)에는 각 리프터 핀 구멍(9a)에 대응하는 위치에 관통 구멍이 형성되어 있다. 승강 장치(24)는 금속제 테이블(23)을 Z축방향(상하 방향)으로 승강시킨다.

도 13의 (a) 내지 (f)는 피수정 대상 유리 기판(8)의 반입 방법을 도시한 도면이다. 우선 도 13의 (a)에 도시한 바와 같이, 승강 장치(24)에 의해 금속성 테이블(23)을 상승시키고, 각 리프터 핀(16)의 선단을 유리 정반(9)의 표면상에 돌출시킨다. 이어서 도 13의 (b)에 도시한 바와 같이, 로봇 핸드(25)에 의해 피수정 대상 유리 기판(8)을 반입하고, 유리 정반(9) 및 복수의 리프터 핀(16)상의 소정 위치에 위치 결정한다.

다음에 도 13의 (c)에 도시한 바와 같이, 로봇 핸드(25)를 하강시켜 복수의 리프터 핀(16)상에 피수정 대상 유리 기판(8)을 재치한다. 이어서 도 13의 (d)에 도시한 바와 같이 로봇 핸드(25)를 더욱 하강시키고, 로봇 핸드(25)를 피수정 대상 유리 기판(8)과 유리 정반(9)과의 사이에 정지시킨다. 계속해서 도 13의 (e)에 도시한 바와 같이 로봇 핸드(25)를 후퇴시켜, 로봇 핸드(25)를 피수정 대상 유리 기판(8)과 유리 정반(9)의 사이로부터 빼낸다. 최후로 도 13의 (f)에 도시한 바와 같이 승강 장치(24)에 의해 금속성 테이블(23)을 하강시키고, 피수정 대상 유리 기판(8)을 유리 정반(9)상에 재치한다.

본 실시의 형태에서는, 투과 조명광 관찰용 광원으로서 링 조명기(3)를 유리 정반(9)의 하방이 아니라 상방에 배치하였기 때문에, 도 14의 (a), (b)로부터 알 수 있는 바와 같이, 유리 정반(9)의 아래의 공간적인 제약을 없앨 수 있고, 장치의 높이 방향 치수를 컴팩트하게 할 수 있다.

또한, 유리 정반(9)의 아래의 공간적인 제약이 없기 때문에, 유리 정반(9)의 지지 부재로서 금속제 가대(12)를 유리 정반(9)의 아래에 배치하는 것이 가능해지고, 유리 정반(9)의 지지 강성이 충분히 확보될 수 있기 때문에, 유리 정반(9)의 휨, 갈라짐 등의 걱정이 없어진다. 따라서 유리 정반(9)을 얇게 할 수 있다.

또한, 유리 정반(9)의 지지 강성이 충분히 확보될 수 있기 때문에, 장치 반송시에도 장치로부터 유리 정반(9)을 내릴 필요가 없어지고, 장치 반입 후의 유리 정반(9)의 조립 작업을 생략할 수 있다.

또한, 유리 정반(9)의 아래의 공간적인 제약이 없기 때문에, 도 14의 (a), (b)로 부터 알 수 있는 바와 같이, 승강 장치(24)의 스트로크를 연장할 필요가 없어지고, 리프트업 기구를 컴팩트하게 할 수 있다.

또한, 투과 조명광 관찰용의 광원을 이동시키기 위한 기구가 필요없게 되기 때문에 장치의 구성 부재가 감소하고, 장치 가격을 저감화할 수 있다.

또한, 투과 조명광 관찰용의 광원을 관찰용 광학계와 동기하여 움직일 필요가 없기 때문에 제어 수단도 단순화할 수 있다.

이하, 본 실시의 형태의 여러가지의 변경예에 관해 설명한다. 피수정 대상 유리 기판(8)상의 결함 부위가 유리 정반(9)의 리프터 핀 구멍(9a)의 상방에 위치한 경우에 투과 조명광 관찰에 충분한 광량을 얻기 위한 방법으로서, 도 4에서는 LED 조명 광원(17)을 리프터 핀(16)의 내부에 배치하였으나, 도 15에 도시한 바와 같이 LED 조명 광원(17) 대신에 파이버 조명기(26)를 배치하여도 좋다. 또한, 도 16에 도시한 바와 같이 광원을 배치하는 것이 아니라, 리프터 핀(16)의 선단면에 반사막(10)을 형성하고, 링 조명기(3)로부터 출사된 광을 반사시켜도 좋다.

