JPH11160242A - 基板検査装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】小型化を実現できるとともに、被検査基板に対
し精度の高い欠陥検査を効率よく行なうことができる基
板検査装置を提供すること。 【解決手段】被検査基板３を保持する基板保持手段
（２）と、この基板保持手段（２）を所定角度まで立ち
上げる駆動手段と、前記基板保持手段（２）に、前記被
検査基板３の側縁の少なくとも２方向に沿って設けら
れ、前記被検査基板３上の欠陥部の位置座標を検出する
位置座標検出手段と（１９，２０）、ミクロ観察系
（９）を支持し、前記被検査基板３の面上を移動するよ
う設けられた観察系支持手段（６）と、前記位置座標検
出手段（１９，２０）により検出された欠陥部の位置座
標に基づいて、前記観察系支持手段（６）のミクロ観察
系（９）を前記被検査基板３上の対応する欠陥部上に位
置するよう移動制御する制御手段（１１）と、を具備。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、液晶ディ
スプレイ（ＬＣＤ）のガラス基板などの欠陥検査に用い
られる基板検査装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、ＬＣＤに用いられるガラス基板の
欠陥を検査する装置には、ガラス基板表面に照明光を当
て、その反射光の光学的変化から前記ガラス基板の表面
の傷などの欠陥部分を観察するマクロ観察と、このマク
ロ観察で検出された欠陥部分を拡大して観察するミクロ
観察とを切り替えて行なうことを可能にしたものがあ
る。

【０００３】例えば、特開平５−３２２７８３号公報に
は、Ｘ、Ｙ方向に水平移動可能にしたＸ−Ｙステージに
対応させてマクロ観察系とミクロ観察系を設け、前記Ｘ
−Ｙステージ上に被検査基板を載置した状態から、前記
Ｘ−ＹステージをＸ、Ｙ方向の２次元方向に移動して被
検査基板の検査部位をマクロ観察系またはミクロ観察系
の観察領域に位置させることで、前記被検査基板の表面
の欠陥部分に対するマクロ観察またはミクロ観察を可能
にした装置が開示されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、最近、ＬＣ
Ｄの大型化にともないガラス基板のサイズは、ますます
大型化の傾向にある。このため、このような大型サイズ
のガラス基板の欠陥検査において、上述したようなＸ−
ＹステージをＸ、Ｙ方向の２次元方向に水平移動するよ
うにした装置では、前記Ｘ−Ｙステージの移動範囲とし
てガラス基板の面積の４倍もの範囲が必要となり、ガラ
ス基板サイズの大型化とともに、装置の大型化を免れな
い。

【０００５】また、このように構成した装置では、被検
査基板の表面が検査者の目の位置から遠く離れるため、
微小な傷に対する検査が困難である。さらに、検出され
た被検査基板表面の欠陥部の位置情報などを取得するこ
とも難しいことなどから、精度の高い欠陥検査を行なう
ことができないという問題がある。本発明の目的は、小
型化を実現できるとともに、被検査基板に対し精度の高
い欠陥検査を効率よく行なうことができる基板検査装置
を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決し目的を
達成するために、本発明の基板検査装置は以下の如く構
成されている。 （１）本発明の基板検査装置は、被検査基板を保持する
基板保持手段と、この基板保持手段を所定角度まで立ち
上げる駆動手段と、前記基板保持手段に、前記被検査基
板の側縁の少なくとも２方向に沿って設けられ、前記被
検査基板上の欠陥部の位置座標を検出する位置座標検出
手段と、ミクロ観察系を支持し、前記被検査基板の面上
を移動するよう設けられた観察系支持手段と、前記位置
座標検出手段により検出された欠陥部の位置座標に基づ
いて、前記観察系支持手段のミクロ観察系を前記被検査
基板上の対応する欠陥部上に位置するよう移動制御する
制御手段と、から構成されている。

【０００７】（２）本発明の基板検査装置は上記（１）
に記載の装置であり、かつ前記位置座標検出手段は、前
記被検査基板の側縁に沿って設けられたガイドスケール
と、このガイドスケールに沿って移動可能に設けられ、
前記被検査基板上の欠陥部の位置を検出するための位置
検出部と、を備えた。

【０００８】（３）本発明の基板検査装置は上記（１）
に記載の装置であり、かつ前記観察系支持手段は、前記
ミクロ観察系を含む観察ユニットを支持し、前記基板保
持手段を跨ぐように配置されるとともに、前記被検査基
板の面上の一方向に沿って移動可能に設けられた観察ユ
ニット支持手段を備え、前記観察ユニットは、前記被検
査基板の面上において前記観察ユニット支持手段の移動
方向と直交する方向に移動可能に設けらえた。

【０００９】（４）本発明の基板検査装置は上記（１）
に記載の装置であり、かつ前記位置座標検出手段は、前
記被検査基板の側縁に沿って設けられたガイドスケール
と、光を射出する光源と、このガイドスケールに沿って
移動可能に設けられ、前記光源から射出された光を前記
被検査基板側へ反射する反射手段と、前記反射手段で反
射された光が前記欠陥部に照射されている場合、前記ガ
イドスケールにおける前記反射手段の位置を基に前記欠
陥部の位置座標を検出する検出部と、から構成されてい
る。

【００１０】（５）本発明の基板検査装置は上記（２）
に記載の装置であり、かつ前記位置検出部は、前記ガイ
ドスケールに沿って電動力にて移動可能に設けられた。 （６）本発明の基板検査装置は上記（１）に記載の装置
であり、かつ前記駆動手段は、前記基板保持手段に対し
て前後方向へ移動する移動手段と、前記基板保持手段と
前記移動手段に連結され、前記移動手段の移動に伴い前
記基板保持手段を揺動する連結手段と、から構成されて
いる。

【００１１】（７）本発明の基板検査装置は上記（６）
に記載の装置であり、かつ前記連結手段は、複数の連結
部材が連結されてなり、各前記連結部材は連結先に対し
て回動可能である。

【００１２】上記手段を講じた結果、それぞれ次のよう
な作用が生じる。 （１）本発明の基板検査装置によれば、被検査基板を保
持した基板保持手段を所定角度立ち上げることで、検査
者の目に近い位置で被検査基板面のマクロ観察を行うこ
とができるので、精度の高い欠陥検査を行うことができ
る。また、被検査基板上で検出された欠陥部の位置座標
を位置座標検出手段で検出することにより、この位置座
標に基づいてミクロ観察系を被検査基板の対応する欠陥
部上に移動制御できるので、マクロ観察に続けてミクロ
観察を速やかに行なうことができ、これらマクロ観察お
よびミクロ観察による欠陥検査を効率よく行なうことも
できる。

【００１３】（２）本発明の基板検査装置によれば、被
検査基板の側縁に沿って設けられるガイドスケールに沿
って位置検出部を移動しながら欠陥部に一致する位置を
求めるだけで欠陥部の位置座標を簡単に検出することが
できる。

【００１４】（３）本発明の基板検査装置によれば、基
板保持手段に対し、観察ユニット支持手段の被検査基板
面上の一方向に沿った移動と、観察ユニットの被検査基
板面上の前記観察ユニット支持手段の移動方向と直交す
る方向への移動とにより、前記観察ユニットを前記被検
査基板上のいずれの位置にも移動させることができるの
で、前記基板保持手段を前記被検査基板の面積とほぼ同
じ大きさに止めることができ、装置の小型化を実現でき
るとともに、装置の設置面積も大幅に小さくすることが
できる。

