CN1645189A - 微小图案观察装置及采用该装置的微小图案修正装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供装置构成及控制方法简单且价格低廉的微小图案修正装置。该微小图案修正装置,将被修正对象玻璃基板(8)搭载于玻璃平台(9)的表面,在玻璃平台(9)的背面上形成反射膜(10),并且,将环状照明器(3)配设于观察光学系统(2)的物镜(11)的周围。自照明器(3)射出的环状光线,由反射膜(10)反射,透过玻璃平台(9)及被修正对象玻璃基板(8)的被观察部射入物镜(11)。因此,不需要在玻璃平台(9)的下方设置光源移动机构。

Description

微小图案观察装置及采用该装置的微小图案修正装置
技术领域
本发明涉及利用透射光对微小图案进行观察的微小图案观察装置及采用该装置的微小图案修正装置,尤其涉及用于在LCD(液晶显示器)用滤色元件的制造工段中发生的缺陷进行检查、修正的微小图案观察装置及采用该装置的微小图案修正装置。
背景技术
以往至今,有人提出在LCD的电极缺陷(开放缺陷)上涂覆导电膏进行修正的方法(例如参照专利文献1)及在液晶的滤色元件的缺色部分涂覆墨水进行修正的方法(例如参照专利文献2)等。
在对液晶的滤色元件的缺色部进行修正时,必须对分色涂为红(R)、绿(G)、蓝(B)的滤色元件的哪一种颜色部分发生缺色进行观察。并且,在对缺色部分涂覆修正用墨水进行修正后,为对修正状态进行确认,还必须对该部分进行观察。
对滤色元件的颜色进行观察时,采用反射照明光观察方式,无法对滤色元件的颜色状态进行观察,因而,必须进行透射照明光观察。如图27所示,以往的方法,将形成有滤色元件的被修正对象玻璃基板50放置于玻璃平台51上,从玻璃平台51的下方的聚光透镜52照射透射照明光,通过玻璃平台51的上方的物镜53对滤色元件的颜色状态进行确认。
但是,近来,液晶基板的大型化进程引人注目,制造工段中的玻璃基板的尺寸在目前的生产线上的玻璃基板尺寸(第5代)为1000×1500mm,据说,下期的第6代将为1500×1800mm,第7代将为1700×2000mm。
伴随玻璃基板如此的大型化进程,修正装置也必须大型化,然而,单纯地增大装置尺寸的作法,由于在无尘室内的占有面积方面的原因而受限,因而,必须变更装置构成、尽力减小装置尺寸。
图28(a)(b)(c)表示微小图案修正装置的构成的变迁。当玻璃基板为第3代尺寸以下时,如图28(a)所示,被修正对象玻璃基板设置成可在X轴方向及Y轴方向上移动,修正台被固定。接着,当玻璃基板为第4及第5代尺寸时,如图28(b)所示,被修正对象玻璃基板设置成可在Y轴方向上移动,修正台设置成可在X轴方向上移动。进而,当玻璃基板为第6及第7代尺寸时,如图28(c)所示,被修正对象玻璃基板被固定,修正台设置成可在X轴方向及Y轴方向上移动。
即,随着玻璃基板变大而转变为玻璃基板静止、而搭载有激光及观察用光学系统等的修正台部成为移动的形式。另外,图28(c)所示的与第6及第7代对应装置中,必须具备可将配设于玻璃平台51的下方的透射照明光源与配设于玻璃平台51的上方的观察用光学系统同步移动的机构。
以往的微小图案修正装置,通过如图29(a)(b)所示的方式,使透射照明光源移动,达到进行透射照明光观察的目的。即,图29(a)的方式为,将聚光透镜52设置成可沿直线导轨60在X轴方向上移动,并且,将直线导轨60设置成可使直线导轨61、62在Y轴方向上移动,使聚光透镜52与观察用光学系统63同步地在X轴方向及Y轴方向上移动。另外,图29(b)的方式为,将设置于X轴方向的荧光灯64设置成可沿直线导轨61、62在Y轴方向上移动,使荧光灯64与观察用光学系统63同步地在Y轴方向上移动。
[专利文献1]专利第2983879号公报
[专利文献2]特开平09-61296号公报在以往的微小图案修正装置中,直线导轨60~62等透射照明光源移动机构设置于玻璃平台51之下,由于在该透射照明移动机构的活动范围内无法设置其他的构成部件,必须将装置的高度方向尺寸增高、装置重心抬高。由此,位置传感器、驱动马达、驱动导向与修正台重心的距离增大,定位精度降低。