또한, 도 6 및 도 7에서는 링 조명기(3)를 집광 렌즈(20)로 치환하여 조명광의 입사각도나 유리 정반(9)의 두께(t)의 최적의 조건을 조사하였지만, 도 17에 도시한 바와 같이 실제로 링 조명기(3) 대신에 집광 렌즈(20)를 사용하여도 좋다.

또한, 본 실시의 형태에서는 도 2에 도시한 바와 같이 대물 렌즈(11)의 선단부에 링 조명기(3)가 마련된다. 대물 렌즈(11)가 1종류인 경우는 문제 없지만, 도 18에 도시한 바와 같이 수종류의 대물 렌즈(11)를 리볼버(30)에 의해 전환하여 사용하는 경우, 복수의 대물 렌즈(11)의 각각에 링 조명기(3)를 부착하는 것은 공간적으로 곤란하다. 그래서 도 19의 (a), (b)에 도시한 바와 같이 링 조명기(3) 대신에 2분할 방식의 링 조명기(31)를 개폐 가능하게 설치하고, 리볼버(30)를 회전시켜 대물 렌즈(11)를 교환할 때는 링 조명기(31)를 2개의 부분(31a, 31b)으로 분할하여 개동(開動)함에 의해 대물 렌즈(11)의 교환을 가능하게 한다. 링 조명기(31)의 2개의 부분(31a, 31b)에는 각각 광 파이버(32, 33)를 통하여 조명광이 주어진다.

링 조명기(31)를 분할하여 개방하는 방법으로서는, 도 19의 (a), (b)에 도시한 바와 같이 직선적으로 개방하여도 좋고, 원호형상으로 개방하여도 좋다. 리볼버(30)의 회전에 의해 이동하는 대물 렌즈(11)와 간섭하지 않는 위치에 링 조명기(31)를 대피시킬 수 있다면 좋다. 도 17에서 도시한 집광 렌즈(20)를 이용하는 방식에서도 리볼버(30)의 회전에 의해 이동하는 대물 렌즈(11)와 간섭하지 않는 위치에 집광 렌즈(20)를 대피 가능하게 배치하면 좋다.

또한, 도 20에 도시한 바와 같이, 링 조명기(3)로부터 출사된 광을 집광하기 위한 링 렌즈(34)를 링 조명기(3)의 하면에 마련하면 좋다. 링 렌즈(34)는 링 조명기(3)의 광 출사부와 같은 치수의 링형상으로 형성되어 있고, 그 단면은 볼록 렌즈로 되어 있다. 링 렌즈(34)에 의해 링 조명기(3)의 출사광의 집광성을 높여 반사막(10)에 조사함에 의해 반사 조명 광량을 증가시킬 수 있다.

또한, 도 21에 도시한 바와 같이, 유리 정반(9)의 표면에 광을 산란시키는 요철 처리를 시행하면 좋다. 요철 처리면(9d)에 의한 광의 산란에 의해 대물 렌즈(11)에 입사하는 반사 조명 광량을 증가시킬 수 있다. 또한, 진공 흡착용 홈(9b)의 에지 부분에서는 에지에 따른 방향으로 광이 투과하는 경향이 있어, 관찰 화상에 얼룩이 약간 발생하는데, 요철 처리면(9d)에서 산란한 광에 의해 상기 에지 부분에 있어서의 관찰 화상의 얼룩이 경감된다. 또한, 유리 정반(9)의 표면에 요철 처리를 시행함에 의해 유리 정반(9)과 피수정 대상 유리 기판(8)과의 접촉 면적이 감소하고, 요철 처리를 시행하지 않은 경우에 비하여 정전기의 발생이 경감된다.