【００１５】（４）本発明の基板検査装置によれば、反
射手段を移動させることで、光源をガイドスケールに設
けるための電気的配線が簡略されるとともに、そのため
に必要となる空間も減らすことができ、装置の小型化を
実現できる。また、光源を一つだけ用いて構成すること
ができるため、装置を安価に構成できる。

【００１６】（５）本発明の基板検査装置によれば、検
査者が手元で所定の操作をすることにより、反射手段の
動作をコントロールすることができる。よって、特に大
型の被検査基板を検査する場合、検査者から遠く離れた
欠陥部に対しても容易に位置情報を取り出すことができ
る。

【００１７】（６）本発明の基板検査装置によれば、基
板保持手段の揺動のために連結手段を用いることによ
り、前記基板保持手段を約３０°の角度まで立ち上げ傾
斜させることができ、立ち上げた際に前記連結手段によ
り前記基板保持手段が支持されるため、前記基板保持手
段をより安定させた状態でマクロ観察を行なうことがで
きる。

【００１８】（７）本発明の基板検査装置によれば、複
数の連結部材を用いて連結手段を構成することにより、
約６０°の角度まで前記基板保持手段を揺動させ立ち上
げることができ、かつ、短い連結部材を複数用いてリン
ク機構を構成できるため、装置の省スペース化を図るこ
とができる。

【００１９】

【発明の実施の形態】（第１の実施の形態）図１〜図３
は、本発明の第１の実施の形態に係る基板検査装置の構
成を示す図であり、図１は斜視図、図２は側面図、図３
は上面図である。図１〜図３において、装置本体１上に
は、被検査基板３を保持するホルダ２が設けられてい
る。図２に示すように、ホルダ２はその基端部が支持軸
１５により装置本体１に対し回動自在に支持され、支持
軸１５の周囲にプーリ１６が設けられている。装置本体
１にはモータ１８が備えられており、モータ１８の回転
軸１８１とプーリ１６に輪状のベルト１７が掛けられて
いる。モータ１８の回転駆動力を、回転軸１８１からベ
ルト１７を介してプーリ１６に伝達することで、支持軸
１５を軸としてホルダ２を水平な状態から例えば二点鎖
線の位置まで、すなわち所定角度θまで立ち上げ傾斜さ
せることができる。

【００２０】また、ホルダ２は枠状をなしており、その
周縁部でＬＣＤに用いられるガラス基板のような大型の
被検査基板３を載置保持する。ホルダ２において、その
周縁部に囲まれた空部は四角形状をなし、前記空部の面
積は被検査基板３の面積よりやや小さい。ホルダ２に
は、その周縁部に沿ってＸ軸方向とＹ軸方向に複数の円
柱状のピンからなる基板位置決め部材２０１がホルダ２
表面からやや突出するよう配置されている。ホルダ２上
で、被検査基板３の二辺を各基板位置決め部材２０１の
側部に接触させることで被検査基板３の位置決めがなさ
れる。また、ホルダ２の周縁部全周に沿って設けられた
図示しない複数の孔（吸着パッド）から、図示しない吸
引器により被検査基板３の周縁部がホルダ２表面に吸着
されることで、被検査基板３がホルダ２上で脱落しない
よう保持される。

【００２１】さらにホルダ２には、被検査基板３側縁の
Ｙ軸方向及びＸ軸方向に沿うよう、被検査基板３におけ
る欠陥部の位置座標を検出するためのガイドスケール１
９、２０が配設されている。ガイドスケール１９にはＹ
軸方向の反射体（ミラー）２１５が、ガイドスケール２
０にはＸ軸方向の反射体（ミラー）２１６が、それぞれ
ガイドスケール１９、２０に沿って移動可能に設けられ
ている。また、ホルダ２には、ガイドスケール１９と２
０の延長線が交差する位置にビームスプリッター２１４
が固設されており、ビームスプリッター２１４に対して
ガイドスケール２０からやや離れる位置（ガイドスケー
ル２０の延長線上）に後述するレーザー光源２１が設け
られている。

【００２２】図１〜図３に示すように、装置本体１上に
はホルダ２の両側縁に沿ってＹ軸方向へ一対のガイドレ
ール４，４が平行に配置されている。また、ホルダ２の
上方には、このホルダ２を跨ぐように観察ユニット支持
部５が配置されており、この観察ユニット支持部５はガ
イドレール４，４に沿って被検査基板３上方すなわちホ
ルダ２上方をＹ軸方向へ移動可能に設けられている。

【００２３】観察ユニット支持部５には、観察ユニット
６が観察ユニット支持部５の移動方向（Ｙ軸方向）に対
して直交する方向（Ｘ軸方向）へ図示しないガイドレー
ルに沿って移動可能に支持されている。さらに観察ユニ
ット支持部５には、観察ユニット６の移動ラインに対向
するよう透過ライン照明光源７が設けられている。この
透過ライン照明光源７は、ホルダ２下方を通過する支持
部５の裏板５１上にＸ軸方向に沿って配置されており、
被検査基板３の下方から直線状の透過照明を行なうもの
で、観察ユニット支持部５とともにＹ軸方向へ移動可能
になっている。

【００２４】観察ユニット６は、指標用照明光源８を設
けたミクロ観察ユニット９とマクロ観察用の部分マクロ
照明光源１０を有している。指標用照明光源８は、被検
査基板３上の欠陥位置を特定するためのもので、光学的
に集光されたスポット光を被検査基板３表面に投光す
る。このスポット光による被検査基板３表面からの反射
光は、部分マクロ照明光源１０による被検査基板３表面
からの反射光より明るいため、部分マクロ照明光源１０
によるマクロ観察中に、スポット光により目視で観察す
ることができる。

【００２５】ミクロ観察ユニット９は、対物レンズ９
１、接眼レンズ９２、及び図示しない落射照明光源を有
する顕微鏡機能を備えており、検査者は被検査基板３表
面の像を対物レンズ９１を介して接眼レンズ９２により
観察することができる。またミクロ観察ユニット９に
は、三眼鏡筒を介してＴＶカメラ９３が取り付けられて
いる。なお、目視によるミクロ観察が不要な場合には、
直筒を介してＴＶカメラ９３のみを取り付けることもで
きる。ＴＶカメラ９３は、対物レンズ９１により得られ
る被検査基板３表面の観察像を撮像し、制御部１１へ送
る。制御部１１は、ＴＶカメラ９３で撮像された観察像
をＴＶモニタ１２に表示する。制御部１１には、検査者
が動作指示やデータ入力を行なうための入力部１１１が
接続されている。

【００２６】部分マクロ照明光源１０は、マクロ観察に
用いられるものであり、ホルダ２上の被検査基板３表面
の一部分をマクロ照明光１０１で照射する。また、被検
査基板３表面に対する部分マクロ照明光源１０の照明角
度は、マクロ観察に最適な角度に調整することができ
る。