另外,由于在透射照明移动机构的活动范围内无法设置其他构成部件,搭载被修正对象玻璃基板50的玻璃平台51的支承部件也无法设置,只能对玻璃平台51用其周围部分进行支承。因而,存在玻璃平台51弯曲、支承刚性不足等问题,还增大了玻璃平台51破裂的可能性。
另外,用于在被修正对象玻璃基板50的搬入取出时将放置于玻璃平台51上的玻璃基板50提起的提升机构必须设置于透射照明移动机构下,因而必须增长提升机构的行程(参照图14(a)(b))。当提升机构的行程增长后,为确保提升机构的行程及提升时的刚性,提升机构自身结构也会变得复杂。
另外,因装置控制上的需要,必须设置用于移动透射照明移动机构的马达控制装置、使透射照明光源与配设于玻璃平台51的上方的观察用光学系统63同步移动,从而导致装置构成部件的增加与控制装置的复杂化。
如上所述,以往的透射照明移动机构的方法中,存在装置构成、控制方法复杂、装置价格昂贵的问题。
为此,本发明的主要目的在于,提供装置构成及控制方法简单且价格低廉的微小图案观察装置及采用该装置的微小图案修正装置。
发明内容
本发明的微小图案观察装置为,对设于透明基板上的、至少部分地透过光线的微小图案进行观察的微小图案观察装置,具备:将透明基板搭载于其表面的透明平台,设置于透明平台的表面侧的、向透明基板射出照明光的光源,设置于透明平台的背面侧的、反射自光源射出的照明光以照射微小图案的反射部件,及设置于透明平台的表面侧的、用于进行微小图案的透射照明光观察的观察用光学系统。
本发明的微小图案观察装置,将形成有微小图案的透明基板搭载于透明平台的表面,将光源设置于透明平台的表面侧,并且,将反射部件设置于透明平台的背面侧,自光源射出的照明光由反射部件反射而照射微小图案,凭借设置于透明平台的表面侧的观察光学系统进行微小图案的透射照明光观察。因而,不必将光源移动机构设置于透明平台的下方,从而,可实现装置构成及控制方法的简单化、装置价格的低廉化。
附图简要说明
图1为表示本发明的一个实施例的微小图案修正装置的全体构成的立体图。
图2为表示示于图1的微小图案修正装置的透射照明光观察方法的附图。
图3为表示示于图1的微小图案修正装置的透射照明光观察方法的另一附图。
图4为表示示于图1的微小图案修正装置的透射照明光观察方法的又一附图。
图5为表示示于图1的微小图案修正装置的透射照明光观察方法的又一附图。
图6为用于说明示于图2~5的透射照明光观察方法的装置条件的附图。
图7为用于说明示于图2~5的透射照明光观察方法的装置条件的另一附图。
图8为用于说明示于图2~5的透射照明光观察方法的装置条件的又一附图。
图9为用于说明示于图2~5的透射照明光观察方法的装置条件的又一附图。
图10为用于说明示于图2~5的透射照明光观察方法的装置条件的又一附图。
图11为用于说明示于图2~5的透射照明光观察方法的装置条件的又一附图。
图12表示示于图1的微小图案修正装置的基板提升机构。
图13表示使用示于图12的基板提升机构的基板搬入方法。
图14用于说明示于图1的微小图案修正装置的效果。
图15表示该实施例的变更例。
图16表示该实施例的另一个变更例。
图17表示该实施例的又一个变更例。
图18为用于说明示于图1的微小图案修正装置的问题点。
图19表示该实施例的又一个变更例。
图20表示该实施例的又一个变更例。
图21表示该实施例的又一个变更例。
图22表示该实施例的又一个变更例。
图23表示该实施例的又一个变更例。
图24表示该实施例的又一个变更例。
图25表示该实施例的又一个变更例。
图26表示该实施例的又一个变更例。
图27表示以往的微小图案修正装置的透射照明光观察方法。
图28为用于说明微小图案修正装置的构成的变迁。
图29表示以往的微小图案修正装置的透射照明光源的移动方式。
实施本发明的较佳实施例
图1为表示本发明的一个实施例的微小图案修正装置的全体构成的立体图。图1中,该微小图案修正装置中,激光装置1、观察用光学系统2、环状照明器3及墨水涂覆机构4被固定于Z轴台5上,Z轴台5设置成可在Z轴方向(上下方向)上移动。Z轴台5设置成可在X轴台6上沿X轴方向(横向方向)上移动。X轴台6设置成可在Y轴台7上沿Y轴方向(横向方向)上移动。