유리 정반(9)의 표면에 요철 처리를 시행하는 구체적 방법으로서는, 유리 정반(9)의 표면에 샌드 블라스트 가공을 시행한 후, 화학 연마 가공을 시행하는 것이 바람직하다. 샌드 블라스트 가공만을 시행한 경우는 요철 처리면(9d)의 요철은 매우 예리한 형상을 하고 있기 때문에, 요철 처리면(9d)에 잉크 등이 부착한 경우, 예리한 오목부에 들어간 잉크 등을 닦아내어 청정화하는 것은 곤란하다. 그러나, 샌드 블라스트 가공 후에 화학 연마 가공을 시행한 경우는, 샌드 블라스트 가공으로 생긴 예리한 요철이 화학 연마 가공으로 매끈하게 되기 때문에, 요철 처리면(9d)에 잉크 등이 부착한 경우에도 용이하게 닦아내어 청정화할 수 있다.

또한, 도 22에 도시한 바와 같이, 유리 정반(9)의 이면에 광을 산란시키는 요철 처리를 시행한 후에 반사막(10)을 형성하면 좋다. 요철 처리면(9e)에 의한 광의 산란에 의해 대물 렌즈(11)에 입사하는 반사 조명 광량을 증가시킬 수 있다. 유리 정반(9)의 이면에 요철 처리를 시행하는 구체적 방법으로서는, 유리 정반(9)의 표면에 샌드 블라스트 가공을 시행한 후, 화학 연마 가공을 시행하는 것이 바람직하다.

또한, 도 18의 리볼버(30)를 이용하여 대물 렌즈(11)를 교환할 때 링 조명기(3)와 대물 렌즈(11)가 접촉하지 않도록, 도 23에 도시한 바와 같이 대물 렌즈(11)의 이동 궤적을 피하여 링 조명기(3)를 2개로 분할하여 배치하여도 좋다. 이 링 조명기(3a, 3b)에서도 도 21 및 도 22에서 도시한 요철 처리와 조합함에 의해 반사 조명 광량을 충분히 확보할 수 있다. 링 조명기(3a, 3b)중 한쪽의 링 조명기(3a)만을 마련한 경우는 요철 처리면(9d, 9e)으로부터의 산란광의 영향으로 투과 관찰상에 얼룩이 발생하지만, 대물 렌즈(11)의 회전 궤적을 피하여 2개의 링 조명기(3a, 3b)를 대향하여 배치함에 의해 투과 관찰상의 얼룩을 경감할 수 있다.

또한, 도 24에 도시한 바와 같이, 요철 처리가 시행되어 있지 않은 유리 정반(9)의 표면과 반사막(10)이 형성된 유리 정반(9)의 이면과의 사이의 소정 위치에 광산란층(9f)을 마련하여도 좋다. 도 21에서 도시한 바와 같이, 유리 정반(9)의 표면에 요철 처리를 시행하면, 요철 처리면(9d)에 의한 광의 산란에 의해 대물 렌즈(11)에 입사하는 반사 조명 광량을 증가시킬 수 있다. 그러나, 대물 렌즈(11)에는 여러가지의 배율(2×, 5×, 10×, 20×, 50×)의 것이 있고, 배율이 2×, 5×로 낮은 대물 렌즈(11)에서는 초점 심도가 깊고 관찰 범위도 넓기 때문에, 요철 처리면(9d)의 영향으로 투과 조명광 관찰 화상에 광량 얼룩이 발생하여 버린다. 도 24의 변경예에서는 유리 정반(9)의 표면과 이면의 중간에 광산란층(9f)을 마련하고, 피수정 대상 유리 기판(8)과 광산란층(9f)의 간격을 크게 하였기 때문에, 저배율의 대물 렌즈(11)를 사용하여도 투과 조명광 관찰 화상에 광량 얼룩이 발생하는 일이 없다. 따라서, 이 변경예에서는 저배율부터 고배율까지의 어떤 배율의 대물 렌즈(11)를 사용하여도, 최적의 투과 조명광 관찰 화상을 얻을 수 있다.

또한, 도 25에 도시한 바와 같이, 유리 정반(9)의 요철 처리면(9d) 위에 또한 유리 정반(41)을 탑재하여도 좋다. 이 변경예에서는 요철 처리면(9d) 위에 또한 유리 정반(41)을 탑재하고, 피수정 대상 유리 기판(8)과 요철 처리면(9d)의 간격을 유리 정반(41)의 두께분만큼 크게 하였기 때문에, 저배율의 대물 렌즈(11)를 사용하여도 투과 조명광 관찰 화상에 광량 얼룩이 발생하는 일이 없다. 유리 정반(41)의 두께는, 5㎜ 정도 있으면 광량 얼룩의 발생은 없어진다.