【００２７】図４は、透過ライン照明光源７の構成例を
示す図である。図４に示すように、透過ライン照明光源
７は、光源部７１と中実のガラスロッド７２を有するも
のである。光源部７１から射出され反射板７１２により
乱反射された光がガラスロッド７２の端部に入射され、
ガラスロッド７２中で全反射伝送されるとともに、ガラ
スロッド７２の背部（下部）に沿って塗布加工された白
色縞７３により拡散されることで、ガラスロッド７２の
レンズ作用によりライン状の光が上方へ射出される。こ
の透過ライン照明は、上記の構成に限られるものではな
く、例えば蛍光灯などによるライン照明であってもよ
い。

【００２８】図５は、本基板検査装置における位置検出
部の構成を示す図である。図５において図１，図３と同
一な部分には同一符号を付してある。この位置検出部
は、レーザー光源部２１１及びシリンドリカルレンズ２
１２，２１３からなるレーザー光源２１と、レーザー光
源部２１１から発せられたレーザー光をＸ軸方向とＹ軸
方向に分割するビームスプリッター２１４、及びガイド
スケール１９，２０上にそれぞれ設けられた反射体（ミ
ラー）２１５，２１６からなっている。ビームスプリッ
ター２１４及び反射体２１５，２１６は、被検査基板３
表面に対して直角または鋭角をなすよう立設されてい
る。

【００２９】レーザー光源部２１１から発せられシリン
ドリカルレンズ２１２，２１３を透過したレーザー光
は、被検査基板３表面に対してほぼ垂直な面状のレーザ
ー光になり、Ｘ軸方向へ射出される。このレーザー光は
ビームスプリッター２１４でＸ軸方向とＹ軸方向に分割
され、一方のＸ軸方向に分割されたレーザー光は反射体
２１６で直角方向すなわちＹ軸方向へ反射され被検査基
板３表面に対してほぼ垂直な面状のレーザー光２１７に
なり、他方のＹ軸方向に分割されたレーザー光は反射体
２１５で直角方向すなわちＸ軸方向へ反射され被検査基
板３表面に対してほぼ垂直な面状のレーザー光２１８に
なる。

【００３０】検査者は、被検査基板３面上の欠陥部に対
しガイドスケール１９に沿って反射体２１５を移動して
レーザー光２１８を前記欠陥部に一致させ、同様にガイ
ドスケール２０に沿って反射体２１６を移動してレーザ
ー光２１７を欠陥部に一致させる。その後、検査者は図
示しないフットスイッチをＯＮにする。すると、このと
きのガイドスケールの１９，２０の値、すなわち反射体
２１５，２１６の原点（図３に示す、ガイドスケール１
９の最も手前側、ガイドスケール２０の最も右側）から
Ｙ軸方向、Ｘ軸方向への変位量が、ガイドスケール１
９，２０の図示しない検出部により前記欠陥部の位置座
標（Ｘ，Ｙ）として検出され、この検出結果が前記検出
部から制御部１１へ出力される。

【００３１】図６は、本基板検査装置における検査状況
を示す図である。図６に示すように、装置本体１の上方
には、ホルダ２上の被検査基板３の全面を照射する全面
マクロ照明光源３０が設置されている。この全面マクロ
照明光源３０は、点光源としてのメタルハライドランプ
３１と、このメタルハライドランプ３１に対向するよう
配置された反射ミラー３２と、反射ミラー３２の下方に
配置されたフレネルレンズ３３からなる。反射ミラー３
２は、装置本体１に対してほぼ４５°傾けて設けられて
おり、メタルハライドランプ３１からの光を反射し、フ
レネルレンズ３３に与える。フレネルレンズ３３は、反
射ミラー３２で反射された光を図示のように収束光にし
て、ホルダ２上の被検査基板３全面に照射する。なお図
１に示すように、装置本体１には、観察ユニット支持部
５のＹ軸方向の位置座標を検出するためのＹスケール１
３が設けられ、観察ユニット支持部５には、観察ユニッ
ト６のＸ軸方向の位置座標を検出するためのＸスケール
１４が設けられている。

【００３２】また、図１に示す制御部１１は、ガイドス
ケール１９、２０により検出される被検査基板３上の欠
陥部の位置座標（Ｘ、Ｙ）、Ｙスケール１３及びＸスケ
ール１４により検出される観察ユニット支持部５と観察
ユニット６の位置座標に対する管理をはじめとして、図
示しない各駆動機構による観察ユニット支持部５及び観
察ユニット６の移動の制御などを行なう。さらに制御部
１１は、指標用照明光源８の光軸と対物レンズ９１の光
軸との間隔Ｘ0 を予め自身の図示しないメモリに記憶し
ている。制御部１１は、ガイドスケール１９、２０から
与えられた被検査基板３上の欠陥部の位置座標（Ｘ、
Ｙ）にミクロ観察ユニット９における対物レンズ９１の
観察軸が合致するよう、観察ユニット支持部５及び観察
ユニット６を移動制御する。

【００３３】また制御部１１は、指標用照明光源８のス
ポット中心を被検査基板３上の欠陥部に位置させた状態
で、検査者により入力部１１１から所定の指示が与えら
れた場合、Ｙスケール１３及びＸスケール１４の図示し
ない検出部により検出された位置座標データから前記欠
陥部の位置座標を求め、この求めた位置座標と、指標用
照明光源８の光軸と対物レンズ９１の光軸との間隔Ｘ0
を示すデータに基づいて、被検査基板３上の前記欠陥部
に対物レンズ９１の観察軸が合致するよう、観察ユニッ
ト支持部５及び観察ユニット６を移動制御する。

【００３４】以上のように構成された本基板検査装置の
動作を説明する。まず、被検査基板３表面のマクロ観察
を行なう場合、検査者は入力部１１１から制御部１１に
所定の指示を与えることで、制御部１１の駆動制御によ
り観察ユニット支持部５を図１に示す初期位置に後退さ
せる。その後、検査者が水平な状態になっているホルダ
２上に被検査基板３を供給する。この状態で、複数の基
板位置決め部材２０１に被検査基板３を押し当てて位置
決めされるとともに、上記吸引器により被検査基板３が
ホルダ２上から脱落しないように吸着保持され、マクロ
観察による欠陥検査が開始される。

【００３５】次に、マクロ照明を用いて被検査基板３の
全面を一括してマクロ観察する場合について説明する。
この全面マクロ観察の場合、検査者は図２に示すモータ
１８を起動して、回転軸１８１及びベルト１７を介して
プーリ１６により支持軸１５を回転させ、この支持軸１
５を中心にホルダ２を所定の角度θ、好ましくは３０〜
４５°に傾斜させた後、モータ１８を停止してホルダ２
を静止させる。次いで、検査者は図６に示すメタルハラ
イドランプ３１を点灯させ、メタルハライドランプ３１
からの光を反射ミラー３２及びフレネルレンズ３３を介
して、収束光としてホルダ２上の被検査基板３全面に照
射させる。この状態で、検査者はホルダ２上の被検査基
板３を目視により被検査基板３上の傷や汚れなどの欠陥
検査を行なう。なお、ホルダ２を所定の角度に傾斜させ
静止させた状態で欠陥検査を行なうだけでなく、モータ
ー１８の回転方向を周期的に変えるよう制御部１１によ
り制御することで、支持軸１５を中心にホルダ２を所定
範囲の角度内で揺動させながら欠陥検査を行なうことも
できる。この場合、メタルハライドランプ３１からの照
射光の被検査基板３への入射角が可変になるため、被検
査基板３を様々な角度から入射する照射光にて観察する
ことができる。