X轴台6的下方设置有搭载被修正对象玻璃基板8的玻璃平台9。玻璃平台9上,形成有使搬入取出时用于提升被修正对象玻璃基板8的提升机构的升杆通过的升杆孔9a、及用于将被修正对象玻璃基板8固定于玻璃平台9的上表面的真空吸附用槽9b。在真空吸附用槽9b的数处位置,形成有用于抽真空的真空吸附孔。
激光装置1,以激光照射涂覆于被修正对象玻璃基板8上的滤色元件的缺陷部的墨水中的不需要部分或被修正对象玻璃基板8上的短路缺陷的电极相连部分,以其热能使墨水或电极材料升华或飞散,从而将之除去。观察用光学系统2对缺陷部分进行摄像,在电视显示器(未图示)上显示摄像得到的图像。环状照明器3用于对被修正对象玻璃基板8及玻璃平台9照射光线。墨水涂覆机构4,用于对被修正对象玻璃基板8上的滤色元件的缺陷部涂覆墨水、或对被修正对象玻璃基板8上的被称为开放缺陷的电极缺失部分涂覆导电膏。涂覆的墨水或导电膏因紫外线照射(未作图示)或卤素灯照射(未作图示)而发生光固化或热固化。
由于激光装置1、观察用光学系统2、环状照明器3及墨水涂覆机构4安装于Z轴台5上,故可位于被修正对象玻璃基板8之上的任意高度的位置上,且,由于Z轴台5载置于X轴台6及Y轴台7上,可相对被修正对象玻璃基板8,移动至X轴方向及Y轴方向的任意位置。另外,还设置有用于控制各机构的控制用计算机(未作图示)、用于对装置全体进行控制的主计算机(未作图示)。
接着,对该图案修正装置的动作进行说明。使X轴台6及Y轴台7分别沿X轴方向及Y轴方向移动,并使Z轴台5沿Z轴方向移动,用观察用光学系统2对被修正对象玻璃基板8进行摄像。所摄的图像由电视显示器显示,操作者观察显示的图像以目视法对是否存在滤色元件缺陷、短路缺陷、开放缺陷等进行判断。但,也可不用目视法,而以图像处理进行判断。
当判定存在滤色元件缺陷时,用墨水涂覆机构4对缺陷部涂覆墨水、使之固化。当固化后的墨水产生不需要部分时,用激光装置1向不需要部分照射激光,由激光的热能使之升华或飞散。短路缺陷为,因腐蚀处理不良而造成相邻的电极图案彼此之间短路的缺陷。当判定存在电极的短路缺陷时,以激光装置1的激光照射短路部分,以激光的热能使相连部分升华或飞散。开放缺陷为,因电极图案的局部过度腐蚀而引起的缺陷。当判定存在开放缺陷时,用墨水涂覆机构4向缺陷部分涂覆导电膏等,使之固化。
以下,对成为该微小图案修正装置的特征的微小图案观察方法进行详细说明。如图2所示,该微小图案观察方法,在搭载被修正对象玻璃基板8的玻璃平台9的背面上形成反射膜10,并且,以光导纤维对卤素灯光导光,将成为该光线的射出端的环状照明器3配设于观察用光学系统2的物镜11的周围。自环状照明器3射出的环状光线被聚焦于物镜11的光轴的1点上。由环状照明器3射出的环状光线,透过被修正对象玻璃基板8的被观察部的周围区域及玻璃平台9后,由反射膜10反射,透过玻璃平台9及被修正对象玻璃基板8的被观察部而射入物镜11。由此,实现透射照明光观察的目的。
图3表示被修正对象玻璃基板8上的缺陷位于真空吸附用槽9b的真空吸附孔9c的上方时的状态。本发明的微小图案观察方法,由于玻璃平台9的支承可由玻璃平台9整面进行,因而,在玻璃平台9的背面可配设金属制架台12。金属制架台12上,在与玻璃平台9的真空吸附孔9c对应位置上形成有排气用贯通孔。在排气用贯通孔的上侧开口部的周围,形成有环状的凹部,环状的橡胶密封圈13嵌入在该凹部。在排气用贯通孔的下侧开口部,连接有空气接头14,空气接头14通过空气软管15与排气泵(未作图示)连接。
由于在此种情形下,仍可将空气接头14安装于金属制架台12上,因而,玻璃平台9的背面的反射膜10仅在真空吸附孔9c的部分存在空缺,由环状照明器3射出的光线于真空吸附孔9c的周围被反射,可确保透射照明光观察所需要的充足的光量。
另外,在玻璃平台9上,还形成有在搬入取出时提升被修正对象玻璃基板8的提升机构的升杆16穿过所需的升杆孔9a。图4表示被修正对象玻璃基板8上的缺陷位于升杆孔9a的上方位置时的状态。本发明的透射照明光观察方法,在玻璃平台9的背面上设置有反射膜10,但在升杆孔9a部分不能形成反射膜10。因此,无法对环状照明器3射出的光线进行充分反射。为此,在升杆16的内部配设了LED照明光源17,从升杆16的前端部向上方照射光线。由此,可获得透射照明光观察所需的充足的光量。