또한, 이 변경예에서는 요철 처리면(9d)에서의 광산란의 효과가 증가하고, 어떠한 배율의 대물 렌즈(11)를 사용하여도, 반사 조명 광량이 증가하였다. 유리 정반(41)의 두께를 바꾸어 반사 조명 광량을 측정한 바, 유리 정반(41)의 두께가 0.6㎜부터 19㎜의 범위에서 두께가 두꺼워질수록도, 반사 조명 광량이 증가하였다.

또한, 유리 정반(9)의 진공 흡착 구멍(9c)의 구멍 지름을 크게 하면, 반사막(10)을 형성할 수 없는 면적이 커져 반사 조명 광량이 작아지지만, 도 26에 도시한 바와 같이 유리 정반(41)의 진공 흡착 구멍(41c)의 구멍 지름은 반사막(10)의 형성에 영향을 주지 않기 때문에, 진공 흡착 구멍(41c)의 구멍 지름을 크게할 수 있다. 이 때문에, 관찰 위치 아래의 진공 흡착 구멍(41c)의 벽이 반사 조명광을 차단함에 기인하는 반사 조명 광량의 저하가 적어지고, 밝은 투과 조명광 관찰 화상을 얻을 수 있다.

본 발명에 관한 미세 패턴 관찰 장치에서는, 미세 패턴이 형성된 투명 기판을 투명 정반의 표면에 탑재하고, 투명 정반의 표면측에 광원을 마련함과 함께 투명 정반의 이면측에 반사부재를 마련하고, 광원으로부터 출사된 조명광을 반사부재에서 반사시켜 미세 패턴에 조사하고, 투명 정반의 표면측에 마련된 관찰 광학계에서 미세 패턴의 투과 조명광 관찰을 행한다. 따라서 투명 정반의 하방에 광원 이동 기구를 마련할 필요가 없기 때문에, 장치 구성 및 제어 방법의 간단화, 장치의 저가격을 도모할 수 있다.

도 1은 본 발명의 한 실시의 형태에 의한 미세 패턴 수정 장치의 전체 구성을 도시한 사시도.

도 2는 도 1에 도시한 미세 패턴 수정 장치의 투과 조명광 관찰 방법을 도시한 도면.

도 3은 도 1에 도시한 미세 패턴 수정 장치의 투과 조명광 관찰 방법을 도시한 다른 도면.

도 4는 도 1에 도시한 미세 패턴 수정 장치의 투과 조명광 관찰 방법을 도시한 또다른 도면.

도 5는 도 1에 도시한 미세 패턴 수정 장치의 투과 조명광 관찰 방법을 도시한 또다른 도면.

도 6은 도 2 내지 도 5에 도시한 투과 조명광 관찰 방법의 장치 조건을 설명하기 위한 도면.

도 7은 도 2 내지 도 5에 도시한 투과 조명광 관찰 방법의 장치 조건을 설명하기 위한 다른 도면.

도 8은 도 2 내지 도 5에 도시한 투과 조명광 관찰 방법의 장치 조건을 설명하기 위한 또다른 도면.

도 9는 도 2 내지 도 5에 도시한 투과 조명광 관찰 방법의 장치 조건을 설명하기 위한 또다른 도면.

도 10은 도 2 내지 도 5에 도시한 투과 조명광 관찰 방법의 장치 조건을 설명하기 위한 또다른 도면.

도 11은 도 2 내지 도 5에 도시한 투과 조명광 관찰 방법의 장치 조건을 설명하기 위한 또다른 도면.

도 12는 도 1에 도시한 미세 패턴 수정 장치의 기판 리프트업 기구를 도시한 도면.

도 13은 도 12에 도시한 기판 리프트업 기구를 이용한 기판 반입 방법을 도시한 도면.

도 14는 도 1에 도시한 미세 패턴 수정 장치의 효과를 설명하기 위한 도면.

도 15는 본 실시의 형태의 변경예를 도시한 도면.

도 16은 본 실시의 형태의 다른 변경예를 도시한 도면.