【００３６】図７は、欠陥部を有する被検査基板３が載
置されたホルダ２を示す図である。検査者は、前述した
ようなマクロ観察において、例えば図７に示すように被
検査基板３上で欠陥部ａを認識すると、この欠陥部ａに
対し、まずガイドスケール１９に沿って反射体２１５を
移動してレーザ光２１８を欠陥部ａに一致させ、続けて
ガイドスケール２０に沿って反射体２１６を移動してレ
ーザ光２１７を欠陥部ａに一致させる。このとき、ガイ
ドスケール１９、２０の上記検出部により、反射体２１
５，２１６が位置するガイドスケール１９、２０の値が
読取られることで、欠陥部ａの位置座標（Ｘ、Ｙ）が検
出される。この検出結果が上記検出部から制御部１１に
入力され、欠陥部ａの位置座標（Ｘ、Ｙ）を示すデータ
が制御部１１内の上記メモリに記憶される。以降、検査
者が被検査基板３上で欠陥部を認識する度に同様の動作
を繰り返すことで、各欠陥部の各位置座標（Ｘ、Ｙ）を
示すデータが制御部１１に取り込まれ記憶される。検査
者は、以上のようなマクロ観察を被検査基板３全面につ
いて終了すると、再びモータ１８を起動して、回転軸１
８１及びベルト１７を介してプーリ１６により支持軸１
５を上述と反対の方向に回転させ、ホルダ２を最初の水
平な状態に戻す。

【００３７】続いて、前述したマクロ観察により検出し
た各欠陥部について、ミクロ観察ユニット９によりミク
ロ観察を行なう場合について説明する。まず制御部１１
により、上記メモリに記憶された欠陥部の位置座標
（Ｘ、Ｙ）が読み出され、続いて、この位置座標（Ｘ、
Ｙ）にミクロ観察ユニット９における対物レンズ９１の
観察軸が合致するよう、観察ユニット支持部５及び観察
ユニット６がガイドレール４，４及びＸ上記図示しない
ガイドレールに沿って移動制御される。

【００３８】これにより、検査者はミクロ観察ユニット
９の接眼レンズ９２を覗くことで、対物レンズ９１を介
して得られる被検査基板３上の欠陥部を顕微鏡によるミ
クロ観察することができる。また、ＴＶカメラ９３に対
物レンズ９１より得られる被検査基板３表面の欠陥部が
撮像され、その像がＴＶモニタ１２に表示され、検査者
がその像を見ることでミクロ観察が行なわれる。

【００３９】次に、部分マクロ照明光源１０を用いてマ
クロ観察を行ない、続けてミクロ観察ユニット９による
ミクロ観察を行なう場合について説明する。この場合
も、上述したように検査者はホルダ２上に被検査基板３
を位置決めするとともに、吸着保持する。この状態か
ら、検査者は観察ユニット６の部分マクロ照明光源１０
を点灯し、ホルダ２上の被検査基板３表面に部分的なマ
クロ照明光１０１を照射する。

【００４０】続いて検査者は、図示しない操作部（ジョ
イスティック）を操作することにより、図３に示すよう
に観察ユニット６を観察ユニット支持部５の上記ガイド
レールに沿ってＸ軸方向に直線移動させ、さらに観察ユ
ニット支持部５をガイドレール４，４に沿ってＹ軸方向
に直線移動させる。このとき、マクロ照明光１０１によ
る被検査基板３上でのラスタスキャンがなされながら、
検査者により被検査基板３全面について目視による傷や
汚れなどの欠陥検査が行なわれる。この場合、被検査基
板３上へのマクロ照明光１０１の照射角度は、最適な部
分マクロ観察を行なうことができる角度に調整されてい
る。

【００４１】こうした部分マクロ照明光源１０を用いた
部分マクロ観察において、検査者は被検査基板３上のマ
クロ照明光１０１中で欠陥部を認識した場合、上記操作
部を操作することで観察ユニット６をＸ、Ｙ軸方向に移
動させ、被検査基板３上の前記欠陥部に指標用照明光源
８のスポット光を位置させる。

【００４２】制御部１１では、Ｙスケール１３及びＸス
ケール１４で検出された位置座標データに基づいて被検
査基板３上の欠陥部の位置座標が求められ、続いて、こ
の位置座標データと、予め記憶されている指標用照明光
源８の光軸と対物レンズ９１の光軸との間隔Ｘ0 を示す
データを用いて、観察ユニット支持部５及び観察ユニッ
ト６の移動制御がなされ、指定された被検査基板３上の
欠陥部に対物レンズ９１の光軸が合致する。

【００４３】これにより、対物レンズ９１の視野中心に
指定した欠陥部が持ち込まれるため、検査者は対物レン
ズ９１を介して前記欠陥部のミクロ観察を行なえる。同
時に、ＴＶカメラ９３に対物レンズ９１より得られる被
検査基板３表面の欠陥部が撮像されるため、検査者はＴ
Ｖモニタ１２上でミクロ観察を行なえる。この場合検査
者は、欠陥や被検査基板の種類に応じて落射照明と透過
照明を切換えてミクロ観察を行なうことができる。

【００４４】その後、再び検査者により入力部１１１か
ら制御部１１にマクロ観察が指示されると、被検査基板
３上の欠陥部がマクロ照明光１０１の照射範囲に戻さ
れ、検査者はマクロ観察による欠陥確認を行なえる。続
けて他の欠陥部を観察する場合には、上述した操作を繰
り返すことになる。欠陥検査が終了したならば、観察者
は再び入力部１１１から制御部１１に所定の指示を与え
て観察ユニット支持部５を初期位置に復帰させ、ホルダ
２から検査済みの被検査基板３を取り除き、新たな被検
査基板３をホルダ２上に載置保持する。

【００４５】なお上記では、部分マクロ照明光源１０に
よりホルダ２上の被検査基板３表面を部分照明しながら
マクロ観察を行ない、被検査基板３上に欠陥を認識する
と、ミクロ観察に移行するような場合を述べた。ここ
で、部分マクロ照明光源１０によるマクロ観察のみを行
なう場合、検査者は観察ユニット支持部５を初期位置に
後退させ、ホルダ２上に被検査基板３を載置保持した状
態から、部分マクロ照明光源１０を点灯して、ホルダ２
上の被検査基板３表面に部分的なマクロ照明光１０１を
照射する。この状態から、検査者が上記操作部により観
察ユニット６を観察ユニット支持部５の上記ガイドレー
ルに沿ってＸ軸方向に直線移動させ、さらに観察ユニッ
ト支持部５をガイドレール４，４に沿ってＹ軸方向に直
線移動させながら、マクロ照明光１０１により被検査基
板３上でのラスタスキャンがなされることで、被検査基
板３全面について検査者の目視による欠陥検査が行なわ
れるようになる。この場合、マクロ照明光１０１中にお
ける各欠陥部に指標用照明光源８のスポット光を合わせ
ることで、Ｘスケール１４とＹスケール１３の図示しな
い各検出部により各欠陥部の位置座標を検出し、制御部
１１の上記メモリに記憶することができる。