图5表示被修正对象玻璃基板8上的缺陷存在于升杆孔9a的边缘位置时的状态。该状态下,通过并用由环状照明器3射出并经反射膜10反射的光与自LED照明光源17射出的光,可获得透射照明光观察所需的充足的光量。
但是,本实施例中,由于将环状照明器3射出的、并经形成于玻璃平台9背面上的反射膜10反射的光线,作为透射照明光观察用照明光加以利用,因而,光线的反射位置、作为透射照明光可加以利用的光线的光量,随环状照明器3射出的光线的入射角、玻璃平台9的厚度的变化而发生变化。为此,如图6所示,以聚光透镜20取代环状照明器3,求取最佳条件。
当物镜11为Φ32mm时,来自聚光透镜20的光线的入射角以30°左右为最佳,此时的玻璃平台9的厚度t为19mm左右。当玻璃平台9的厚度t变薄时,如图6所示,由反射膜10反射并到达观察位置的光不充足,照明光的光量减少。当然,该状况下,若增强聚光透镜20的源光源的光量,也能使光量增加,然而,却无法避免源光源的价格上升、寿命缩减。至于使玻璃平台9的厚度t增厚的方法,则当厚度t超过19mm时光量略有增加,但从玻璃平台9的重量、价格等考虑并非良策。
图7表示以增大来自聚光透镜20的光线的入射角以弥补图6所示的光量低下的情形。来自聚光透镜20的光线的入射角为40°时,由反射膜10反射出的光量与图6的情形相比有所增加,但自聚光透镜20射出的光线也有一部分直接照射至观察位置上,因而,在透射照明光观察图像上,浮现由该部分光线形成的反射照明光观察图像,从而无法得到纯粹的透射照明光观察图像。
另外,本发明进行透射照明光观察,但该微小图案修正装置也可进行反射照明光观察。为此,就本发明的构成对反射照明光观察产生的影响进行说明。进行反射照明光观察时,如图8所示,由物镜11射出反射照明光21,对自观察部位反射的光进行观察,由于本发明的透射照明光观察方法中,在玻璃平台9的背面上形成有反射膜10,透过被修正对象玻璃基板8的反射照明光21受到反射膜10反射,从被修正对象玻璃基板8的背面返回照射。由于如此由反射膜10反射而从被修正对象玻璃基板8的背面射入的光线,成为透射照明光观察用光线,因而,该部分的光线对反射照明光观察产生的影响,使人担心。
如图8所示,当玻璃平台9的厚度t小时,自被修正对象玻璃基板8的背面射入的光的直径ΦD1变小,如图9所示,当玻璃平台9的厚度t大时,自被修正对象玻璃基板8的背面射入的光的直径ΦD1变大。即,玻璃平台9的厚度t越小,自反射膜10反射的反射照明光21的反射光量则越大。对此,经确认,当玻璃平台9的厚度t达5mm以上时,对反射照明光观察不产生影响。
另外,该微小图案修正装置,利用激光装置1射出的激光,对缺陷部分进行切除。如图10所示,自激光装置1射出的激光,通过观察用光学系统2的物镜11,照射至被修正对象玻璃基板8上的缺陷部位上。该激光在切除被修正对象玻璃基板8上的缺陷部位的同时,透过被修正对象玻璃基板8到达反射膜10。此时,若到达的激光能量大,则反射膜10也被激光切除,存在使反射膜10失去其本来的反射性能的可能性。
如图10所示,当玻璃平台9的厚度t小时,自物镜11射出的激光22在反射膜10表面的聚光直径ΦD2变小,如图11所示,当玻璃平台9的厚度t大时,自物镜11射出的激光22在反射膜10表面的聚光直径ΦD2变大。即,玻璃平台9的厚度t愈小,则激光22以愈高的能量密度照射于反射膜10上。对此,经确认,当玻璃平台9的厚度t达12mm以上时,反射膜10不受自物镜11射出的激光(对于本修正装置的用途而言充足的激光能量)的影响。
上述结果表明,当玻璃平台9的厚度t达12mm以上时,对反射照明光观察造成的影响以及激光22对反射膜10造成的影响都不再存在。最终,如物镜11的直径确定,则从环状照明器3射出的光线射入玻璃平台9的入射角,可计算出最佳的玻璃平台9的厚度t。但,如上所述,玻璃平台9的厚度t必须达到12mm以上。
本实施例中,物镜11的直径为32mm,该场合下,如上所述,将环状照明器3或聚光透镜20射出的光线射入玻璃平台9的入射角设为30°、玻璃平台9的厚度t设为19mm为最佳。