도 17은 본 실시의 형태의 또다른 변경예를 도시한 도면.

도 18은 도 1에 도시한 미세 패턴 수정 장치의 문제점을 설명하기 위한 도면.

도 19는 본 실시의 형태의 또다른 변경예를 도시한 도면.

도 20은 본 실시의 형태의 또다른 변경예를 도시한 도면.

도 21은 본 실시의 형태의 또다른 변경예를 도시한 도면.

도 22는 본 실시의 형태의 또다른 변경예를 도시한 도면.

도 23은 본 실시의 형태의 또다른 변경예를 도시한 도면.

도 24는 본 실시의 형태의 또다른 변경예를 도시한 도면.

도 25는 본 실시의 형태의 또다른 변경예를 도시한 도면.

도 26은 본 실시의 형태의 또다른 변경예를 도시한 도면.

도 27은 종래의 미세 패턴 수정 장치의 투과 조명광 관찰 방법을 도시한 도면.

도 28은 미세 패턴 수정 장치의 구성의 변천을 설명하기 위한 도면.

도 29는 종래의 미세 패턴 수정 장치의 투과 조명 광원의 이동 방식을 도시한 도면.

（도면의 주요부분에 대한 부호의 설명）

1 : 레이저 장치 2, 63 : 관찰 광학계

3, 31 : 링 조명기 4 : 잉크 도포 기구

5 : Z축 테이블 6 : X축 테이블

7 : Y축 테이블 8, 50 : 피수정 대상 유리 기판

9, 41, 51 : 유리 정반 9a : 리프터 핀 구멍

9b : 진공 흡착용 홈 9c, 41c : 진공 흡착 구멍

9d, 9e : 요철 처리면 9f : 광산란층

10 : 반사막 11, 53 : 대물 렌즈

12 : 금속제 가대 13 : 고무 패킹

14 : 에어 조인트 15 : 에어 호스

16 : 리프터 핀 17 : LED 조명 광원

20, 52 : 집광 렌즈 21 : 낙사 조명광

22 : 레이저 광 23 : 금속제 테이블

24 : 승강 장치 25 : 로봇 핸드

26 : 파이버 조명기 30 : 리볼버

32, 33 : 광 파이버 34 : 링 렌즈

60 내지 62 : 리니어 가이드 64 : 형광등

Claims (13)

1. 투명 기판(8)상에 마련되고, 적어도 부분적으로 광을 투과하는 미세 패턴을 관찰하는 미세 패턴 관찰 장치로서,

   그 표면에 상기 투명 기판(8)이 탑재되는 투명 정반(9),

   상기 투명 정반(9)의 표면측에 마련되고, 상기 투명 기판(8)에 조명광을 출사하는 광원(3),

   상기 투명 정반(9)의 이면측에 마련되고, 상기 광원(3)으로부터 출사된 조명광을 반사시켜 상기 미세 패턴에 조사하는 반사부재(10), 및

   상기 투명 정반(9)의 표면측에 마련되고, 상기 미세 패턴의 투과 조명광 관찰을 행하기 위한 관찰 광학계(2)를 구비하는 것을 특징으로 하는 미세 패턴 관찰 장치.
2. 제 1항에 있어서,

   상기 투명 정반(9)의 표면에는 광을 산란시키는 요철 처리(9d)가 시행되어 있는 것을 특징으로 하는 미세 패턴 관찰 장치.
3. 제 1항에 있어서,

   상기 투명 정반(9)의 표면과 이면의 사이에는 광을 산란시키는 층(9f)이 마련되어 있는 것을 특징으로 하는 미세 패턴 관찰 장치.
4. 제 3항에 있어서,

   상기 투명 정반(9, 41)은 겹쳐진 2장의 투명판(9,41)을 포함하고,

   상기 2장의 투명판(9, 41)이 중합된 2개의 표면중 적어도 한쪽의 표면에는 광을 산란시키는 요철 처리(9d)가 시행되어 있는 것을 특징으로 하는 미세 패턴 관찰 장치.
5. 제 1항에 있어서,

   상기 광원(3, 34)은, 출사광을 집광하는 렌즈(34)를 포함하는 것을 특징으로 하는 것을 미세 패턴 관찰 장치.
6. 제 1항에 있어서,

   상기 반사부재(10)는, 상기 투명 정반(9)의 이면에 형성된 반사막(10)인 것을 특징으로 하는 미세 패턴 관찰 장치.
7. 제 6항에 있어서,