【００４６】また、制御部１１の上記メモリに記憶され
た欠陥部についてミクロ観察ユニット９によるミクロ観
察を行なう場合は、検査者は観察ユニット支持部５を初
期位置に後退させ、ホルダ２上に被検査基板３を載置保
持した状態から、透過ライン照明光源７を点灯させ、ホ
ルダ２の下方からＸ軸方向にライン状の透過照明を照射
させる。この状態から制御部１１の駆動制御によりミク
ロ観察ユニット９を観察ユニット支持部５の上記ガイド
レールに沿ってＸ軸方向に直線移動させることで対物レ
ンズ９１を透過ライン照明光源７に沿ってＸ軸方向に直
線移動させ、さらに観察ユニット支持部５をガイドレー
ル４，４に沿ってＹ軸方向に直線移動させることで、被
検査基板３の所定の範囲について対物レンズ９１を介し
て顕微鏡によるミクロ観察を行なうことができる。これ
と同時に、ＴＶカメラ９３により被検査基板３表面が撮
像され、その像がＴＶモニタ１２に表示される。この場
合も、被検査基板３や欠陥の種類に応じて、透過照明か
ら落射照明に切換えることができる。

【００４７】本基板検査装置によれば、被検査基板３を
保持したホルダ２を支持軸１５を中心に回動させて所定
角度立ち上げることで、検査者は目に近い位置で被検査
基板３のマクロ検査を行なうことができるので、楽な姿
勢で欠陥検査を行なうことができる。また、被検査基板
３の欠陥位置を検出するための一つのレーザー光源２
１、ビームスプリッター２１４、反射体２１５，２１
６、及びガイドスケール１９、２０を、上下方向に回動
可能なホルダ２に一体に設けることで、ホルダ２の傾斜
角度にかかわらず、常に同一平面で被検査基板３の欠陥
部の座標位置を検出できる。よって、座標位置を高い精
度で検出できるとともに、傾斜角度に応じて座標位置デ
ータを補正する複雑な処理が不要になる。また、被検査
基板３の側縁に沿って設けられるガイドスケール１９、
２０に沿って反射体２１５，２１６を手動で移動しなが
ら欠陥部に一致する位置を求めるだけで、欠陥部の位置
座標（Ｘ、Ｙ）を検出できるので、欠陥部にかかる位置
情報を簡単に取り出すことができる。

【００４８】さらにホルダ２に対し、被検査基板３面上
における観察ユニット支持部５の一方向に沿った移動
と、観察ユニット支持部５の移動方向と直交する方向へ
の観察ユニット６の移動により、観察ユニット６を被検
査基板３上のいずれの位置にも移動させることができ
る。よって、ホルダ２の面積を被検査基板３の面積とほ
ぼ同じ大きさに止めることができ、基板検査装置の小型
化を実現できるとともに、基板検査装置の設置面積も大
幅に小さくすることができる。

【００４９】（第２の実施の形態）図８は、本発明の第
２の実施の形態に係る基板検査装置における位置検出部
の構成を示す図である。図８において図７と同一な部分
には同一符号を付してある。この位置検出部は、上記第
１の実施の形態に示した基板検査装置に適用される。こ
の位置検出部は、二つの光源２１，２２と反射体（ミラ
ー）２１５，２１６からなる。光源２１，２２は、各々
図５に示したレーザー光源部２１１及びシリンドリカル
レンズ２１２，２１３からなる。

【００５０】ホルダ２には、図８に示すように、被検査
基板３側縁のＹ軸方向及びＸ軸方向に沿うよう、被検査
基板３における欠陥部の位置座標を検出するためのガイ
ドスケール１９、２０が配設されている。ガイドスケー
ル１９にはＹ軸方向の反射体（ミラー）２１５が、ガイ
ドスケール２０にはＸ軸方向の反射体（ミラー）２１６
が、それぞれガイドスケール１９、２０に沿って移動可
能に設けれられている。反射体２１５，２１６は、被検
査基板３表面に対して直角または鋭角をなすよう立設さ
れている。またホルダ２には、ガイドスケール２０から
やや右側へ離れる位置（ガイドスケール２０の延長線
上）にレーザー光源２１が設けられているとともに、ガ
イドスケール１９からやや手前側へ離れる位置（ガイド
スケール１９の延長線上）にレーザー光源２２が設けら
れている。

【００５１】光源２１のレーザー光源部２１１から発せ
られシリンドリカルレンズ２１２，２１３を透過したレ
ーザー光は、被検査基板３表面に対してほぼ垂直な面状
のレーザー光になり、Ｘ軸方向へ射出される。このレー
ザー光は反射体２１６で直角方向すなわちＹ軸方向へ反
射され被検査基板３表面に対してほぼ垂直な面状のレー
ザー光２１７になる。また、光源２２のレーザー光源部
２１１から発せられシリンドリカルレンズ２１２，２１
３を透過したレーザー光は、被検査基板３表面に対して
ほぼ垂直な面状のレーザー光になり、Ｙ軸方向へ射出さ
れる。このレーザー光は反射体２１５で直角方向すなわ
ちＸ軸方向へ反射され被検査基板３表面に対してほぼ垂
直な面状のレーザー光２１８になる。

【００５２】上記第１の実施の形態と同様に、検査者
は、被検査基板３面上の欠陥部ａに対しガイドスケール
１９に沿って反射体２１５を移動してレーザー光２１８
を欠陥部ａに一致させ、同様にガイドスケール２０に沿
って反射体２１６を移動してレーザー光２１７を欠陥部
ａに一致させる。その後、検査者は上記フットスイッチ
をＯＮにする。すると、このときのガイドスケールの１
９，２０の値、すなわち反射体２１５，２１６の原点
（図３に示す、ガイドスケール１９の最も手前側、ガイ
ドスケール２０の最も右側）からＹ軸方向、Ｘ軸方向へ
の変位量が、ガイドスケール１９，２０図示しない検出
部により前記欠陥部ａの位置座標（Ｘ，Ｙ）として検出
され、この検出結果が前記検出部から制御部１１へ出力
される。

【００５３】本第２の実施の形態の基板検査装置によれ
ば、上記第１の実施の形態と同様に、検査者が反射体２
１５，２１６を手動で移動することで、欠陥部にかかる
位置情報を簡単に取り出すことができる。

【００５４】（第３の実施の形態）図９は、本発明の第
３の実施の形態に係る基板検査装置における位置検出部
の構成を示す図である。図９において図７と同一な部分
には同一符号を付してある。この位置検出部は、上記第
１の実施の形態に示した基板検査装置に適用される。

【００５５】図９において、ホルダ２のＹ軸方向の一側
面とＸ軸方向の一側面には、それぞれ保持部材３０１，
３０２が取り付けられている。保持部材３０１，３０２
の表面はホルダ２の表面に対して段差を生じるよう下方
に位置している。保持部材３０１，３０２には、それぞ
れホルダ２側縁のＹ軸方向とＸ軸方向に沿うようガイド
レール３０３，３０４が設けられている。さらにガイド
移動部３０５，３０６が、それぞれガイドレール３０
３，３０４を跨ぐよう、ガイドレール３０３、３０４に
沿って移動可能に設けられている。

【００５６】保持部材３０１と保持部材３０２の各両端
部には、それぞれプーリ３０７，３０８とプーリ３０
９，３１０が軸支されている。プーリ３０７とプーリ３
０８にはベルト３１１が、プーリ３０９とプーリ３１０
にはベルト３１２が、輪状に掛けられている。ベルト３
１１の一部にはガイド移動部３０５が係着されており、
ベルト３１２の一部にはガイド移動部３０６が係着され
ている。プーリー３０７，３１０には、それぞれモータ
ー３１３，３１４の回転軸３１５，３１６が嵌挿されて
いる。ホルダ２のＹ軸方向の一側面とＸ軸方向の一側面
には、それぞれガイド移動部３０５，３０６の存在を検
知するための光学的なセンサ３１７，３１８と３１９，
３２０が設けられている。