接着,对被修正对象玻璃基板8的提升机构进行说明。如图12所示,提升机构包括数个升杆16、金属制平台23、升降装置24。数个升杆16以所定的间隔立设于金属制平台23上。玻璃平台9上,在与各升杆孔16的对应位置形成有升杆孔9a。在金属制架台12上,在与各升杆孔9a对应位置形成有贯通孔。升降装置24用于使金属制平台23沿Z轴方向(上下方向)升降。
图13(a)~(f)表示被修正对象玻璃基板8的搬入方法。首先,如图13(a)所示,用升降装置24使金属制平台23上升,使各升杆16的前端突出于玻璃平台9的表面上。接着,如图13(b)所示,由机械手25搬入被修正对象玻璃基板8并定位于玻璃平台9及数个升杆16上的所定位置。
接着,如图13(c)所示,使机械手25下降,将被修正对象玻璃基板8放置于数个升杆16上。接着,如图13(d)所示,使机械手25进一步下降,使机械手25停在被修正对象玻璃基板8与玻璃平台9之间。接着,如图13(e)所示,使机械手25后退,将机械手25从被修正对象玻璃基板8与玻璃平台9之间抽出。最后,如图13(f)所示,用升降装置24使金属制平台23下降,将被修正对象玻璃基板8放置于玻璃平台9上。
本实施例中,由于将作为透射照明光观察用光源的环状照明器3设置于玻璃平台9的上方而非下方,因而,由图14(a)(b)可知,可消除玻璃平台9的下方的空间方面的限制,可将装置的高度方向尺寸紧凑化。
另外,由于玻璃平台9的下方不存在空间方面的限制,可将金属制架台12作为玻璃平台9的支承部件设置于玻璃平台9之下,可充分地确保玻璃平台9的支承刚性,因而,可消除玻璃平台9弯曲、破裂等担心。由此,可使玻璃平台9变薄。
另外,由于可充分确保玻璃平台9的支承刚性,在装置搬运时,不再需要将玻璃平台9从装置上卸下,因而,装置搬入后,可省略对玻璃平台9的组装作业。
另外,由于玻璃平台9之下不存在空间方面的限制,由图14(a)(b)可知,不再需要延长升降装置24的行程,可使提升机构紧凑化。
另外,由于不再需要用于移动透射照明光观察用光源的机构,可减少装置的构成部件、降低装置的价格。
另外,由于不必使透射照明光观察用光源与观察用光学系统同步移动,还可使控制装置简单化。
以下,对本实施例的各种变更例进行说明。作为当被修正对象玻璃基板8上的缺陷部位位于玻璃平台9的升杆孔9a的上方位置时获得透射照明光观察所需的充足的光量的方法,如图4所示,将LED照明光源17设置于升杆16的内部,然而,也可如图15所示,配置光纤照明器26以代替LED照明光源17。另外,也可如图16所示的那样,不设置光源,而在升杆16的前端面上形成反射膜10,使之反射环状照明器3射出的光线。
另外,如图6及图7所示,用聚光透镜20取代环状照明器3以寻求照明光的入射角及玻璃平台9的厚度t的最佳条件,然而,也可如图17所示的那样,以聚光透镜20取代环状照明器3进行实际使用。
另外,本实施例中,如图2所示,在物镜11的前端部设置有环状照明器3。当物镜11只有1种的场合,并不存在问题,但若如图18所示的那样用物镜旋换器30对数种物镜11进行切换使用的场合,若将数个物镜11分别安装于环状照明器3,则在空间上存在困难。为此,如图19(a)(b)所示,将对半分割方式的环状照明器31以可开闭状态设置、以取代环状照明器3,当欲旋转物镜旋换器30以交换物镜11时,通过打开环状照明器31、使之分割成2个部分31a、31b,从而,使物镜11的交换成为可能。环状照明器31的2个部分31a、31b上,分别通过光导纤维32、33分布有照明光。
作为环状照明器31分割、打开的方法,既可如图19(a)(b)所示的那样以直线打开,也可圆弧状地打开。只要能使环状照明器31躲避在不与因物镜旋换器30旋转而移动的物镜11发生干扰的位置上便可。在图17所示的使用聚光透镜20的方式时,同样地,只要能使聚光透镜20躲避在不与因物镜旋换器30旋转而移动的物镜11发生干扰的位置上便可。
另外,如图20所示,可将用于对环状照明器3射出的光线进行聚光的环状透镜34设于环状照明器3的底面。环状透镜34,形成为与环状照明器3的光射出部具有相同尺寸的环状,其截面为凸透镜。凭借环状透镜34,提高照明器3的射出光线的聚光性,通过向反射膜10照射,从而,可增加反射照明光量。