   상기 투명 정반(９)의 이면에는 광을 산란 반사시키는 요철 처리(9e)가 시행되고,

   상기 반사막(10)은, 상기 요철 처리(9e)가 시행된 상기 투명 정반(9)의 이면에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 미세 패턴 관찰 장치.
8. 제 1항에 있어서,

   또한, 상기 투명 정반(9)에 평행한 평면 내에서 상기 광원(3) 및 상기 관찰 광학계(2)를 이동시키는 XY 테이블(6, 7)을 구비하고,

   상기 반사부재(10)는, 적어도 상기 투명 기판(8)의 피관찰 영역 전면에 상당하는 범위에 걸쳐 마련되어 있는 것을 특징으로 하는 기재된 미세 패턴 관찰 장치.
9. 제 1항에 있어서,

   상기 관찰 광학계(2)는,

   복수의 대물 렌즈(11), 및

   상기 복수의 대물 렌즈(11)중 어느 하나의 대물 렌즈(11)를 선택하기 위한 리볼버(30)를 포함하고,

   상기 미세 패턴 관찰 장치는, 또한, 상기 대물 렌즈(11)의 교환시에 상기 광원(31a, 31b)을 이동시켜 상기 광원(31a, 31b)과 상기 대물 렌즈(11)와의 접촉을 방지하기 위한 광원 이동 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 미세 패턴 관찰 장치.
10. 제 1항에 있어서,

    상기 관찰 광학계(2)는

    복수의 대물 렌즈(11), 및

    상기 복수의 대물 렌즈(11)중 어느 하나의 대물 렌즈(11)를 선택하기 위한 리볼버(30)를 포함하고,

    상기 광원(3a, 3b)은, 상기 대물 렌즈(11)의 교환시에 상기 대물 렌즈(11)와 접촉하지 않도록, 상기 대물 렌즈(11)의 이동 궤적을 피하여 복수로 분할하여 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 미세 패턴 관찰 장치.
11. 제 1항에 있어서,

    상기 투명 정반(9)에는 복수의 리프터 핀 구멍(9a)이 형성되고,

    또한, 각각 상기 복수의 리프터 핀 구멍(9a)에 대응하여 마련되고, 각각이, 상기 투명 기판(8)을 상기 투명 정반(9)의 표면에 탑재할 때, 대응하는 리프터 핀 구멍(9a)을 관통하여 상기 투명 정반(9)의 표면에 돌출하고, 상기 투명 기판(8)을 일시적으로 지지하는 복수의 리프터 핀(16), 및

    각 리프터 핀(16)의 선단부에 마련되고, 상기 미세 패턴에 투과 조명광을 조사하는 부광원(17, 26)을 구비하는 것을 특징으로 하는 기재된 미세 패턴 관찰 장치.
12. 제 1항에 있어서,

    상기 투명 정반(9)에는 복수의 리프터 핀 구멍(9a)이 형성되고,

    또한, 각각 상기 복수의 리프터 핀 구멍(9a)에 대응하여 마련되고, 각각이, 상기 투명 기판(8)을 상기 투명 정반(9)의 표면에 탑재할 때, 대응하는 리프터 핀 구멍(9a)을 관통하여 상기 투명 정반(9)의 표면에 돌출하고, 상기 투명 기판(8)을 일시적으로 지지하는 복수의 리프터 핀(16), 및

    각 리프터 핀(16)의 투명 기판(8)에 접하는 선단부에 마련되고, 상기 광원(3)으로부터 출사된 조명광을 반사시켜 상기 미세 패턴에 조사하는 부반사부재 (10)를 구비하는 것을 특징으로 하는 미세 패턴 관찰 장치.
13. 제 1항 제 12항까지의 어느 한 항에 기재된 미세 패턴 관찰 장치,

    상기 미세 패턴의 결함부에 수정용 잉크를 도포하는 잉크 도포 장치(4) 및

    상기 미세 패턴의 불필요부를 제거하기 위한 레이저 조사 장치(1)를 구비하는 것을 특징으로 하는 미세 패턴 수정 장치.