【００５７】ガイド移動部３０５にはＹ軸方向の反射体
（ミラー）２１５が、ガイド移動部３０６にはＸ軸方向
の反射体（ミラー）２１６が、被検査基板３表面に対し
て直角または鋭角をなすよう立設されている。また保持
部材３０１と３０２の交差する位置にはホルダ２とほぼ
同じ高さを有する保持部材３２１が設けられいる。保持
部材３２１上では、ガイドレール３０３と３０４の延長
線が交差する位置に、ビームスプリッター２１４が被検
査基板３表面に対して直角または鋭角をなすよう立設さ
れている。また保持部材３２１上には、ビームスプリッ
ター２１４からやや右側へ離れる位置（ガイドレール３
０４の延長線上）にレーザー光源２１が設けられてい
る。レーザー光源２１は、図５に示したレーザー光源部
２１１及びシリンドリカルレンズ２１２，２１３からな
る。

【００５８】光源２１のレーザー光源部２１１から発せ
られシリンドリカルレンズ２１２，２１３を透過したレ
ーザー光は、被検査基板３表面に対してほぼ垂直な面状
のレーザー光になり、Ｘ軸方向へ射出される。このレー
ザー光はビームスプリッター２１４でＸ軸方向とＹ軸方
向に分割され、一方のＸ軸方向に分割されたレーザー光
は反射体２１６で直角方向すなわちＹ軸方向へ反射され
被検査基板３表面に対してほぼ垂直な面状のレーザー光
２１７になり、他方のＹ軸方向に分割されたレーザー光
は反射体２１５で直角方向すなわちＸ軸方向へ反射され
被検査基板３表面に対してほぼ垂直な面状のレーザー光
２１８になる。

【００５９】検査者は、上記操作部（ジョイスティッ
ク）を操作しモーター３１３を駆動して回転軸３１５を
一方向へ回転させることで、プーリー３０７，３０８を
介してベルト３１１をＹ軸の一方向へ作動させ、あるい
は上記操作部を操作しモーター３１３を駆動して回転軸
３１５を他方向へ回転させることで、プーリー３０７，
３０８を介してベルト３１１をＹ軸の他方向へ作動させ
る。これにより、被検査基板３面上の欠陥部ａに対しガ
イドレール３０３に沿ってガイド移動部３０５上の反射
体２１５を移動してレーザー光２１８を欠陥部ａに一致
させる。

【００６０】さらに検査者は、上記操作部を操作しモー
ター３１４を駆動して回転軸３１６を一方向へ回転させ
ることで、プーリー３１０，３０９を介してベルト３１
２をＸ軸の一方向へ作動させ、あるいは上記操作部を操
作しモーター３１６を駆動して回転軸３１６を他方向へ
回転させることで、プーリー３１０，３０９を介してベ
ルト３１２をＸ軸の他方向へ作動させる。これにより、
被検査基板３面上の欠陥部ａに対しガイドレール３０４
に沿ってガイド移動部３０６上の反射体２１６を移動し
てレーザー光２１７を欠陥部ａに一致させる。

【００６１】その後、検査者は上記フットスイッチをＯ
Ｎにする。すると、このときのガイドレール３０３，３
０４に設けられた図示しない各ガイドスケールの値、す
なわち反射体２１５，２１６の原点（センサー３１８，
３１９の位置）からＹ軸方向，Ｘ軸方向への変位量が、
上記各ガイドスケールの図示しない各検出部により前記
欠陥部ａの位置座標（Ｘ，Ｙ）として検出され、この検
出結果が前記各検出部から制御部１１へ出力される。

【００６２】なお、センサ３１７または３１８にてガイ
ド移動部３０５の存在が検知された場合、制御部１１に
よりモータ３１３の駆動が自動的に停止される。すなわ
ちガイド移動部３０５は、センサ３１７，３１８間に対
応するガイドレール３０３上の区間のみを往復移動でき
る。同様に、センサ３１９または３２０にてガイド移動
部３０６の存在が検知された場合、制御部１１によりモ
ータ３１４の駆動が自動的に停止される。すなわちガイ
ド移動部３０６は、センサ３１９，３２０間に対応する
ガイドレール３０４上の区間のみを往復移動できる。

【００６３】本第３の実施の形態の基板検査装置によれ
ば、一つのレーザー光源２１を用い、反射体２１５，２
１６の設けられたガイド移動部３０５，３０６を電気的
に駆動させることにより、検査者が上記操作部を操作す
ることにより手元で反射体２１５，２１６の動作をコン
トロールすることができる。よって、特に大型の被検査
基板を検査する場合、検査者から遠く離れた欠陥部に対
しても容易に位置情報を取り出すことができる。なお、
ガイド移動部３０５，３０６を駆動させるために、ガイ
ド付きボールネジやリニアモータを用いることもでき
る。

【００６４】なお本基板検査装置において、上記第２の
実施の形態と同様に、ホルダ２上にビームスプリッター
を設けず光源部を二つ設け、各光源部からそれぞれ反射
体２１５，２１６へ光を照射するよう構成することもで
きる。

【００６５】（第４の実施の形態）図１０は、本発明の
第４の実施の形態に係る基板検査装置における位置検出
部の構成を示す図である。図１０において図７と同一な
部分には同一符号を付してある。この位置検出部は、上
記第１の実施の形態に示した基板検査装置に適用され
る。この位置検出部は、二つのレーザー光源４０１，４
０２からなる。レーザー光源４０１，４０２は、各々図
５に示したレーザー光源部２１１及びシリンドリカルレ
ンズ２１２，２１３からなる。

【００６６】ホルダ２には、図１０に示すように、被検
査基板３側縁のＹ軸方向及びＸ軸方向に沿うよう、被検
査基板３における欠陥部の位置座標を検出するためのガ
イドスケール１９、２０が配設されている。ガイドスケ
ール１９にはレーザー光源４０１が、ガイドスケール２
０にはレーザー光源４０２が、それぞれガイドスケール
１９、２０に沿って移動可能に設けれられている。

【００６７】レーザー光源４０１のレーザー光源部２１
１から発せられシリンドリカルレンズ２１２，２１３を
透過したレーザー光は、被検査基板３表面に対してほぼ
垂直な面状のレーザー光４０３になり、Ｘ軸方向へ射出
される。また、レーザー光源４０２のレーザー光源部２
１１から発せられシリンドリカルレンズ２１２，２１３
を透過したレーザー光は、被検査基板３表面に対してほ
ぼ垂直な面状のレーザー光４０４になり、Ｙ軸方向へ射
出される。