另外,如图21所示,可对玻璃平台9的表面施以凹凸处理,使光线发生散射。通过凹凸处理面9d对光线的散射,可增加射入物镜11中的反射照明光量。另外,在真空吸附用槽9b的边缘部分,存在光线沿边缘方向透射的倾向,观察图像上会发生少许斑纹,但因凹凸处理面9d对光的散射,可减轻上述边缘部分的观察图像上的斑纹。另外,通过时玻璃平台9的表面施行凹凸处理,因减少了玻璃平台9与被修正对象玻璃基板8的接触面积,与不经凹凸处理的情形相比,可减轻静电的发生。
作为在玻璃平台9的表面施行凹凸处理的具体方法,对玻璃平台9的表面进行喷砂加工后,进行化学研磨加工为宜。仅进行喷砂加工的场合,凹凸处理面9d的凹凸呈非常锐利的形状,因而,若凹凸处理面9d上附着墨水等时,进入锐利的凹部的墨水等难以擦拭干净。然而,若在喷砂加工后,进行化学研磨加工,因喷砂加工而产生的锐利的凹凸因化学研磨加工而变得圆滑,即使凹凸处理面9d上附着了墨水等,也可容易地擦拭干净。
另外,如图22所示,可在玻璃平台9的背面上施以使光散射的凹凸处理后形成反射膜10。因凹凸处理面9e对光线的散射,可增加射入物镜11的反射照明光量。作为对玻璃平台9的背面上施行凹凸处理的具体方法,在对玻璃平台9的表面进行喷砂加工后,以施行化学研磨加工为宜。
另外,为在使用图18所示的物镜旋换器30对物镜11进行交换时不使环状照明器3与物镜11接触,如图23所示,也可避开物镜11的移动轨迹而将环状照明器3分割成2个进行设置。对于该环状照明器3a、3b也同样,通过与示于图21及图22的凹凸处理组合,可确保充足的反射照明光量。当仅设置环状照明器3a、3b中的一方的环状照明器3a的场合,受凹凸处理面9d、9e的散射光的影响,透射观察图像上会发生斑纹,但若避开物镜11的旋转轨迹而将2个环状照明器3a、3b相向配设,则可减轻透射观察图像的斑纹。
另外,如图24所示,也可在未经凹凸处理的玻璃平台9的表面与形成有反射膜10的玻璃平台9的背面之间的所定位置设置光散射层9f。如图21所示,若对玻璃平台9的表面施加凹凸处理,则因凹凸处理面9d引起的光线散射可增加射入物镜11的反射照明光量。然而,物镜11中有多种不同的倍率(2×、5×、10×、20×、50×),对于2×、5×等倍率低的物镜11而言,焦点深度深、观察范围广,因而,因凹凸处理面9d的影响在透射照明光观察图像中会发生光量斑纹。图24的变更例中,由于在玻璃平台9的表面与背面的中间设置光散射层9f、被修正对象玻璃基板8与光散射层9f的间隔被增大,因而,即便使用低倍率的物镜11,也不会在透射照明光观察图像上发生光量斑纹。因此,对本变更例而言,无论使用从低倍率至高倍率的何种倍率的物镜11,都可获得最佳的透射照明光观察图像。
另外,如图25所示,也可在玻璃平台9的凹凸处理面9d上再搭载玻璃平台41。本变更例中,在凹凸处理面9d上再搭载玻璃平台41,由于被修正对象玻璃基板8与凹凸处理面9d的间隔增加了相当于玻璃平台41的厚度的距离,故即便使用低倍率的物镜11,也不会在透射照明光观察图像上发生光量斑纹。玻璃平台41的厚度若达5mm左右,则不再发生光量斑纹。
另外,本变更例中,凹凸处理面9d的光散射效果增强,无论使用何种倍率的物镜11,反射照明光量都增加了。改变玻璃平台41的厚度、对反射照明光量进行测定后得出的结果为,当玻璃平台41的厚度在0.6mm至19mm的范围内,反射照明光量随厚度的增加而增加。
另外,若增大玻璃平台9的真空吸附孔9c的孔径,则无法形成反射膜10的面积增大、反射照明光量减少,然而,如图26所示,玻璃平台41的真空吸附孔41c的孔径不影响反射膜10的形成,因而,可增大真空吸附孔41c的孔径。为此,可减少因观察位置下的真空吸附孔41c的壁遮挡反射照明光而引起的反射照明光量的下降,可获得明亮的透射照明光观察图像。
以上公开的实施例的所有方面都仅为例示,而不具有限定性。本发明的范围,示于权利要求书的范围内而非上述说明,与权利要求书的范围具有同等含意及在范围内所作的所有变更都包括在内。

Claims (13)

1.一种微小图案观察装置,对设于透明基板(8)上的、至少部分地透过光线的微小图案进行观察,其特征在于,具备:
将所述透明基板(8)搭载于其表面的透明平台(9),
设置于所述透明平台(9)的表面侧的、向所述透明基板(8)射出照明光的光源(3),