【００６８】上記第１の実施の形態と同様に、検査者
は、被検査基板３面上の欠陥部ａに対しガイドスケール
１９に沿ってレーザー光源４０１を移動してレーザー光
４０３を欠陥部ａに一致させ、同様にガイドスケール２
０に沿ってレーザー光源４０２を移動してレーザー光４
０４を欠陥部ａに一致させる。その後、検査者は上記フ
ットスイッチをＯＮにする。すると、このときのガイド
スケールの１９，２０の値、すなわちレーザー光源４０
１，４０２の原点（図１０に示す、ガイドスケール１９
の最も手前側、ガイドスケール２０の最も右側）からＹ
軸方向、Ｘ軸方向への変位量が、ガイドスケール１９，
２０図示しない検出部により前記欠陥部ａの位置座標
（Ｘ，Ｙ）として検出され、この検出結果が前記検出部
から制御部１１へ出力される。

【００６９】本第４の実施の形態の基板検査装置によれ
ば、上記第１，２の実施の形態による構成に比べ、ビー
ムスプリッターや反射体を用いず，二つのレーザー光源
４０１，４０２がガイドスケール１９，２０に設けられ
ており、検査者がレーザー光源４０１，４０２を手動で
移動することで、欠陥部にかかる位置情報を簡単に取り
出すことができる。なお本基板検査装置において、上記
第３の実施の形態と同様に、レーザー光源４０１，４０
２をガイド移動部３０５，３０６に設置し、ガイドスケ
ール１９，２０に沿って電動で移動するよう構成するこ
ともできる。

【００７０】（第５の実施の形態）図１１及び図１２
は、本発明の第５の実施の形態に係る基板検査装置の構
成を示す図であり、図１１は斜視図、図１２は側面図で
ある。図１１，１２において図１，図２と同一な部分に
は同一符号を付し、その詳細な説明を省略する。図１，
図２に示す基板検査装置では、モータ１８の回転駆動力
を、回転軸１８１からベルト１７を介してプーリ１６に
伝達することで、支持軸１５を軸としてホルダ２を水平
な状態から所定角度まで立ち上げ傾斜させた。本第５の
実施の形態による基板検査装置では、リンク機構により
ホルダ２を揺動させ、所定角度まで立ち上げ傾斜させ
る。

【００７１】図１１に示すように装置本体１上には、水
平状態にあるホルダ２の側辺に沿って細長い孔５０１が
設けられており、孔５０１には連結部材５０２が挿通さ
れている。ホルダ２側面には、被検査基板３の載置され
る面に対して直交するようフック５０３が設けられてい
る。フック５０３には、回転軸５０４を介して連結部材
５０２の一端が回動自在に連結されている。連結部材５
０２の他端は装置本体１の下方にて、図１２に示すよう
に回転軸５０５を介して移動片５０６に回動自在に連結
されている。

【００７２】また図１２に示すように、装置本体１の下
方では、保持部材５０７，５０８の各端部に、それぞれ
プーリ５０９，５１０が軸支されている。プーリ５０
９，５１０にはベルト５１１が、輪状に掛けられてい
る。ベルト５１１の一部には移動片５０６が係着されて
いる。プーリー５０９には、図示しないモータの回転軸
５１２が嵌挿されている。

【００７３】検査者は図示しないホルダ操作部を操作
し、上記モーターを駆動して回転軸５１２を左回り方向
へ回転させることで、プーリー５０９，５１０を介して
ベルト５１１をＹ軸の一方向へ作動させ、あるいは上記
モーターを駆動して回転軸５１２を右回り方向へ回転さ
せることで、プーリー５０９，５１０を介してベルト５
１１をＹ軸の＋方向へ作動させる。これにより、ベルト
５１１に係着した移動片５０６が−Ｙ，＋Ｙ方向（ホル
ダ２に対して前方、後方）に移動する。

【００７４】図１２に示すようにホルダ２が水平な状態
で、移動片５０６が−Ｙ方向に移動すると、移動片５０
６に連結されている連結部材５０２の他端が回転軸５０
５により右回りに回動するため、連結部材５０２が傾い
た状態から徐々に起立する。これにしたがい、連結部材
５０２の一端が回転軸５０４の周りを回動しながらフッ
ク５０３を介してホルダ２を押し上げるため、ホルダ２
が水平な状態から支持軸１５を中心として二点鎖線の位
置まで、すなわち約３０°の角度まで回動し、立ち上げ
られ傾斜される。このようにホルダ２を傾斜させた後、
検査者は上記モータを停止してホルダ２を静止させ、マ
クロ観察を行なう。

【００７５】検査者は、マクロ観察を被検査基板３全面
について終了すると、再び上記ホルダ操作部を操作し、
上記モーターを駆動して回転軸５１２を右回り方向へ回
転させることで、プーリー５０９，５１０及びベルト５
１１を介して移動片５０６を＋Ｙ方向に移動させる。移
動片５０６が＋Ｙ方向に移動すると、移動片５０６に連
結されている連結部材５０２の他端が回転軸５０５によ
り左回りに回動するため、連結部材５０２が起立した状
態から徐々に傾く。これにしたがい、連結部材５０２の
一端が回転軸５０４の周りを回動しながらフック５０３
を介してホルダ２を引き下げるため、やがてホルダ２が
最初の水平な状態に戻る。この状態で、検査者はミクロ
観察を行なう。なお、移動片５０６をベルトにより移動
する代わりに、周知のボールネジやリニアモータにより
前後に移動するよう構成してもよい。

【００７６】以上のようにホルダ２の揺動のためにリン
ク機構を用いることにより、ホルダ２を約３０°の角度
まで立ち上げ傾斜させることができ、立ち上げた際に連
結部材５０２によりホルダ２が支持されるため、ホルダ
２をより安定させた状態でマクロ観察を行なうことがで
きる。

【００７７】（第６の実施の形態）図１３は、本発明の
第６の実施の形態に係る基板検査装置の構成を示す側面
図である。図１３において図１２と同一な部分には同一
符号を付し、その詳細な説明を省略する。上記第５の実
施の形態では連結部材を一つ用いてリンク機構を構成し
たが、本第６の実施の形態では二つの連結部材を用いて
リンク機構を構成する。

【００７８】図１３に示すように、第１連結部材６０１
の基端は回転軸６０２により装置本体１に回動自在に軸
支され、第１連結部材６０１の自由端にはホルダ２の裏
面を転動するローラ６００が回転自在に軸支されてい
る。第１連結部材６０１の自由端付近には、回転軸６０
３を介して第２連結部材６０４の一端が回動自在に連結
されている。第２連結部材６０４の他端は装置本体１の
下方にて、回転軸６０５を介して移動片５０６に回動自
在に連結されている。

【００７９】図１３に示すようにホルダ２が水平な状態
で、移動片５０６が−Ｙ方向に移動すると、移動片５０
６に連結されている第２連結部材６０４の他端が回転軸
６０５により右回りに回動するため、第２連結部材６０
４が傾いた状態から徐々に起立する。これにしたがい、
第２連結部材６０４の一端が回転軸６０３の周りを回動
しながら第１連結部材６０１を押し上げる。これに伴
い、第１連結部材６０１のローラ６００がホルダ２の裏
面を転動しホルダ２を押し上げるため、ホルダ２が水平
な状態から支持軸１５を中心として二点鎖線の位置ま
で、すなわち約６０°の角度まで立ち上げられ傾斜され
る。このようにホルダ２を傾斜させた後、検査者は上記
モーターを停止してホルダ２を静止させ、マクロ観察を
行なう。