设置于所述透明平台(9)的背面侧的、反射自所述光源(3)射出的照明光以照射所述微小图案的反射部件(10),及
设置于所述透明平台(9)的表面侧的、用于进行所述微小图案的透射照明光观察的观察用光学系统(2)。
2.根据权利要求1所述的微小图案观察装置,其特征在于,所述透明平台(9)的表面经过使光散射的凹凸处理(9d)。
3.根据权利要求1所述的微小图案观察装置,其特征在于,在所述透明平台(9)的表面与背面之间,设置有使光散射的层(9f)。
4.根据权利要求3所述的微小图案观察装置,其特征在于,所述透明平台(9、41)包括重叠的2块透明板(9、41);所述2块透明板(9、41)的相叠合的2个表面中的至少一方的表面经过使光散射的凹凸处理(9d)。
5.根据权利要求1所述的微小图案观察装置,其特征在于,所述光源(3、34)包括对射出光进行聚光的透镜(34)。
6.根据权利要求1所述的微小图案观察装置,其特征在于,所述反射部件(10)是形成于所述透明平台(9)的背面上的反射膜(10)。
7.根据权利要求6所述的微小图案观察装置,其特征在于,所述透明平台(9)的背面上经过使光散射的凹凸处理(9e),所述反射膜(10)形成于经所述凹凸处理(9e)后的所述透明平台(9)的背面上。
8.根据权利要求1所述的微小图案观察装置,其特征在于,该微小图案观察装置还具备,使所述光源(3)及所述观察用光学系统(2)在与所述透明平台(9)平行的平面内移动的XY轴台(6、7),所述反射部件(10),至少设置于与所述透明基板(8)的被观察区域全体相当的范围内。
9.根据权利要求1所述的微小图案观察装置,其特征在于,所述观察用光学系统(2)包括数个物镜(11)及用于对所述数个物镜(11)中的某一个物镜(11)进行选择的物镜旋换器(30),所述微小图案观察装置还具备,当所述物镜(11)交换时用于使所述光源(31a、31b)移动以防止所述光源(31a、31b)与所述物镜(11)间发生接触的光源移动机构。
10.根据权利要求1所述的微小图案观察装置,其特征在于,所述观察用光学系统(2)包括数个物镜(11)及用于对所述数个物镜(11)中的某一个物镜(11)进行选择的物镜旋换器(30);所述光源(3a、3b),为避免在所述物镜(11)交换时与所述物镜(11)接触而避开所述物镜(11)的移动轨迹、分割设置成数个。
11.根据权利要求1所述的微小图案观察装置,其特征在于,
所述透明平台(9)上形成有数个升杆孔(9a);
所述微小图案观察装置还具备:
数个升杆(16),其分别与所述数个升杆孔(9a)对应设置、当所述透明基板(8)搭载于所述透明平台(9)的表面时、各自贯通于对应的升杆孔(9a)而突出于所述透明平台(9)的表面、对所述透明基板(8)进行暂时性支承;及
设置于各升杆(16)的前端部的、对所述微小图案照射透射照明光的副光源(17、26)。
12.根据权利要求1所述的微小图案观察装置,其特征在于,
所述透明平台(9)上形成有数个升杆孔(9a);
所述微小图案观察装置还具备:
数个升杆(16),其分别与所述数个升杆孔(9a)对应设置、当所述透明基板(8)搭载于所述透明平台(9)的表面时、各自贯通于对应的升杆孔(9a)而突出于所述透明平台(9)的表面、对所述透明基板(8)进行暂时性支承;及
设置于各升杆(16)的与透明基板(8)相接的前端部上的、反射自所述光源(3)射出的照明光而对所述微小图案进行照射的副反射部件(10)。
13.一种微小图案修正装置,其特征在于,具备:
权利要求1至权利要求12中任一项所述的微小图案观察装置;
对所述微小图案的缺陷部涂覆修正用墨水的墨水涂覆装置(4);及
用于除去所述微小图案的不需要部分的激光照射装置(1)。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105892108A (zh) * 2016-04-22 2016-08-24 深圳市卓茂科技有限公司 半自动液晶屏修复机
CN109521585A (zh) * 2018-12-28 2019-03-26 深圳眼千里科技有限公司 一种激光修复机