【００８０】この状態から移動片５０６が＋Ｙ方向に移
動すると、移動片５０６に連結されている第２連結部材
６０４の他端が回転軸６０５により左回りに回動するた
め、第２連結部材６０４が起立した状態から徐々に傾
く。これにしたがい、第２連結部材６０４の一端が回転
軸６０３の周りを回動しながら第１連結部材６０１を引
き下げる。これに伴い、第１連結部材６０１のローラ６
００に追従してホルダ２が引き下げられるため、やがて
ホルダ２が最初の水平な状態に戻る。この状態で、検査
者はミクロ観察を行なう。

【００８１】以上のようにホルダ２の揺動のために二つ
の連結部材を用いてリンク機構を構成することにより、
ホルダ２を約６０°の角度まで立ち上げ傾斜させること
ができる。上記第５の実施の形態において一つの連結部
材で６０°程度の角度までホルダ２を立ち上げようとす
ると、非常に長い連結部材が必要になり、装置を構成す
るために広いスペースが必要になる。しかし本第６の実
施の形態では、二つの連結部材を用いて二重のリンク機
構を構成することにより、約６０°の角度までホルダ２
を揺動させ立ち上げることができ、かつ、短い連結部材
を二つ用いてリンク機構を構成できるため、装置の省ス
ペース化を図れる。

【００８２】なお、上記第５，第６の実施の形態に示し
たリンク機構は、上記第１〜第４の実施の形態に示した
基板検査装置に適用できる。本発明は上記各実施の形態
のみに限定されず、要旨を変更しない範囲で適宜変形し
て実施できる。

【００８３】

【発明の効果】本発明によれば、小型化を実現できると
ともに、被検査基板に対し精度の高い欠陥検査を効率よ
く行なうことができる基板検査装置を提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態に係る基板検査装置の構成
を示す斜視図。

【図２】本発明の実施の形態に係る基板検査装置の構成
を示す側面図。

【図３】本発明の実施の形態に係る基板検査装置の構成
を示す上面図。

【図４】本発明の実施の形態に係る透過ライン照明の構
成例を示す図。

【図５】本発明の実施の形態に係る位置検出部の構成を
示す図。

【図６】本発明の実施の形態に係る基板検査装置におけ
る検査状況を示す図。

【図７】本発明の実施の形態に係るホルダを示す図。

【図８】本発明の実施の形態に係る位置検出部の構成を
示す図。

【図９】本発明の実施の形態に係る位置検出部の構成を
示す図。

【図１０】本発明の実施の形態に係る位置検出部の構成
を示す図。

【図１１】本発明の実施の形態に係る基板検査装置の構
成を示す斜視図。

【図１２】本発明の実施の形態に係る基板検査装置の構
成を示す側面図。

【図１３】本発明の実施の形態に係る基板検査装置の構
成を示す側面図。

【符号の説明】

１…装置本体 ２…ホルダ ３…被検査基板 ４…ガイドレール ５…観察ユニット支持部 ５１…裏板 ６…観察ユニット ７…透過ライン照明光源 ７１…光源部 ７２…ガラスロッド ７３…白色縞 ８…指標用照明光源 ９…ミクロ観察ユニット ９１…対物レンズ ９２…接眼レンズ ９３…ＴＶカメラ １０…部分マクロ照明光源 １０１…マクロ照明光 １１…制御部 １１１…入力部 １２…ＴＶモニタ １３…Ｙスケール １４…Ｘスケール １５…支持軸 １６…プーリ １７…ベルト １８…モータ １８１…回転軸 １９、２０…ガイドスケール ２１，２２…レーザー光源 ２０１…基板位置決め部材 ２１１…レーザ光源部 ２１２，２１３…シリンドリカルレンズ ２１４…ビームスプリッター ２１５，２１６…反射体（ミラー） ２１７，２１８…レーザー光 ３０…全面マクロ照明光源 ３１…メタルハライドランプ ３２…反射ミラー ３３…フレネルレンズ ３０１，３０２…保持部材 ３０３，３０４…ガイドレール ３０５，３０６…ガイド移動部 ３０７〜３１０…プーリ ３１１，３１２…ベルト ３１３，３１４…モーター ３１５，３１６…回転軸 ３１７〜３２０…センサ ４０１，４０２…レーザー光源 ４０３，４０４…レーザー光 ５０１…孔 ５０２…連結部材 ５０３…フック ５０４，５０５…回転軸 ５０６…移動片 ５０７，５０８…保持部材 ５０９，５１０…プーリ ５１１…ベルト ６００…ローラ ６０１…第１連結部材 ６０２，６０３，６０５…回転軸 ６０４…第２連結部材

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 藤崎 暢夫 東京都渋谷区幡ヶ谷２丁目43番２号 オリ ンパス光学工業株式会社内

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】被検査基板を保持する基板保持手段と、 この基板保持手段を所定角度まで立ち上げる駆動手段
   と、 前記基板保持手段に、前記被検査基板の側縁の少なくと
   も２方向に沿って設けられ、前記被検査基板上の欠陥部
   の位置座標を検出する位置座標検出手段と、 ミクロ観察系を支持し、前記被検査基板の面上を移動す
   るよう設けられた観察系支持手段と、 前記位置座標検出手段により検出された欠陥部の位置座
   標に基づいて、前記観察系支持手段のミクロ観察系を前
   記被検査基板上の対応する欠陥部上に位置するよう移動
   制御する制御手段と、 を具備したことを特徴とする基板検査装置。
2. 【請求項２】前記位置座標検出手段は、 前記被検査基板の側縁に沿って設けられたガイドスケー
   ルと、 このガイドスケールに沿って移動可能に設けられ、前記
   被検査基板上の欠陥部の位置を検出するための位置検出
   部と、 を備えたことを特徴とする請求項１に記載の基板検査装
   置。
3. 【請求項３】前記観察系支持手段は、 前記ミクロ観察系を含む観察ユニットを支持し、前記基
   板保持手段を跨ぐように配置されるとともに、前記被検
   査基板の面上の一方向に沿って移動可能に設けられた観
   察ユニット支持手段を備え、 前記観察ユニットは、前記被検査基板の面上において前
   記観察ユニット支持手段の移動方向と直交する方向に移
   動可能に設けられた請求項１に記載の基板検査装置。
4. 【請求項４】前記位置座標検出手段は、 前記被検査基板の側縁に沿って設けられたガイドスケー
   ルと、 光を射出する光源と、 このガイドスケールに沿って移動可能に設けられ、前記
   光源から射出された光を前記被検査基板側へ反射する反
   射手段と、 前記反射手段で反射された光が前記欠陥部に照射されて
   いる場合、前記ガイドスケールにおける前記反射手段の
   位置を基に前記欠陥部の位置座標を検出する検出部と、 を具備したことを特徴とする請求項１に記載の基板検査
   装置。
5. 【請求項５】前記位置検出部は、前記ガイドスケールに
   沿って電動力にて移動可能に設けられたことを特徴とす
   る請求項２に記載の基板検査装置。
6. 【請求項６】前記駆動手段は、 前記基板保持手段に対して前後方向へ移動する移動手段
   と、 前記基板保持手段と前記移動手段に連結され、前記移動
   手段の移動に伴い前記基板保持手段を揺動する連結手段
   と、 を具備したことを特徴とする請求項１に記載の基板検査
   装置。
7. 【請求項７】前記連結手段は、複数の連結部材が連結さ
   れてなり、各前記連結部材は連結先に対して回動可能で
   あることを特徴とする請求項６に記載の基板検査装置。