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008215943A (ja) * 2007-03-01 2008-09-18 Ntn Corp 照明装置およびパターン修正装置
JP5077875B2 (ja) * 2007-07-09 2012-11-21 Ntn株式会社 微細パターン観察装置およびそれを用いた微細パターン修正装置
JP5495313B2 (ja) * 2010-03-12 2014-05-21 Ntn株式会社 チャック装置、基板観察装置、および欠陥修正装置
CN103032772B (zh) * 2012-12-25 2014-12-24 林璧光 一种安装在外置闪光灯上的led照明灯

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01267444A (ja) * 1988-04-19 1989-10-25 Dainippon Printing Co Ltd パターン検出方法
JPH0695075B2 (ja) * 1990-03-16 1994-11-24 工業技術院長 表面性状検出方法
US5184021A (en) * 1991-06-24 1993-02-02 Siscan Systems, Inc. Method and apparatus for measuring the dimensions of patterned features on a lithographic photomask
JP3034390B2 (ja) * 1992-09-28 2000-04-17 日本電子株式会社 透明板の内部欠陥検査方法及びそのための試料台
JPH06174448A (ja) * 1992-12-09 1994-06-24 Seiko Epson Corp 液晶パネルの位置決め装置及びパターン検査装置
JPH0866369A (ja) * 1994-08-29 1996-03-12 San Contact Lens:Kk 角膜形状解析装置
JP2983879B2 (ja) * 1995-04-24 1999-11-29 エヌティエヌ株式会社 基板の欠陥修正方法および欠陥修正装置
JPH0961296A (ja) * 1995-06-15 1997-03-07 Ntn Corp カラーフィルタの欠陥修正方法および欠陥修正装置
JP3789163B2 (ja) * 1996-05-13 2006-06-21 Ntn株式会社 連続パターンの欠陥修正方法および欠陥修正装置
JP3944285B2 (ja) * 1997-09-24 2007-07-11 オリンパス株式会社 基板検査装置
JP4175697B2 (ja) * 1998-06-18 2008-11-05 オリンパス株式会社 ガラス基板保持具
US6469830B1 (en) * 1999-04-01 2002-10-22 Honeywell Inc. Display screen and method of manufacture therefor
JP3082549U (ja) * 2001-06-11 2001-12-14 株式会社吉田製作所 歯科用口腔内カメラの外部補助光源装置
JP2003051535A (ja) * 2001-08-07 2003-02-21 Canon Inc 基板保持装置、露光装置およびデバイス製造方法
JP2003262566A (ja) * 2002-03-07 2003-09-19 Toppan Printing Co Ltd 透明導電膜の欠陥検出方法および欠陥検出装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105892108A (zh) * 2016-04-22 2016-08-24 深圳市卓茂科技有限公司 半自动液晶屏修复机
CN109521585A (zh) * 2018-12-28 2019-03-26 深圳眼千里科技有限公司 一种激光修复机

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